真空镀膜自动加料装置制造方法及图纸

本申请关于一种真空镀膜自动加料装置，涉及真空镀膜领域。该真空镀膜自动加料装置包括支架，支架上安装有滑动机构，滑动机构上安装有驱动机构以及加料机构，驱动机构的动力输出端与加料机构传动连接；加料机构的上方还安装有储料罐，储料罐将粉料输送至加料机构内，加料机构与外部管式炉的进料口接驳；其中，储料罐上还安装有搅拌机构，搅拌机构将储料罐内的粉料均匀的输送至加料机构内。实现了在CVD过程中，粉末状态的蒸发材料(如派瑞林)少量、连续进入管式炉以进行后续的加热、升华、裂解工艺，既满足了蒸发材料的用量，又达到了实时动态调整进料量的目的，提升了镀膜效果，并实现了一种以上的蒸发材料复合镀膜的工艺需求。了一种以上的蒸发材料复合镀膜的工艺需求。了一种以上的蒸发材料复合镀膜的工艺需求。

【技术实现步骤摘要】
真空镀膜自动加料装置


[0001]本申请涉及真空镀膜
，特别涉及一种真空镀膜自动加料装置。

技术介绍

[0002]真空镀膜技术一般分为两大类,即物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。
[0003]化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。
[0004]目前，现有粉末状态的蒸发材料(如派瑞林)，在CVD镀膜条件下因其使用了每炉称重计量的定量方法，不能进行动态的调整；因此无法在工艺过程中进行动态干预，难以达到最优的镀膜效果。

