耐腐蚀薄膜及其制备方法和应用技术

本发明专利技术涉及装饰镀技术领域，尤其是涉及一种耐腐蚀薄膜及其制备方法和应用。耐腐蚀薄膜，包括基材；设置于所述基材的一侧上的打底层；设置于所述打底层上的过渡层；以及设置于所述过渡层上的颜色层；所述打底层为Cr层、Ti层或TiCr层；所述过渡层为SiCrC层或SiTiC层；所述颜色层为WC层。所述WC层是采用跳气模式沉积得到的。本发明专利技术的薄膜既能够满足高端装饰行业公司对黑度提出的要求，还具有优异的耐腐蚀性能等。性能等。性能等。

【技术实现步骤摘要】
耐腐蚀薄膜及其制备方法和应用


[0001]本专利技术涉及装饰镀
，尤其是涉及一种耐腐蚀薄膜及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]PVD镀膜通常分为蒸发镀、溅射镀、离子镀三种技术。蒸发镀由于存在粒子能量通常较低、高熔点膜料蒸发困难、薄膜绕射性能较差等缺点，导致很难保证立体工件各个面膜厚均匀，沉积的薄膜通常满足不了装饰镀领域要求的颜色一致、耐磨、抗刮伤、防腐的要求；离子镀靶材或者膜料的离化率较高，但现有的离子镀技术沉积速率较低、设备结构相对复杂，满足不了装饰镀领域的制造成本要求；磁控溅射镀膜是溅射镀方式的一种，可以用来制备膜层致密、耐刮伤、抗腐蚀、膜基附着力好等性能优异的涂层。另外，磁控溅射镀膜是一种节能环保的镀膜技术，整个成膜过程在真空条件下通过靶材溅射沉积完成，对环境无污染，所以磁控溅射是装饰镀领域应用最广的一种PVD镀膜技术。
[0003]黑色色调具有稳重、低调、富有科技感等视觉特点，所以比较受客户和市场的青睐，通常用不同比例的Ti、Cr、W单质金属或合金靶材与C2H2和/或CH4进行反应磁控溅射制备，通过调整金属靶溅射速本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.耐腐蚀薄膜，其特征在于，所述薄膜包括：基材；设置于所述基材的一侧上的打底层；设置于所述打底层上的过渡层；以及设置于所述过渡层上的颜色层；所述打底层为Cr层、Ti层或TiCr层；所述过渡层为SiCrC层或SiTiC层；所述颜色层为WC层。2.根据权利要求1所述的耐腐蚀薄膜，其特征在于，所述过渡层与所述颜色层之间设置有颜色衔接层；所述颜色衔接层为CrWC层或TiWC层。3.根据权利要求1所述的耐腐蚀薄膜，其特征在于，所述WC层是采用跳气模式沉积得到的。4.根据权利要求1所述的耐腐蚀薄膜，其特征在于，所述SiCrC层包括交替层叠设置的CrC层和SiC层；所述SiTiC层包括交替层叠设置的TiC层和SiC层。5.根据权利要求2所述的耐腐蚀薄膜，其特征在于，所述打底层的厚度为0.1～0.3μm；所述过渡层的厚度为0.6～1μm；所述颜色衔接层的厚度为0.1～0.5μm；所述颜色层的厚度为0.04～0.06μm。6.根据权利要求1所述的耐腐蚀薄膜，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：段新超，王金振，郭林生，王强，熊汤华，
申请(专利权)人：维达力实业深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：