一种真空镀膜机的密封结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空镀膜机的密封结构，包括左连接件和右连接件，所述左连接件外圈的表面和右连接件外圈的表面之间套设有外密封套，所述左连接件包括左连接管。本实用新型专利技术通过左连接管、限位挡圈、左外密封凹槽、左内密封圈凹槽、定位插槽、安装螺孔、外密封套、防护圈罩、定位圈板、右连接管、T型插孔、定位插环、右外密封凹槽、内密封套和右内密封圈凹槽的配合使用，具备多重密封的功能，这样密封结构的密封性更好，解决了现有的密封结构在真空镀膜机上使用时，因大多采用单一的密封，并不能将多层密封叠加使用，容易使得密封处出现泄露，从而导致密封结构出现密封效果较差的问题。题。题。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜机的密封结构


[0001]本技术涉及真空镀膜机
，具体为一种真空镀膜机的密封结构。

技术介绍

[0002]真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子枪加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多种，主要思路是分成蒸发和溅射两种，需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材，基片与靶材同在真空腔中，蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构
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迷走结构
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层状生长）形成薄膜，对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜，在真空镀膜机上，密封结构是必不可少的，现有的密封结构在真空镀膜机上使用时，大多采用单一的密封，并不能将多层密封叠加使用，容易使得密封处出现泄露，从而导致密封结构出现密封效果较差的问题，大大降低了密封结构实用性，也不利于真空镀膜机的使用。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种真空镀膜机的密封结构，具备多重密封的优点，解决了现有的密封结构在真空镀膜机上使用时，因大多采用单一的密封，并不能将多层密封叠加使用，容易使得密封处出现泄露，从而导致密封结构出现密封效果较差的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种真空镀膜机的密封结构，包括左连接件和右连接件，所述左连接件外圈的表面和右连接件外圈的表面之间套设有外密封套，所述左连接件包括左连接管，所述左连接管外圈表面的右侧固定套设有限位挡圈，所述限位挡圈外圈表面的右侧开设有左外密封凹槽，所述右连接件包括右连接管，所述右连接管的左侧延伸至左连接管的内腔，所述右连接管外圈表面的中心处固定套设有定位圈板，所述定位圈板外圈的表面焊接有与限位挡圈配合使用的防护圈罩，所述防护圈罩外圈表面的左侧开设有右外密封凹槽。
[0005]优选的，所述外密封套的内圈套设在左外密封凹槽和右外密封凹槽外圈的表面，所述左外密封凹槽的内径和外径与右外密封凹槽的内径和外径相同，所述左外密封凹槽的横向长度与右外密封凹槽的横向长度相同。
[0006]优选的，所述左连接管右侧表面的外圈开设有安装螺孔，所述左连接管右侧表面的内圈开设有左内密封圈凹槽，所述左连接管右侧的表面且位于安装螺孔和左内密封圈凹槽之间开设有定位插槽，所述定位圈板外圈表面的右侧贯穿开设有与安装螺孔配合使用的T型插孔，所述定位圈板的内圈与左连接管外圈的表面为滑动接触。
[0007]优选的，所述右连接管外圈表面的中心处开设有右内密封圈凹槽，所述右内密封圈凹槽与左内密封圈凹槽配合使用，所述右内密封圈凹槽与左内密封圈凹槽之间套设有内
密封套，所述右内密封圈凹槽与左内密封圈凹槽的内径和外径均相同，所述右内密封圈凹槽的横向长度与左内密封圈凹槽的横向长度相同。
[0008]优选的，所述定位圈板左侧表面的外圈固定连接有定位插环，所述定位插环的左侧延伸至定位插槽的内圈，所述定位插环外圈的表面与定位插槽的内腔为滑动接触。
[0009]与现有技术相比，本技术的有益效果如下：
[0010]1、本技术通过左连接管、限位挡圈、左外密封凹槽、左内密封圈凹槽、定位插槽、安装螺孔、外密封套、防护圈罩、定位圈板、右连接管、T型插孔、定位插环、右外密封凹槽、内密封套和右内密封圈凹槽的配合使用，具备多重密封的功能，这样密封结构的密封性更好，解决了现有的密封结构在真空镀膜机上使用时，因大多采用单一的密封，并不能将多层密封叠加使用，容易使得密封处出现泄露，从而导致密封结构出现密封效果较差的问题，值得推广。
