一种带分流盘的CVD沉积炉制造技术

本实用新型专利技术公开了一种带分流盘的CVD沉积炉，包括底板，所述底板顶部的左侧栓接有支撑架，所述支撑架的顶部栓接有沉积炉本体，所述沉积炉本体的内腔设置有沉积仓，所述沉积仓的内腔栓接有分流盘，所述沉积炉本体的底部开设有出料口，所述支撑架内部的两侧均栓接有滑道，所述滑道的内部滑动连接有接料盒，所述底板顶部的右侧栓接有散热壳，所述散热壳内腔的左侧栓接有风机；本实用新型专利技术通过设置风机将水帘产生的冷气经过喷头吹向接料盒，具备加速产品冷却速度的功能，通过降温的方式，能够有效的加快产品在出料后的冷却速度，使工作人员能够快速的取走产品，同时也避免了工作人员被烫伤的可能性。伤的可能性。伤的可能性。

【技术实现步骤摘要】
一种带分流盘的CVD沉积炉


[0001]本技术涉及半导体工业
，具体为一种带分流盘的CVD沉积炉。

技术介绍

[0002]作为半导体工业中应用广泛的技术之一，化学气相沉积(CVD)是将含有原材料组分的源气体输入高温沉积炉，通过扩散和对流等机理沉积在预制件上沉积一层固态薄膜并生成成品的工艺过程。在CVD工艺中，沉积炉结构对沉积效率和沉积品质有很大影响。
[0003]现有带分流盘的CVD沉积炉在炉内经过一系列反应沉积之后，反应后得到的产品会收集到接料盒内，但是由于产品在沉积炉内是受高温化学化学反应生成，因此刚刚出料的产品会非常烫，从而导致工作人员无法及时的应对生成的产品进行收集。而且现有带分流盘的CVD沉积炉内部在产生晶体的过程中一下杂质会留在炉体内壁上，传统的沉积炉由于炉盖固定的的结构非常复杂，极难对内部的杂质进行清理，从而大大影响沉积炉的工作效率。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种带分流盘的CVD沉积炉，具备加速产品冷却速度和便于清理沉积仓的优点，解决了现有的带分流盘的CVD沉积炉刚刚出料的产品温度过高工作人员无法取走产品和沉积炉炉盖固定结构太过于繁琐不便于清理内部沉积仓上的杂质的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种带分流盘的CVD沉积炉，包括底板，所述底板顶部的左侧栓接有支撑架，所述支撑架的顶部栓接有沉积炉本体，所述沉积炉本体的内腔设置有沉积仓，所述沉积仓的内腔栓接有分流盘，所述沉积炉本体的底部开设有出料口，所述支撑架内部的两侧均栓接有滑道，所述滑道的内部滑动连接有接料盒，所述底板顶部的右侧栓接有散热壳，所述散热壳内腔的左侧栓接有风机，所述散热壳内腔的右侧栓接有储水盒，所述储水盒的内部栓接有水帘，所述散热壳的左侧连通有输风管，所述输风管的左侧连通有喷头，所述沉积炉本体的顶部插接有炉盖，所述炉盖顶部的左侧栓接有固定架，所述固定架底部的中心处栓接有螺杆，所述螺杆的表面螺纹连接有套筒，所述套筒的表面套接有第一齿轮，所述第一齿轮的左侧啮合有第二齿轮，所述第二齿轮的内部套接有转轴，所述转轴的底部套接有电机。
[0006]本技术进一步设置为，所述固定架表面的左侧滑动连接有两个限位杆，所述限位杆的底部栓接有支架。
[0007]采用上述技术方案：能够在固定架带动炉盖升降打开的过程中起到限位固定的作用。
[0008]本技术进一步设置为，所述炉盖的底部设置有密封层。
[0009]采用上述技术方案：能够起到密封的作用，防止沉积炉本体内的气体流出。
[0010]本技术进一步设置为，所述散热壳的顶部开设有通风网。
[0011]采用上述技术方案：能够持续向散热壳内输送新鲜空气。
[0012]本技术进一步设置为，所述散热壳的右侧开设有拉门。
[0013]采用上述技术方案：能够便于向储水盒的内部添加冷却水。
[0014]本技术进一步设置为，所述接料盒底部的表面栓接有集风罩。
[0015]采用上述技术方案：能够将喷头吹出的冷却风集中到接料盒的底部，节省风能损耗。
[0016]与现有技术相比，本技术的有益效果如下：
[0017]1、本技术通过设置风机将水帘产生的冷气经过喷头吹向接料盒，具备加速产品冷却速度的功能，通过降温的方式，能够有效的加快产品在出料后的冷却速度，使工作人员能够快速的取走产品，同时也避免了工作人员被烫伤的可能性。
[0018]2、本技术通过电机通过固定架带动炉盖的打开和关闭，具备便于清理沉积仓的功能，通过电动升降的方式，能够大大提高炉盖的打开速度，使沉积仓裸露出来，便于工作人员对沉积仓进行清理，同时炉盖与沉积炉本体之间具有较高的密封性。
