【技术实现步骤摘要】
一种离子束溅射镀膜用镀膜机、遮挡板及均匀性修正方法
[0001]本申请涉及镀膜的
,尤其是涉及一种离子束溅射镀膜用镀膜机、遮挡板及均匀性修正方法。
技术介绍
[0002]光学在现代的科技领域获得了很广泛的应用,而光学薄膜在其中占有重要地位,几乎所有的光学系统、光电仪器和光学器件都离不开光学薄膜。特别是近代以来激光技术和光通信领域的波分复用技术的快速发展,推动着光学薄膜飞速发展。其中高要求的窄带滤光片和截止陡度要求很高的截止滤光片的生产需求,对膜层的厚度均匀分布提出了更高的要求。
[0003]离子束溅射镀膜机可以镀制高致密性、高光洁度、拥有优良光学和机械性能的优质光学薄膜,其离子束溅射沉积技术已在高精度光学薄膜技术中得到了广泛的应用。光学薄膜的膜层厚度的均匀性是指光学薄膜在沉积过程中,膜层厚度随基片分布位置的不同而出现差异的情况。
[0004]现有的离子束溅射镀膜机包括镀膜腔室、靶材系统、沉积系统和工件盘;靶材系统和沉积系统位于镀膜腔室的底端,且沉积系统对应靶材系统,工件盘安装于镀膜腔室内,且工件盘连接有调节件,调节件调节工件盘与镀膜腔室的相对位置,并带动工件盘旋转,且工件盘的下表面平行于镀膜腔室的底板;使用时,首先对镀膜腔室抽高真空,真空度达到1.0
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10
³
pa后启动沉积系统,沉积系统发射离子束流轰击靶材系统,靶材系统的薄膜材料被轰击出来后飞向高速旋转的工件盘,在工件盘下表面承载的待镀膜基片表面附着结晶生长成膜。
[0005]针对上述中的相关技术, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种离子束溅射镀膜用镀膜机,其特征在于:包括:工件盘(1),用于固定基片;遮挡板(2),位于工件盘(1)下方,用于遮挡部分由沉积系统(7)轰击靶材系统(8)产生的薄膜材料;定位底座(3),用于安装遮挡板(2);调节件(4),与定位底座(3)连接,用于调节定位底座(3)位于镀膜腔室内与工件盘(1)的相对位置;遮挡板(2)包括第一MASK金属板(21)和第二MASK金属板(22);第一MASK金属板(21)的水平截面所处平面设有一基准线(5);基准线(5)长度与第一MASK金属板(21)长度方向相同;第一MASK金属板(21)的水平截面的周长由第一弧边(211)、第一竖直边(212)、第一斜边(213)和第一连接边(214)依次首尾连接组成;且第一竖直边(212)与第一斜边(213)形成的夹角为钝角;第一竖直边(212)与基准线(5)垂直;第一竖直边(212)长度为L1;第一斜边(213)与基准线(5)夹角为θ1;第一斜边(213)长度为L2;第一弧边(211)为半径是r1且弧心角是θ2的圆弧;经过第一弧边(211)两端的其中一条半径的延长线与第一竖直边(212)重合;且第一弧边(211)的圆心位于第一弧边(211)背离第一斜边(213)的一侧;第一MASK金属板(21)长度为L3;L1:L2:L3:r1=10:191:290:(290
‑
310);θ1=5
°‑7°
;θ2=30
°
。2.根据权利要求1所述的一种离子束溅射镀膜用镀膜机,其特征在于:第二MASK金属板(22)的水平截面所处平面设有一基准线(5);基准线(5)长度与第二MASK金属板(22)长度方向相同;第二MASK金属板(22)的水平截面的周长由第二弧边(221)、第二竖直边(222)、第二斜边(223)和第二连接边(224)依次首尾连接组成;且第二竖直边(222)与第二斜边(223)之间的夹角为钝角;第二竖直边(222)与基准线(5)垂直;第二竖直边(222)长度为L4;第二斜边(223)与基准线(5)夹角为θ3;第二斜边(223)长度为L5;第二弧边(221)为半径是r2且弧心角是θ4的圆弧;经过第二弧边(221)两端的其中一条半径的延长线与第二竖直边(222)重合;且第二弧边(221)的圆心位于第二弧边(221)背离第二斜边(223)的一侧;第二MASK金属板(22)的长度为L6;L4:L5:L6:r2=10:195:290:(270
‑
290);θ3=9
°‑
11
°
;θ4=31
°
。3.根据权利要求1所...
【专利技术属性】
技术研发人员:王磊磊,张钦,韩学坤,
申请(专利权)人:青岛镭视光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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