一种板材表面处理靶台结构制造技术

本实用新型专利技术提供一种板材表面处理靶台结构，包括：腔体，所述腔体具有适于容置板材的空间，且所述腔体的侧壁上设有离子源接口；轨道，所述轨道设于所述腔体内；夹持机构，所述夹持机构与所述轨道滑动连接，且适于夹持所述板材。本实用新型专利技术的方案可以实现板材的表面处理，实现离子束清洗和镀膜的一体化处理，在不破坏原有真空条件的情况下，完成板材的离子束清洗和镀膜，从而有效提高板材镀膜的处理质量和效率。和效率。和效率。

【技术实现步骤摘要】
一种板材表面处理靶台结构


[0001]本技术涉及装置结构设计
，特别是指一种板材表面处理靶台结构。

技术介绍

[0002]离子束溅射镀膜是真空镀膜的一种方式，属于材料表面处理技术。离子束溅射镀膜技术于20世纪70年代被发现，随后得到了空前的发展，通过离子束溅射镀膜形成的薄膜，具有均匀性好，结合强度高等特点；
[0003]为了保证薄膜的结合强度，需要在离子束溅射镀膜前，进行板材表面预处理，离子束清洗作为材料表面预处理的一种方式，能有效将板材表面的污染物清理干净，获得良好的膜基结合界面，在原有的处理工艺中，板材的清洗和镀膜均需在真空条件下进行，每交替进行一次清洗和镀膜工艺，都需要破坏真空后安装好靶材和镀膜板材，并重新获取真空条件，这会让经过离子束清洗后的板材表面重新遭到氧化和污染，从而导致离子束镀膜质量变差，使得离子束清洗和离子束镀膜的工艺冗长，处理效率低。

