公开一种薄膜沉积装置，包括：具有真空腔的反应容器，反应容器内设有能将基片保持于保持面的支架；设置在真空腔的溅射镀膜机构，朝向保持面设置；溅射镀膜机构与支架之间的最小距离小于20cm且大于5cm；溅射镀膜机构包括溅射阴极和安装于溅射阴极上的靶材；靶材具有面对保持面的靶材表面；溅射镀膜机构具有装配状态和可旋转状态；溅射镀膜机构处于装配状态时，靶材表面与保持面平行，形成密闭的真空腔；溅射镀膜机构处于可旋转状态时，溅射镀膜机构可通过旋转使靶材表面能远离保持面并在反应容器的侧壁上形成一开口。本申请的薄膜沉积装置，溅射镀膜机构具有可旋转状态，可使支架、溅射镀膜机构等工作部件灵活方便地被调整、拆卸、安装。安装。安装。
【技术实现步骤摘要】
薄膜沉积装置
[0001]本说明书涉及薄膜制备
，尤其涉及一种薄膜沉积装置。
技术介绍
[0002]溅射镀膜技术是用离子轰击靶材表面，把靶材的原子被击出的现象称为溅射。溅射产生的原子沉积在基体表面成膜称为溅射镀膜。通常是利用气体放电产生气体电离，其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶体，击出阴极靶体原子或分子，飞向被镀基体表面沉积成薄膜。现有的薄膜沉积装置，溅射阴极和靶材在真空腔内的位置固定，真空腔中的工件安装和拆卸过程繁琐。
技术实现思路
[0003]鉴于现有技术的不足，本说明书的一个目的是提供一种薄膜沉积装置，能使溅射镀膜机构具有可旋转状态，可以使支架、溅射镀膜机构等工作部件灵活方便地被调整、拆卸、安装。
[0004]为达到上述目的，本说明书实施方式提供一种薄膜沉积装置，包括：
[0005]具有真空腔的反应容器，所述反应容器内设有能将基片保持于保持面的支架；
[0006]设置在所述真空腔用于对所述基片进行溅射镀膜的溅射镀膜机构，所述溅射镀膜机构朝向所述保持面设置；所述溅射镀膜机构与所述支架之间的最小距离小于20cm且大于5cm；所述溅射镀膜机构包括设置在所述真空腔的与所述真空腔的侧壁相连的溅射阴极、以及安装于所述溅射阴极上的靶材；所述靶材具有面对所述保持面的靶材表面；所述溅射镀膜机构具有装配状态和可旋转状态；所述溅射镀膜机构处于所述装配状态时，所述靶材表面与所述保持面平行，形成密闭的真空腔；所述溅射镀膜机构处于所述可旋转状态时，所述溅射镀膜机构可通过旋转使所述靶材表面能远离所述保持面并在所述反应容器的侧壁上形成一开口。
[0007]作为一种优选的实施方式，所述溅射镀膜机构装配于一用于封堵所述开口的封堵板；所述封堵板的顶部与所述反应容器铰接于所述反应容器的侧壁外；所述溅射镀膜机构的旋转轴垂直于所述支架的旋转轴线。
[0008]作为一种优选的实施方式，所述封堵板和所述反应容器通过铰接机构相铰接，所述铰接机构分别与所述封堵板和所述反应容器的侧壁连接；所述封堵板背离所述溅射镀膜机构的一侧设有把手，所述把手设置在所述封堵板上远离所述铰接机构的一端。
[0009]作为一种优选的实施方式，所述薄膜沉积装置还包括具有锁紧位置和打开位置的锁紧机构；所述锁紧机构位于所述反应容器的侧壁外和所述封堵板背离所述溅射阴极的一侧；
[0010]所述锁紧机构位于所述锁紧位置时将所述封堵板位置锁定，所述溅射镀膜机构承载于所述封堵板上，处于与所述反应容器相对固定的装配状态；所述锁紧机构位于所述打开位置时释放所述封堵板，所述溅射镀膜机构承载于所述封堵板上，处于能相对于所述反
应容器旋转的可旋转状态。
[0011]作为一种优选的实施方式，所述锁紧机构包括卡槽和可移动的卡块；所述卡槽和所述卡块的其中之一设置于所述封堵板上，另一设置于所述反应容器的侧壁外；
[0012]当所述溅射镀膜机构位于装配状态时，所述卡块卡入所述卡槽，从而所述锁紧机构处于所述锁紧位置，使所述溅射镀膜机构保持所述装配状态；当所述卡块移出所述卡槽时，所述锁紧机构处于所述打开位置，此时所述溅射镀膜机构位于所述可旋转状态。
[0013]作为一种优选的实施方式，所述封堵板和所述溅射阴极之间固定连接有连接架；所述连接架具有用于安装所述溅射阴极并与所述靶材表面平行的安装端面。
[0014]作为一种优选的实施方式，所述溅射镀膜机构还包括：
[0015]阴极气体导入端子和阴极气体导入管，所述阴极气体导入端子穿设于所述封堵板，所述阴极气体导入管的一端与所述阴极气体导入端子相连，另一端与所述溅射阴极相连；
[0016]和/或，
[0017]阴极电流导入端子和阴极电流导入电缆，所述阴极电流导入端子穿设于所述封堵板，所述阴极电流导入电缆的一端与所述阴极电流导入端子相连，另一端与所述溅射阴极相连。
[0018]作为一种优选的实施方式，所述溅射镀膜机构还包括冷却组件，所述冷却组件包括冷却剂导入管、冷却剂导出管、冷却剂导入端子和冷却剂导出端子；所述冷却剂导入端子和所述冷却剂导出端子穿设于所述封堵板；所述冷却剂导入管的一端与所述冷却剂导入端子相连，另一端与所述溅射阴极相连；所述冷却剂导出管的一端与所述冷却剂导出端子相连，另一端与所述溅射阴极相连；所述冷却剂导入管和所述冷却剂导出管分别连接于所述溅射阴极相对的两端。
