气相沉积设备制造技术

本实用新型专利技术公开一种气相沉积设备，包括反应室，反应室内具有内腔，反应室上开设有连通内腔的开口，内腔具有安装腔壁，开口贯穿安装腔壁，安装腔壁上并位于开口的上下两侧均设置有隔热板本体，隔热板本体通过挂钩与安装腔壁连接，位于开口上方的挂钩为第一挂钩，第一挂钩包括第一段和第二段，第一段通过螺丝连接于安装腔壁，第二段垂直设置在第一段远离安装腔壁的一侧面，隔热板本体挂接于第一段上，隔热板本体的下端抵接于第二段的上表面。该气相沉积设备能够防止隔热板与挂钩摩擦产生的异物掉落在玻璃基板的表面上。掉落在玻璃基板的表面上。掉落在玻璃基板的表面上。

【技术实现步骤摘要】
气相沉积设备


[0001]本技术涉及显示装置制造
，尤其涉及一种气相沉积设备。

技术介绍

[0002]在显示屏制造技术中，待加工的玻璃基板进入气相沉积设备的反应室中，将两种或两种以上的气态原材料导入其中，发生化学反应后形成一种新的材料沉积于玻璃基板的上表面以形成单晶薄膜化合物，通常情况下温度越高气相沉积速率越快，为此安装腔壁上会设置隔热板以实现隔热。
[0003]如图1所示，相关技术中，反应室的内壁上通过螺栓安装若干个挂钩1＇，隔热板2＇对应地挂接在挂钩1＇上，其中，反应室具有供玻璃基板4＇通过的开口3＇，开口3＇通过门体选择性进行封堵，反应室具有开口3＇的内壁设置有两块隔热板2＇，两块隔热板2＇上下布设，使隔热板2＇不遮挡开口3＇，玻璃基板4＇通过开口3＇以及两块隔热板2＇之间的间隙进入到反应室内。
[0004]相关技术存在以下缺陷：为消除沉积过程中薄膜的残余应力，会利用激振器产生振动以实现薄膜应力的在线消除，从而反应室随之产生振动，位于开口3＇上方的隔热板2＇与挂钩1＇之间相互摩擦，摩擦产生的异物直接掉落在玻璃基板4＇本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种气相沉积设备，包括反应室，所述反应室内具有内腔，所述反应室上开设有连通所述内腔的开口，所述内腔具有安装腔壁，所述开口贯穿所述安装腔壁，所述安装腔壁上并位于所述开口的上下两侧均设置有隔热板本体，所述隔热板本体通过挂钩与所述安装腔壁连接，其特征在于，位于开口上方的所述挂钩为第一挂钩，所述第一挂钩包括第一段和第二段，所述第一段通过螺丝连接于所述安装腔壁，所述第二段垂直设置在所述第一段远离所述安装腔壁的一侧面，所述隔热板本体挂接于所述第一段上，所述隔热板本体的下端抵接于所述第二段的上表面。2.根据权利要求1所述的气相沉积设备，其特征在于，所述第二段的上表面凹陷设置有容纳空间，所述容纳空间用于容纳异物。3.根据权利要求2所述的气相沉积设备，其特征在于，所述第二段的上表面包括相连的第一支撑面和第一斜面，所述第一支撑面与所述隔热板本体的下端抵接，所述第一斜面由所述第一支撑面朝向所述第一段向下倾斜，以形成所述容纳空间。4.根据权利要求2所述的气相沉积设备，其特征在于，所述第二段的上表面包括相连的第二支撑面和凹槽，所述第二支撑面与所述隔热...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨贤烁，
申请(专利权)人：乐金显示光电科技中国有限公司，
类型：新型
国别省市：