技术实现思路

[0004]本技术提供一种板材表面处理靶台结构，可以解决在交替进行板材的清洗和镀膜工艺时，对真空条件造成破坏，导致板材表面遭到氧化和污染的问题。
[0005]为解决上述技术问题，本技术的技术方案如下：
[0006]一种板材表面处理靶台结构，包括：
[0007]腔体，所述腔体具有适于容置板材的空间，且所述腔体的侧壁上设有离子源接口；
[0008]轨道，所述轨道设于所述腔体内；
[0009]夹持机构，所述夹持机构与所述轨道滑动连接，且适于夹持所述板材。
[0010]可选的，所述腔体的底部设有真空管道连接口。
[0011]可选的，所述轨道上设有至少两个固定孔，所述轨道通过所述固定孔与所述腔体内部的上壁固定连接。
[0012]可选的，所述夹持机构包括：
[0013]连接部，所述连接部与所述轨道滑动连接；
[0014]夹持部，所述夹持部与所述连接部连接，适于夹持所述板材。
[0015]可选的，所述连接部呈T字形，所述轨道具有滑槽；所述连接部的T字形顶部嵌入所述滑槽内，T字形底部向所述滑槽外延伸，适于使所述连接部与所述轨道滑动连接。
[0016]可选的，所述夹持部的底部设有固定槽，所述固定槽适于夹持所述板材。
[0017]可选的，所述板材表面处理靶台结构，还包括：收集板；所述夹持机构为多个，至少一个所述夹持机构夹持所述收集板。
[0018]可选的，所述板材表面处理靶台结构，还包括：靶材，所述夹持机构为多个，至少一个所述夹持机构夹持所述靶材。
[0019]可选的，所述固定槽呈T字形。
[0020]可选的，所述轨道呈工字形。
[0021]本技术的上述方案至少包括以下有益效果：
[0022]本技术所述的板材表面处理靶台结构，包括：腔体，轨道，夹持机构；所述腔体具有适于容置板材的空间，且所述腔体的侧壁上设有离子源接口；所述轨道设于所述腔体内；所述夹持机构与所述轨道滑动连接，且适于夹持所述板材。能够实现板材的表面处理，实现离子束清洗和镀膜的一体化处理，在不破坏原有真空条件的情况下，完成板材的离子束清洗和镀膜，从而有效提高板材镀膜的处理质量和效率。
附图说明
[0023]图1是本技术的板材表面处理靶台结构的透视图；
[0024]图2是本技术的轨道和夹持机构的剖面结构示意图。
[0025]附图标记说明：1、腔体；11、离子源接口；12、真空管道连接口；2、轨道；21、固定孔；3、夹持机构；31、连接部；32、夹持部；33、控制部；321、固定槽；4、板材；41、收集板；42、靶材。
具体实施方式
[0026]下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施例。虽然附图中显示了本公开的示例性实施例，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
[0027]如图1所示，本技术的实施例提出一种板材表面处理靶台结构，包括：腔体1，轨道2，夹持机构3；所述腔体1具有适于容置板材4的空间，且所述腔体1的侧壁上设有离子源接口11；所述轨道2设于所述腔体1内；所述夹持机构3与所述轨道2滑动连接，且适于夹持所述板材4。
[0028]需要说明的是，所述离子源接口11适于连接离子源系统，所述离子源系统适于向所述腔体1内放射离子束；所述离子源系统可以是多个设备的组合，包括但不限于：离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机；所述离子源系统可以为现有技术中的设备，只要能够实现放射离子束或者辅助放射离子束即可。
[0029]本技术的该实施例中，通过所述板材表面处理靶台结构，由所述离子源接口11向所述腔体1内释放离子束，进而可以实现对板材的表面处理，在所述腔体1内可以完成离子束对板材4的清洗和镀膜，实现离子束清洗和镀膜的一体化处理，在不破坏原有真空条件的情况下，完成板材的离子束清洗和镀膜，从而有效提高板材镀膜的处理质量和效率。
[0030]另外，所述腔体1上可以设有送料门，所述送料门适于送料或取料。
[0031]如图1所示，本技术一可选的实施例中，所述腔体1的底部设有真空管道连接口12。
[0032]本实施例中，所述真空管道接口12可以连接真空管道，所述真空管道可以连接真空系统，所述真空系统适于为所述腔体1内部制造真空条件，即：将所述腔体1内部的空气抽至所述壳体外部，使得所述腔体1内部处于真空状态；所述真空系统可以是多个设备的组合，包括但不限于：机械泵、分子泵；所述真空系统可以为现有技术中的设备，只要能够将所述腔体1内部的空气抽至所述腔体1外部即可。
[0033]如图1或图2所示，本技术又一可选的实施例中，所述轨道2上设有至少两个固定孔21，所述轨道2通过所述固定孔21与所述腔体1内部的上壁固定连接。
[0034]其中，所述轨道2呈工字形，工字形轨道可以为3条，每条轨道内至少可以嵌入一个所述夹持机构3。这样能够满足所述夹持机构3的移动需求，便于所述板材4位置的移动和更换。
[0035]本实施例中，可以采用但不限于螺接的方式，使得所述轨道2通过所述固定孔21与所述腔体1的内部上壁固定连接。这样的连接方式结实牢固，这样的连接位置便于所述板材4的清洗和镀膜。
[0036]如图2所示，本技术又一可选的实施例中，所述夹持机构3包括：连接部31，夹持部32；所述连接部31与所述轨道2滑动连接；所述夹持部32与所述连接部31连接，适于夹持所述板材4。
[0037]本实施例中，通过所述夹持机构3可以实现对所述板材4的夹持，将所述板材4平稳的悬挂于所述腔体1内部进行实验，同时实现所述板材4位置的移动，从而在对所述板材4进行离子束清洗后，移动所述板材4的位置，再进行所述板材4的离子束镀膜；这样能够在不破坏原有真空条件的情况下，完成所述板材4的离子束清洗和镀膜，有效提高板材镀膜本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种板材表面处理靶台结构，其特征在于，包括：腔体(1)，所述腔体(1)具有适于容置板材(4)的空间，且所述腔体(1)的侧壁上设有离子源接口(11)；轨道(2)，所述轨道(2)设于所述腔体(1)内；夹持机构(3)，所述夹持机构(3)与所述轨道(2)滑动连接，且适于夹持所述板材(4)。2.根据权利要求1所述的板材表面处理靶台结构，其特征在于，所述腔体(1)的底部设有真空管道连接口(12)。3.根据权利要求1所述的板材表面处理靶台结构，其特征在于，所述轨道(2)上设有至少两个固定孔(21)，所述轨道(2)通过所述固定孔(21)与所述腔体(1)内部的上壁固定连接。4.根据权利要求3所述的板材表面处理靶台结构，其特征在于，所述夹持机构(3)包括：连接部(31)，所述连接部(31)与所述轨道(2)滑动连接；夹持部(32)，所述夹持部(32)与所述连接部(31)连接，适于夹持所述板材(4)。5.根据权利要求4所述的板材表面处理靶台结构...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈江，李鸿亚，周利华，石新权，华强，吴卓歆，姜岳峰，牛书通，李文腾，雷震，
申请(专利权)人：中核四零四有限公司，
类型：新型
国别省市：