一种离子束沉积装备制造技术

本实用新型专利技术涉及薄膜技术领域，具体涉及一种离子束沉积装备，包括壳体，壳体内设有真空腔室，真空腔室的顶部设有电动伸缩柱，电动伸缩柱的下端连接有镀膜件，真空腔室的顶部且在电动伸缩柱的两侧均设有支撑柱，支撑柱的下端设有倾斜设置的离子源，真空腔室内设有两个靶台，真空腔室的底部设有用于对靶台进行支撑的支撑组件，壳体的一侧设有与真空腔室相连通的抽真空装置，真空腔室的顶部且在电动伸缩柱分别与两个支撑柱之间均设有用于检测靶台上端面的倾斜角度的角度检测传感器，解决多边形设置的靶台进行转动后对靶台平面的角度缺少相应的检测装置，当转动后的靶台上端面发生倾斜后会造成镀膜工件表面镀膜厚度不一，造成产品加工不达标的问题。加工不达标的问题。加工不达标的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种离子束沉积装备


[0001]本技术涉及薄膜
，具体涉及一种离子束沉积装备。

技术介绍

[0002]离子束溅射淀积镀膜技术为科学研究与生产提供了薄膜涂覆的新工艺、新技术，为当今迅速发展的薄膜集成电路、薄膜传感器、磁性薄膜器件、高温合金导体薄膜等广泛的应用领域提供了新的技术手段。随着离子束镀膜技术的飞速发展，以及应用领域的不断扩展和延伸，离子束溅射沉积镀膜设备得到了很大的提高。
[0003]在镀膜工件进行加工时，通常会将靶台设置为多边形，便于放置不同的靶材，但是当靶台进行转动后对靶台平面的角度缺少相应的检测装置，当转动后的靶台上端面发生倾斜后会造成镀膜工件表面镀膜厚度不一，造成产品加工不达标。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种离子束沉积装备，解决多边形设置的靶台进行转动后对靶台平面的角度缺少相应的检测装置，当转动后的靶台上端面发生倾斜后会造成镀膜工件表面镀膜厚度不一，造成产品加工不达标的问题。
[0005]为解决上述的技术问题，本技术采用以下技术方案：
[0006]一种离子束沉积装备，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种离子束沉积装备，其特征在于：包括壳体（1），所述壳体（1）内设有封闭设置的真空腔室（2），所述真空腔室（2）的顶部设有电动伸缩柱（3），所述电动伸缩柱（3）的下端通过转动装置转动连接有镀膜件（4），所述真空腔室（2）的顶部且在电动伸缩柱（3）的两侧均设有支撑柱（5），所述支撑柱（5）的下端设有倾斜设置的离子源（6），所述真空腔室（2）内设有两个间隔且等高设置的靶台（7），所述靶台（7）呈多边形设置，所述真空腔室（2）的底部设有用于对靶台（7）进行支撑的支撑组件，所述壳体（1）的一侧设有与所述真空腔室（2）相连通的抽真空装置，所述真空腔室（2）的顶部且在电动伸缩柱（3）分别与两个支撑柱（5）之间均设有用于检测靶台（7）上端面的倾斜角度的角度检测传感器（8）。2.根据权利要求1所述的一种离子束沉积装备，其特征在于：所述转动装置包括步进马达（9），所述电动伸缩柱（3）的下端和镀膜件（4）之间设有轴承（10），所述轴承（10）的外环通过第一连接块与所述电动伸缩柱（3）的下端相连，所述步进马达（9）设置于所述轴承（10）内侧，且所述步进马达（9）与所述电动伸缩柱（3）的下端相连，所述步进马达（9）的输出端与所述镀膜件（4）的中部相连； 所述镀膜件（4）上设有环形...

【专利技术属性】
技术研发人员：张松林，
申请(专利权)人：成都超迈光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：