可电解回收的蚀刻溶液制造技术

本发明专利技术涉及一种可电解回收的蚀刻溶液，其特别是用于蚀刻印刷电路板和铜与铜合金的成型件，该蚀刻溶液基本上由一定含量的水、氨、硫酸铜、硫酸铵和任选的用以提高蚀刻速度的含钒催化剂组成，并且该蚀刻溶液还应含有作为额外催化剂的亚甲基蓝或其衍生物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种可电解回收的蚀刻溶液，其特别是用于蚀刻印刷电路板和铜与铜合金的成型件，该蚀刻溶液基本上由一定含量的水、氨、硫酸铜、硫酸铵和任选的用以提高蚀刻速度的含钒催化剂组成。
技术介绍
传统的蚀刻溶液以多种形式和实施方式用于，特别是蚀刻印刷电路板。在制造过程中，加速蚀刻过程也具有很重要的作用，这就要求蚀刻溶液的回收过程也要加快。在一种制备印刷电路板的方法中，利用丝网印刷或利用光学处理方法将电路图涂覆在铜表面上作为光刻胶(Resist)图。然后通过合适的蚀刻剂将未被光刻胶遮盖的铜表面消溶掉。在另一种方法中，对两面印制的印刷电路板进行处理，使得通过金属蚀刻剂将电路(Leiterbahnzüge)和层间连接件(Durchkontaktierung)保护起来。接着，剥去开始时覆上的有机光刻胶并通过合适的蚀刻剂将位于其下的铜消溶掉。以这种方法，电路和层间连接件就能在溶解前受到金属光刻胶的保护。为制备印刷电路板使用基于氨性的铜盐溶液发挥作用的蚀刻溶液。其缺点是，蚀刻速度有限并且无法足够迅速地进行回收过程以再生蚀刻溶液。
技术实现思路
因此本专利技术的任务在于，促进蚀刻速度并能有助于将消耗的本文档来自技高网...

【技术保护点】
可电解回收的蚀刻溶液，其特别是用于蚀刻印刷电路板和由铜与铜合金的成型件，该蚀刻溶液基本上由一定含量的水、氨、硫酸铜、硫酸铵和任选的用以提高蚀刻速度的含钒催化剂组成，其特征在于，蚀刻溶液含有作为额外催化剂的亚甲基蓝或其衍生物。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：SBR内迪，
申请(专利权)人：吉布尔施密德有限责任公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]