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公开一种薄膜沉积装置，包括：具有真空腔的反应容器，反应容器内设有能将基片保持于保持面的支架；设置在真空腔的溅射镀膜机构，朝向保持面设置；溅射镀膜机构与支架之间的最小距离小于20cm且大于5cm；溅射镀膜机构包括溅射阴极和安装于溅射阴极上的靶...
该专利属于安徽其芒光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽其芒光电科技有限公司授权不得商用。

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