技术实现思路

[0005]本申请的目的是提供一种真空镀膜自动加料装置，以解决现有粉末状态的蒸发材料，在CVD镀膜条件下因其使用了每炉称重计量的定量方法，不能进行动态的调整，因此无法在工艺过程中进行动态干预，难以达到最优的镀膜效果的问题。
[0006]为实现上述目的，本申请采用的技术方案为：
[0007]一种真空镀膜自动加料装置，包括支架，所述支架上安装有加料机构，所述加料机构的上方还安装有储料罐，所述储料罐将粉料输送至所述加料机构内，所述加料机构与外部管式炉的进料口接驳；
[0008]其中，所述储料罐上还安装有搅拌机构，所述搅拌机构将所述储料罐内的粉料均匀的输送至所述加料机构内。
[0009]在一种可能的实现方式中，所述支架上安装有驱动机构，所述驱动机构的动力输出端与所述加料机构传动连接。
[0010]在一种可能的实现方式中，所述支架上安装有滑动机构，所述驱动机构和所述加料机构安装于所述滑动机构上。
[0011]在一种可能的实现方式中，所述加料机构包括螺杆座，所述螺杆座呈内部中空的倒T形，所述螺杆座水平穿设有螺杆；所述驱动机构的动力输出端通过所述螺杆座的第二端与所述螺杆的第一端传动连接；所述储料罐通过所述螺杆座的第三端将粉料输送至所述螺杆座内；所述螺杆座的第一端与所述螺杆座的第二端处于同一水平面，所述螺杆座的第一端与所述螺杆座的第三端相互垂直。
[0012]在一种可能的实现方式中，所述螺杆座的第一端还安装有接驳波纹管，所述接驳波纹管位于所述螺杆的外周，所述接驳波纹管远离所述螺杆座的一端安装有连接法兰，外部管式炉的进料口上安装有与所述连接法兰相匹配的对接法兰，所述对接法兰与所述连接法兰接驳。
[0013]在一种可能的实现方式中，所述储料罐呈内部中空的漏斗状，所述储料罐的侧壁上连接有至少一个装料口。
[0014]在一种可能的实现方式中，所述搅拌机构包括搅拌电机以及搅拌器，所述搅拌电机安装于所述储料罐的顶部，所述搅拌器位于所述储料罐的内部，所述搅拌电机的动力输出端与所述搅拌器传动连接。
[0015]在一种可能的实现方式中，所述搅拌器呈螺旋状。
[0016]在一种可能的实现方式中，所述驱动机构包括伺服电机，所述伺服电机安装在所述滑动机构上，所述伺服电机的动力输出端通过所述螺杆座的第二端与所述螺杆的第一端传动连接。
[0017]在一种可能的实现方式中，所述驱动机构还包括磁流体旋转密封件，所述磁流体旋转密封件安装在所述滑动机构上；所述伺服电机的动力输出端套设有主动带轮，所述磁流体旋转密封件的动力输入端套设有从动带轮，所述主动带轮与所述从动带轮通过同步带传动连接；所述磁流体旋转密封件的动力输出端通过所述螺杆座的第二端与所述螺杆的第一端传动连接。
[0018]在一种可能的实现方式中，所述磁流体旋转密封件的动力输出端与所述螺杆同轴；所述伺服电机的动力输出端与所述磁流体旋转密封件的动力输入端相互平行。
[0019]在一种可能的实现方式中，所述滑动机构包括至少两组相互平行的滑轨，至少两组所述滑轨安装于所述支架的顶部，至少两组所述滑轨通过至少四组滑块滑动连接有滑台；所述驱动机构以及所述加料机构均安装在所述滑台上。
[0020]本申请提供的技术方案带来的有益效果至少包括：
[0021]通过将覆盖一个工作日或三个班次以上粉末状态的蒸发材料一次性放入储料罐中，在可控的变径、变螺距螺杆的推送下送到工位，实现了在CVD过程中，粉末状态的蒸发材料(如派瑞林)少量、连续进入管式炉以进行后续的加热、升华、裂解工艺，既满足了蒸发材料的用量，又达到了实时动态调整进料量的目的，提升了镀膜效果，并实现了一种以上的蒸发材料复合镀膜的工艺需求。具体地，通过伺服电机驱动的送料变径、变螺距螺杆，实现了可动态调整的进料；通过搅拌电机驱动搅拌器，使储料罐中的粉料处于实时运动中，防止粉料的滞留。
附图说明
[0022]附图用来提供对本申请的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本申请，并不构成对本申请的限制。在附图中：
[0023]图1示出了本申请一个示例性实施例提供的真空镀膜自动加料装置的整体结构示意图；
[0024]图2示出了本申请图1中的A处局部放大结构示意图；
[0025]图中：
[0026]10、支架；11、滑动机构；12、驱动机构；13、加料机构；14、储料罐；15、搅拌机构；
[0027]111、滑轨；112、滑块；113、滑台；
[0028]121、伺服电机；122、磁流体旋转密封件；123、主动带轮；124、从动带轮；125、同步带；
[0029]131、螺杆座；132、螺杆；133、接驳波纹管；134、连接法兰；
[0030]141、装料口；
[0031]151、搅拌电机；152、搅拌器。
具体实施方式
[0032]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0033]其中，相同的零部件用相同的附图标记表示。需要说明的是，下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是本申请说明书附图中的方向，词语“底面”和“顶面”、“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者多个该特征。在本申请说明书的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上。
[0034]下面结合附图和实施例对本申请作更进一步的说明。
[0035]首先，对本申请实施例中涉及的名词进行简单的介绍：
[0036]磁流体旋转密封件，磁流体密封技术是在磁性流体的基础上发展而来的，当磁流体注入磁场的间隙时，它可以充满整个间隙，形成一种“液体的O型密封圈”；磁流体旋转密封件的功能是把旋转运动传本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜自动加料装置，其特征在于，包括支架，所述支架上安装有加料机构，所述加料机构的上方还安装有储料罐，所述储料罐将粉料输送至所述加料机构内，所述加料机构与外部管式炉的进料口接驳；其中，所述储料罐上还安装有搅拌机构，所述搅拌机构将所述储料罐内的粉料均匀的输送至所述加料机构内。2.根据权利要求1所述的真空镀膜自动加料装置，其特征在于，所述支架上安装有驱动机构，所述驱动机构的动力输出端与所述加料机构传动连接。3.根据权利要求2所述的真空镀膜自动加料装置，其特征在于，所述支架上安装有滑动机构，所述驱动机构和所述加料机构安装于所述滑动机构上。4.根据权利要求3所述的真空镀膜自动加料装置，其特征在于，所述加料机构包括螺杆座，所述螺杆座呈内部中空的倒T形，所述螺杆座水平穿设有螺杆；所述驱动机构的动力输出端通过所述螺杆座的第二端与所述螺杆的第一端传动连接；所述储料罐通过所述螺杆座的第三端将粉料输送至所述螺杆座内；所述螺杆座的第一端与所述螺杆座的第二端处于同一水平面，所述螺杆座的第一端与所述螺杆座的第三端相互垂直。5.根据权利要求4所述的真空镀膜自动加料装置，其特征在于，所述螺杆座的第一端还安装有接驳波纹管，所述接驳波纹管位于所述螺杆的外周，所述接驳波纹管远离所述螺杆座的一端安装有连接法兰，外部管式炉的进料口上安装有与所述连接法兰相匹配的对接法兰，所述对接法兰与所述连接法兰接驳。6.根据权利要求1所述的真空镀膜自动加料装置，其特征在于，所述储料罐呈内部中空的漏斗状，所述储料罐的侧壁上连接有至少...

【专利技术属性】
技术研发人员：宗坚，
申请(专利权)人：江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：