本实用新型专利技术提供了一种螺栓、一种螺纹连接结构、一种水平调节机构以及一种半导体器件的加工装置。该螺栓包括：螺杆；以及底座，其底部设有多层凹陷的受力机构，其中，第二层受力机构的深度大于第一层受力机构的深度，第二层受力机构的尺寸小于第一层受力机构的尺寸，第二层受力机构与第一层受力机构之间存在偏转角，偏转角小于第一层受力机构及第二层受力机构的多个受力结构之间的间隔角。的多个受力结构之间的间隔角。的多个受力结构之间的间隔角。
【技术实现步骤摘要】
螺栓、螺纹连接结构、水平调节机构以及半导体加工装置
[0001]本技术涉及半导体制造领域技术，尤其涉及一种螺栓、一种螺纹连接结构、一种水平调节机构以及一种半导体器件的加工装置。
技术介绍
[0002]半导体领域中，螺栓对于半导体器件的加工至关重要。本领域目前的现有螺栓为杆状，本领域的现有技术通过一种型号六角扳手对水平机构螺栓底部进行旋转的方式实现调整水平机构，现有螺栓底部结构为单层的内空六边形结构，当底部空间不足以旋转60
°
时，存在不能有效的通过旋转，不能实现对水平机构调节。
[0003]为了克服现有技术存在的上述缺陷，本领域亟需一种螺栓，用于通过改变底座设计机构，采用不同型号的六角扳手组合作业可实现操作空间角度的降低，从而降低了外部空间的要求。
技术实现思路
[0004]以下给出一个或多个方面的简要概述以提供对这些方面的基本理解。此概述不是所有构想到的方面的详尽综览，并且既非旨在指认出所有方面的关键性或决定性要素亦非试图界定任何或所有方面的范围。其唯一的目的是要以简化形式给出一个或多个方面的一些概念以为稍后给出的更加详细的描述之前序。
[0005]为了克服现有技术存在的上述缺陷，本技术提供了一种螺栓，能够通过改变底座设计机构，采用不同型号的六角扳手组合作业可实现操作空间角度的降低，从而降低了外部空间的要求。
[0006]具体来说，根据本技术的第一方面提供的上述螺栓包括：螺杆；以及底座，其底部设有多层凹陷的受力机构，其中，第二层受力机构的深度大于第一层受力机构的深度，所述第二层受力机构的尺寸小于所述第一层受力机构的尺寸，所述第二层受力机构与所述第一层受力机构之间存在偏转角，所述偏转角小于所述第一层受力机构及所述第二层受力机构的多个受力结构之间的间隔角。
[0007]进一步地，在本技术的一些实施例中，所述第一层受力机构及所述第二层受力机构选自三角形凹槽、矩形凹槽或六边形凹槽。
[0008]进一步地，在本技术的一些实施例中，所述第一层受力机构及所述第二层受力机构均为六边形凹槽，其中，所述六边形凹槽包括六个受力顶角，各所述受力顶角之间的间隔角为60
°
。
[0009]进一步地，在本技术的一些实施例中，所述第二层受力机构与所述第一层受力机构之间的偏转角为30
°
。
[0010]此外，根据本技术的第二方面提供的螺纹连接结构包括第一部，具有螺纹孔；第二部，具有通孔；以及上述的螺栓，其中，所述螺栓的螺杆经由所述第二部的通孔伸入所述第一部的螺纹孔，以连接所述第一部及所述第二部。
[0011]此外，根据本技术的第三方面提供的上述水平调节机构包括：第一部，具有多个螺纹孔；第二部，具有多个通孔；以及多个上述螺栓，其中，各所述螺栓的螺杆分别经由所述第二部的对应通孔伸入所述第一部的对应螺纹孔，并经由各所述螺栓的伸入量来调节所述第一部的水平度。
[0012]此外，根据本技术的第四方面提供的上述半导体器件的加工装置包括气相沉积设备，具有螺纹安装孔；机台，具有通孔；以及上述的螺栓，其中，所述螺栓的螺杆经由所述机台的底部穿过所述通孔并伸入所述气相沉积设备的螺纹孔，以连接所述气相沉积设备及所述机台。
[0013]进一步地，在本技术的一些实施例中，所述气相沉积设备具有多个所述螺纹安装孔，所述机台具有多个所述通孔，其中，多个所述螺栓分别伸入所述气相沉积设备的对应螺纹孔，并经由其伸入量来调节所述气相沉积设备的水平度。
附图说明
[0014]在结合以下附图阅读本公开的实施例的详细描述之后，能够更好地理解本技术的上述特征和优点。在附图中，各组件不一定是按比例绘制，并且具有类似的相关特性或特征的组件可能具有相同或相近的附图标记。
[0015]图1示出了根据本技术的一些实施例提供的螺栓结构的俯视图。
