双面卷对卷激光直写曝光机制造技术

本发明专利技术提供一种双面卷对卷激光直写曝光机，包括用于对基材进行输送的放卷装置和收卷装置，以及用于对基材进行涨紧悬空的涨紧装置，所述涨紧装置包括支撑机构，该支撑机构通过设置在曝光区域中的多个支撑杆对基材悬空的中间部位进行支撑；通过设置在非曝光区域的吸附装置对基材进行吸附固定；以及设置在侧边对基材进行夹紧的侧面夹紧机构；在支撑杆两端的放料端和收料端分别设置有端部夹紧机构，使得在曝光过程中基材始终被夹紧，避免在曝光过程中卷式基材由于精密运动平台的运动而产生振动和位移，从而影响曝光精度。从而影响曝光精度。从而影响曝光精度。

【技术实现步骤摘要】
双面卷对卷激光直写曝光机


[0001]本专利技术涉及激光直写曝光
，具体涉及一种双面卷对卷激光直写曝光机。

技术介绍

[0002]传统的双面曝光机，在基材的下方用玻璃支撑，保证基材处于一个平整的状态，使基材在曝光镜头的焦深范围内，达到最佳的曝光效果。用玻璃支撑虽然可以满足曝光的要求，但是玻璃上难免会落下灰尘或者脏污，而且在曝光过程中比较难以清洁，造成产品的良率下降。
[0003]最新的双面曝光机通过两侧的收放卷机，将基材卷料拉紧伸直，处于悬空状态，避免了使用玻璃支撑时带来的灰尘和脏污，但由于基材属于软性材料，中间悬空部分一般也比较长，在自身重力作用下，难免会在悬空中心处产生下垂变形，影响精度。另外，平台运动过程中会不可避免产生振动，在曝光过程中未采用任何固定措施，平台移动所带来的振动及基材自身的微小振动都会对曝光精度产生影响。

技术实现思路

[0004]本专利技术提供一种能够减小曝光过程中卷式基材产生振动和位移的双面卷对卷激光直写曝光机。
[0005]为解决上述技术问题，本专利技术采用如下技术方案：
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双面卷对卷激光直写曝光机，包括用于对基材进行输送的放卷装置和收卷装置，以及用于对基材进行涨紧悬空的涨紧装置，其特征在于，所述涨紧装置包括：支撑机构，该支撑机构通过设置在曝光区域中的多个支撑杆对基材悬空的中间部位进行支撑；以及设置在多个支撑杆输送方向两端的端部夹紧机构，该端部夹紧机构对基材的放料端和收料端分别进行夹紧。2.根据权利要求1所述的双面卷对卷激光直写曝光机，其特征在于，所述端部夹紧机构包括上下布置的上辊轮和下辊轮，以及用于带动上、下辊轮夹紧的夹紧气缸。3.根据权利要求2所述的双面卷对卷激光直写曝光机，其特征在于，所述夹紧气缸包括用于驱动上辊轮运动的第一夹紧气缸和第二夹紧气缸，以及用于驱动下辊轮运动的第三夹紧气缸和第四夹紧气缸，其中上、下辊轮的两端分别设置有第一安装板和第二安装板，所述第一夹紧气缸和第三夹紧气缸分别设置在第一安装板的两侧，所述第二夹紧气缸和第四夹紧气缸分别设置在第二安装板的两侧。4.根据权利要求1所述的双面卷对卷激光直写曝光机，其特征在于，所述涨紧装置还包...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶飞，项宗齐，
申请(专利权)人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司，
类型：发明
国别省市：