[0019]作为一种优选的实施方式，所述溅射镀膜机构还包括：
[0020]可拆卸地安装在所述封堵板上的第一法兰，所述第一法兰上设置有所述阴极气体导入端子和所述阴极电流导入端子；
[0021]可拆卸地安装在所述封堵板上的第二法兰，所述第二法兰上设置有所述冷却剂导入端子和所述冷却剂导出端子。
[0022]作为一种优选的实施方式，所述薄膜沉积装置还包括：
[0023]设置在所述真空腔用于对所述基片进行蒸发镀膜的蒸发镀膜机构，所述蒸发镀膜机构朝向所述保持面设置；所述蒸发镀膜机构和所述溅射镀膜机构位于所述支架的同一侧；所述支架围绕一竖直旋转轴线旋转；存在一经过所述旋转轴线的纵截面，所述靶材表面在该纵截面的轮廓线与所述保持面在该纵截面上的轮廓线相平行，所述靶材表面的轮廓线与所述保持面的轮廓线之间的距离为10cm～15cm；所述蒸发镀膜机构与所述支架的距离大于所述溅射镀膜机构与所述支架的距离的2倍。
[0024]有益效果：
[0025]本实施方式所提供的薄膜沉积装置，通过在反应容器的真空腔内设置能将基片保持于保持面的支架和朝向保持面设置的溅射镀膜机构，且溅射镀膜机构与支架之间的最小距离小于20cm且大于5cm，从而溅射镀膜机构能有效地对基片进行溅射镀膜。并且，溅射镀膜机构具有可旋转状态，可以使支架、溅射镀膜机构等工作部件灵活方便地被调整、拆卸、
安装。
[0026]参照后文的说明和附图，详细公开了本技术的特定实施方式，指明了本技术的原理可以被采用的方式。应该理解，本技术的实施方式在范围上并不因而受到限制。
[0027]针对一种实施方式描述和/或示出的特征可以以相同或类似的方式在一个或更多个其它实施方式中使用，与其它实施方式中的特征相组合，或替代其它实施方式中的特征。
[0028]应该强调，术语“包括/包含”在本文使用时指特征、整件、步骤或组件的存在，但并不排除一个或更多个其它特征、整件、步骤或组件的存在或附加。
附图说明
[0029]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0030]图1为本实施方式中所提供的一种薄膜沉积装置的结构示意图；
[0031]图2为图1中A
‑
A面的剖面图；
[0032]图3为本实施方式中所提供的一种支本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种薄膜沉积装置，其特征在于，包括：具有真空腔的反应容器，所述反应容器内设有能将基片保持于保持面的支架；设置在所述真空腔用于对所述基片进行溅射镀膜的溅射镀膜机构，所述溅射镀膜机构朝向所述保持面设置；所述溅射镀膜机构与所述支架之间的最小距离小于20cm且大于5cm；所述溅射镀膜机构包括设置在所述真空腔的与所述真空腔的侧壁相连的溅射阴极、以及安装于所述溅射阴极上的靶材；所述靶材具有面对所述保持面的靶材表面；所述溅射镀膜机构具有装配状态和可旋转状态；所述溅射镀膜机构处于所述装配状态时，所述靶材表面与所述保持面平行，形成密闭的真空腔；所述溅射镀膜机构处于所述可旋转状态时，所述溅射镀膜机构可通过旋转使所述靶材表面能远离所述保持面并在所述反应容器的侧壁上形成一开口。2.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置，其特征在于，所述溅射镀膜机构装配于一用于封堵所述开口的封堵板；所述封堵板的顶部与所述反应容器铰接于所述反应容器的侧壁外；所述溅射镀膜机构的旋转轴垂直于所述支架的旋转轴线。3.根据权利要求2所述的薄膜沉积装置，其特征在于，所述封堵板和所述反应容器通过铰接机构相铰接，所述铰接机构分别与所述封堵板和所述反应容器的侧壁连接；所述封堵板背离所述溅射镀膜机构的一侧设有把手，所述把手设置在所述封堵板上远离所述铰接机构的一端。4.根据权利要求2所述的薄膜沉积装置，其特征在于，所述薄膜沉积装置还包括具有锁紧位置和打开位置的锁紧机构；所述锁紧机构位于所述反应容器的侧壁外和所述封堵板背离所述溅射阴极的一侧；所述锁紧机构位于所述锁紧位置时将所述封堵板位置锁定，所述溅射镀膜机构承载于所述封堵板上，处于与所述反应容器相对固定的装配状态；所述锁紧机构位于所述打开位置时释放所述封堵板，所述溅射镀膜机构承载于所述封堵板上，处于能相对于所述反应容器旋转的可旋转状态。5.根据权利要求4所述的薄膜沉积装置，其特征在于，所述锁紧机构包括卡槽和可移动的卡块；所述卡槽和所述卡块的其中之一设置于所述封堵板上，另一设置于所述反应容器的侧壁外；当所述溅射镀膜机构位于装配状态时，所述卡块卡入所述卡槽，从而所述锁紧机构处于所述锁紧位置，使所述溅射镀膜机构保持所述装配状态；当所述卡块移出所述卡槽...
【专利技术属性】
技术研发人员：姜友松，王怀民，杨运，
申请(专利权)人：安徽其芒光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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