[0011]2、本技术通过设置T型插孔和安装螺孔的配合，方便利用螺栓将左连接管与定位圈板进行连接，通过定位插槽，可对定位插环进行收纳，通过限位挡圈，可对防护圈罩进行格挡。
附图说明
[0012]图1为本技术结构轴测图；
[0013]图2为本技术右连接件结构轴测图；
[0014]图3为本技术右连接件结构左视图；
[0015]图4为本技术左连接件结构轴测图；
[0016]图5为本技术右连接管结构示意图。
[0017]图中：1左连接件、11左连接管、12限位挡圈、13左外密封凹槽、14左内密封圈凹槽、15定位插槽、16安装螺孔、2外密封套、3右连接件、31防护圈罩、32定位圈板、33右连接管、34 T型插孔、35定位插环、36右外密封凹槽、37内密封套、38右内密封圈凹槽。
具体实施方式
[0018]请参阅图1
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图4，一种真空镀膜机的密封结构，包括左连接件1和右连接件3，左连接件1外圈的表面和右连接件3外圈的表面之间套设有外密封套2，左连接件1包括左连接管11，左连接管11外圈表面的右侧固定套设有限位挡圈12，限位挡圈12外圈表面的右侧开设有左外密封凹槽13，右连接件3包括右连接管33，右连接管33的左侧延伸至左连接管11的内腔，右连接管33外圈表面的中心处固定套设有定位圈板32，定位圈板32外圈的表面焊接有与限位挡圈12配合使用的防护圈罩31，防护圈罩31外圈表面的左侧开设有右外密封凹槽36，通过限位挡圈12，可对防护圈罩31进行格挡，限位挡圈12的外径与防护圈罩31的外径相同，定位圈板32右侧的表面与防护圈罩31右侧的表面在同一个平面上，通过左连接管11，可对右连接管33的左侧进行收纳，左连接管11的内径大于右连接管33的内径；
[0019]外密封套2的内圈套设在左外密封凹槽13和右外密封凹槽36外圈的表面，左外密封凹槽13的内径和外径与右外密封凹槽36的内径和外径相同，左外密封凹槽13的横向长度与右外密封凹槽36的横向长度相同；
[0020]左连接管11右侧表面的外圈开设有安装螺孔16，左连接管11右侧表面的内圈开设
有左内密封圈凹槽14，左连接管11右侧的表面且位于安装螺孔16和左内密封圈凹槽14之间开设有定位插槽15，定位圈板32外圈表面的右侧贯穿开设有与安装螺孔16配合使用的T型插孔34，定位圈板32的内圈与左连接管11外圈的表面为滑动接触，通过设置T型插孔34和安装螺孔16的配合，方便利用螺栓将左连接管11与定位圈板32进行连接；
[0021]右连接管33外圈表面的中心处开设有右内密封圈凹槽38，右内密封圈凹槽38与左内密封圈凹槽14配合使用，右内密封圈凹槽38与左内密封圈凹槽14之间套设有内密封套37，右内密封圈凹槽38与左内密封圈凹槽14的内径和外径均相同，右内密封圈凹槽38的横向长度与左内密封圈凹槽14的横向长度相同；
[0022]定位圈板32左侧表面的外圈固定连接有定位插环35，定位插环35的左侧延伸至定位插槽15的内圈，定位插环35外圈的表面与定位插槽15的内腔为滑动接触，通过定位插槽15，可对定位本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜机的密封结构，包括左连接件（1）和右连接件（3），其特征在于：所述左连接件（1）外圈的表面和右连接件（3）外圈的表面之间套设有外密封套（2），所述左连接件（1）包括左连接管（11），所述左连接管（11）外圈表面的右侧固定套设有限位挡圈（12），所述限位挡圈（12）外圈表面的右侧开设有左外密封凹槽（13），所述右连接件（3）包括右连接管（33），所述右连接管（33）的左侧延伸至左连接管（11）的内腔，所述右连接管（33）外圈表面的中心处固定套设有定位圈板（32），所述定位圈板（32）外圈的表面焊接有与限位挡圈（12）配合使用的防护圈罩（31），所述防护圈罩（31）外圈表面的左侧开设有右外密封凹槽（36）。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机的密封结构，其特征在于：所述外密封套（2）的内圈套设在左外密封凹槽（13）和右外密封凹槽（36）外圈的表面，所述左外密封凹槽（13）的内径和外径与右外密封凹槽（36）的内径和外径相同，所述左外密封凹槽（13）的横向长度与右外密封凹槽（36）的横向长度相同。3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机的密封结构，其特征在于：所述左连接管（11）右侧表面的外圈开...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄子豪，
申请(专利权)人：黄子豪，
类型：新型
国别省市：