真空镀膜自动加料装置制造方法及图纸

本申请关于一种真空镀膜自动加料装置，涉及真空镀膜领域。该真空镀膜自动加料装置包括支架，支架上安装有滑动机构，滑动机构上安装有驱动机构以及加料机构，驱动机构的动力输出端与加料机构传动连接；加料机构的上方还安装有储料罐，储料罐将粉料输送至加料机构内，加料机构与外部管式炉的进料口接驳；其中，储料罐上还安装有搅拌机构，搅拌机构将储料罐内的粉料均匀的输送至加料机构内。实现了在CVD过程中，粉末状态的蒸发材料(如派瑞林)少量、连续进入管式炉以进行后续的加热、升华、裂解工艺，既满足了蒸发材料的用量，又达到了实时动态调整进料量的目的，提升了镀膜效果，并实现了一种以上的蒸发材料复合镀膜的工艺需求。了一种以上的蒸发材料复合镀膜的工艺需求。了一种以上的蒸发材料复合镀膜的工艺需求。

【技术实现步骤摘要】
真空镀膜自动加料装置


[0001]本申请涉及真空镀膜
，特别涉及一种真空镀膜自动加料装置。

技术介绍

[0002]真空镀膜技术一般分为两大类,即物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。
[0003]化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。
[0004]目前，现有粉末状态的蒸发材料(如派瑞林)，在CVD镀膜条件下因其使用了每炉称重计量的定量方法，不能进行动态的调整；因此无法在工艺过程中进行动态干预，难以达到最优的镀膜效果。

技术实现思路

[0005]本申请的目的是提供一种真空镀膜自动加料装置，以解决现有粉末状态的蒸发材料，在CVD镀膜条件下因其使用了每炉称重计量的定量方法，不能进行动态的调整，因此无法在工艺过程中进行动态干预，难以达到最优的镀膜效果的问题。
[0006]为实现上述目的，本申请采用的技本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜自动加料装置，其特征在于，包括支架，所述支架上安装有加料机构，所述加料机构的上方还安装有储料罐，所述储料罐将粉料输送至所述加料机构内，所述加料机构与外部管式炉的进料口接驳；其中，所述储料罐上还安装有搅拌机构，所述搅拌机构将所述储料罐内的粉料均匀的输送至所述加料机构内。2.根据权利要求1所述的真空镀膜自动加料装置，其特征在于，所述支架上安装有驱动机构，所述驱动机构的动力输出端与所述加料机构传动连接。3.根据权利要求2所述的真空镀膜自动加料装置，其特征在于，所述支架上安装有滑动机构，所述驱动机构和所述加料机构安装于所述滑动机构上。4.根据权利要求3所述的真空镀膜自动加料装置，其特征在于，所述加料机构包括螺杆座，所述螺杆座呈内部中空的倒T形，所述螺杆座水平穿设有螺杆；所述驱动机构的动力输出端通过所述螺杆座的第二端与所述螺杆的第一端传动连接；所述储料罐通过所述螺杆座的第三端将粉料输送至所述螺杆座内；所述螺杆座的第一端与所述螺杆座的第二端处于同一水平面，所述螺杆座的第一端与所述螺杆座的第三端相互垂直。5.根据权利要求4所述的真空镀膜自动加料装置，其特征在于，所述螺杆座的第一端还安装有接驳波纹管，所述接驳波纹管位于所述螺杆的外周，所述接驳波纹管远离所述螺杆座的一端安装有连接法兰，外部管式炉的进料口上安装有与所述连接法兰相匹配的对接法兰，所述对接法兰与所述连接法兰接驳。6.根据权利要求1所述的真空镀膜自动加料装置，其特征在于，所述储料罐呈内部中空的漏斗状，所述储料罐的侧壁上连接有至少...

【专利技术属性】
技术研发人员：宗坚，
申请(专利权)人：江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：