[0016]图2示出了根据本技术的一些实施例提供的螺栓结构的侧视图。
具体实施方式
[0017]以下由特定的具体实施例说明本技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭示的内容轻易地了解本技术的其他优点及功效。虽然本技术的描述将结合优选实施例一起介绍，但这并不代表此技术的特征仅限于该实施方式。恰恰相反，结合实施方式作技术介绍的目的是为了覆盖基于本技术的权利要求而有可能延伸出的其它选择或改造。为了提供对本技术的深度了解，以下描述中将包含许多具体的细节。本技术也可以不使用这些细节实施。此外，为了避免混乱或模糊本技术的重点，有些具体细节将在描述中被省略。
[0018]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0019]另外，在以下的说明中所使用的“上”、“下”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“水平”、“垂直”应被理解为该段以及相关附图中所绘示的方位。此相对性的用语仅是为了方便说明之用，其并不代表其所叙述的装置需以特定方位来制造或运作，因此不应理解为对本技术的限制。
[0020]能理解的是，虽然在此可使用用语“第一”、“第二”、“第三”等来叙述各种组件、区域、层和/或部分，这些组件、区域、层和/或部分不应被这些用语限定，且这些用语仅是用来区别不同的组件、区域、层和/或部分。因此，以下讨论的第一组件、区域、层和/或部分可在
不偏离本技术一些实施例的情况下被称为第二组件、区域、层和/或部分。
[0021]如上所述，半导体领域中，螺栓对于半导体器件的加工至关重要。本领域目前的现有螺栓为杆状，本领域的现有技术通过一种型号六角扳手对水平机构螺栓底部进行旋转的方式实现调整水平机构，现有螺栓底部结构为单层的内空六边形结构，当底部空间不足以旋转60
°
时，存在不能有效的通过旋转，不能实现对水平机构调节。
[0022]为了克服现有技术存在的上述缺陷，本技术提供了一种螺栓、一种螺纹连接结构、一种水平调节机构以及一种半导体器件的加工装置，能够通过改变底座设计机构，采用不同型号的六角扳手组合作业可实现操作空间角度的降低，从而降低了外部空间的要求。
[0023]在一些非限制性的实施例中，本技术的第一方面提供的螺栓可以被配置于本技术的第二方面提供的上述螺纹连接结构来实施。该螺栓也可以被配置于本技术的第三方面提供的水平调节机构。该螺栓还可以被配置于本技术的第四方面提供的上述半导体器件的加工装置，以调节气相沉积设备的水平度。
[0024]首先，请结合参考图1以及图2，图1示出了根据本技术的一些实施例提供的螺栓结构的俯视图。图2示出了根据本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种螺栓，其特征在于，包括：螺杆；以及底座，其底部设有多层凹陷的受力机构，其中，第二层受力机构的深度大于第一层受力机构的深度，所述第二层受力机构的尺寸小于所述第一层受力机构的尺寸，所述第二层受力机构与所述第一层受力机构之间存在偏转角，所述偏转角小于所述第一层受力机构及所述第二层受力机构的多个受力结构之间的间隔角。2.如权利要求1所述的螺栓，其特征在于，所述第一层受力机构及所述第二层受力机构选自三角形凹槽、矩形凹槽或六边形凹槽。3.如权利要求2所述的螺栓，其特征在于，所述第一层受力机构及所述第二层受力机构均为六边形凹槽，其中，所述六边形凹槽包括六个受力顶角，各所述受力顶角之间的间隔角为60
°
。4.如权利要求3所述的螺栓，其特征在于，所述第二层受力机构与所述第一层受力机构之间的偏转角为30
°
。5.一种螺纹连接结构，其特征在于，包括：第一部，具有螺纹孔；第二部，具有通孔；以及如权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭强，朱佳奇，闫浩，刘思然，贾鑫，
申请(专利权)人：拓荆科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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