附图说明
[0019]图1为本技术结构示意图；
[0020]图2为本技术结构剖面示意图；
[0021]图3为本技术图2中A处结构放大示意图；
[0022]图4为本技术图2中B处结构放大示意图。
[0023]图中：1、底板；2、支撑架；3、沉积炉本体；4、沉积仓；5、分流盘；6、出料口；7、滑道；8、接料盒；9、散热壳；10、风机；11、储水盒；12、水帘；13、输风管；14、喷头；15、炉盖；16、固定架；17、螺杆；18、套筒；19、第一齿轮；20、第二齿轮；21、转轴；22、电机；23、限位杆；24、支架；25、密封层；26、通风网；27、拉门；28、集风罩。
具体实施方式
[0024]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0025]实施例1：
[0026]参考图1、图2和图4，一种带分流盘的CVD沉积炉，包括底板1，底板1顶部的左侧栓接有支撑架2，支撑架2的顶部栓接有沉积炉本体3，沉积炉本体3的内腔设置有沉积仓4，沉积仓4的内腔栓接有分流盘5，沉积炉本体3的底部开设有出料口6，支撑架2内部的两侧均栓接有滑道7，滑道7的内部滑动连接有接料盒8，底板1顶部的右侧栓接有散热壳9，散热壳9内腔的左侧栓接有风机10，散热壳9内腔的右侧栓接有储水盒11，储水盒11的内部栓接有水帘12，散热壳9的左侧连通有输风管13，输风管13的左侧连通有喷头14；本技术通过设置风机10将水帘12产生的冷气经过喷头14吹向接料盒8，具备加速产品冷却速度的功能，通过降温的方式，能够有效的加快产品在出料后的冷却速度，使工作人员能够快速的取走产品，同时也避免了工作人员被烫伤的可能性。
[0027]进一步的：散热壳9的顶部开设有通风网26；能够持续向散热壳9内输送新鲜空气。
[0028]进一步的：散热壳9的右侧开设有拉门27；能够便于向储水盒11的内部添加冷却水。
[0029]进一步的：接料盒8底部的表面栓接有集风罩28；能够将喷头14吹出的冷却风集中到接料盒8的底部，节省风能损耗。
[0030]使用过程简述：使用时，当产品从出料口6落入接料盒8后，散热壳9外部的空气通过通风网26进入散热壳9的内部，水帘12在储水盒11内部吸收冷却水后产生凉气，之后风机10工作，风机10将散热壳9内部的冷空气通过输风管13输送进喷头14内，再由喷头14喷向集风罩28内，冷风在集风罩28的内部聚集到接料盒8的底部冷却接料盒8，从而达到加速产品冷却速度的效果。
[0031]实施例2：
[0032]参考图1、图2和图3，一种带分流盘的CVD沉积炉，包括底板1，沉积炉本体3的顶部插接有炉盖15，炉盖15顶部的左侧栓接有固定架16，固定架16底部的中心处栓接有螺杆17，螺杆17的表面螺纹连接有套筒18，套筒18的表面套接有第一齿轮19，第一齿轮19的左侧啮合有第二齿轮2本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种带分流盘的CVD沉积炉，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)顶部的左侧栓接有支撑架(2)，所述支撑架(2)的顶部栓接有沉积炉本体(3)，所述沉积炉本体(3)的内腔设置有沉积仓(4)，所述沉积仓(4)的内腔栓接有分流盘(5)，所述沉积炉本体(3)的底部开设有出料口(6)，所述支撑架(2)内部的两侧均栓接有滑道(7)，所述滑道(7)的内部滑动连接有接料盒(8)，所述底板(1)顶部的右侧栓接有散热壳(9)，所述散热壳(9)内腔的左侧栓接有风机(10)，所述散热壳(9)内腔的右侧栓接有储水盒(11)，所述储水盒(11)的内部栓接有水帘(12)，所述散热壳(9)的左侧连通有输风管(13)，所述输风管(13)的左侧连通有喷头(14)，所述沉积炉本体(3)的顶部插接有炉盖(15)，所述炉盖(15)顶部的左侧栓接有固定架(16)，所述固定架(16)底部的中心处栓接有螺杆(17)，所述螺杆(17)的表面螺纹连...

【专利技术属性】
技术研发人员：王子贤，
申请(专利权)人：东莞市志远半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：