具套管的静电消除喷嘴结构制造技术

本实用新型专利技术是提供一种具套管的静电消除喷嘴结构，其主要是该离子放射针与该喷嘴之间置设一套管，以延长该离子放射针尖端周围与该喷嘴之间距距离，当该离子放射针经电晕放电产生正负离子时，可避免该离子放射针的尖端周围与该喷嘴之间产生电弧，进达改善漏电、高温积炭现象，并可抵抗电晕放电所产生的臭氧，以达防止臭氧破坏该喷嘴周围组件，进而改善粉尘现象，且经由该喷嘴将正负离子传导至目标物上，进达中和消除目标物所带的静电的目的。（*该技术在2016年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及的是一种具套管的静电消除喷嘴结构。
技术介绍
如图3所示，是为一般传统静电消除器的结构，其主要是由一高压产生器A、一金属喷嘴B所组成，其中该高压产生器A一端是置设有一进气口A1，另一端则置设一离子放射针A2，该离子放射针A2外套一金属喷嘴B，而该金属喷嘴B置设于该高压产生器A，藉由该离子放射针A2电晕放电释放出正离子、负离子，并透过该金属喷嘴B传导正、负离子至需要消除静电的目标物；然，藉由离子放射针A2电晕放电释放出正离子、负离子必需具备数千伏特高电压，而该金属喷嘴B由于是金属材质所构成，当进气含有湿气时，容易在该离子放射针A2的尖端周围及该金属喷嘴B之间产生电弧C，发生漏电现象，以致损害喷嘴产生粉尘，且电弧C所产生的高温，极易使得放电针尖端产生积炭，而使离子释放的性能劣化；此外，由于电晕放电所产生的高浓度臭氧以及臭氧所衍生出的气体(如一氧化氮、二氧化氮、亚硝酸等)，极易破坏该金属喷嘴B周围产生粉尘；因此，如何将上述缺失加以摒除，改善漏电、积炭、粉尘等问题，即为本案创作人所欲解决的技术困难点的所在。
技术实现思路
本技术的主要目的在于提供一种具套管的静电消除喷嘴结构，其是该离子放射针与该喷嘴之间置设一套管，俾以延长该离子放射针尖端周围与该喷嘴之间距距离，俾当该离子放射针经电晕放电产生正负离子时，俾可避免该离子放射针的尖端周围与该喷嘴之间产生电弧，进达改善漏电、高温积炭现象，并可抵抗电晕放电所产生的臭氧，俾达防止臭氧破坏该喷嘴周围组件，进而改善粉尘现象，且藉由该喷嘴将正负离子传导至目标物上，进达中和消除目标物所带的静电的目的。为实现上述目的，本技术采用的技术方案是一种具套管的静电消除喷嘴结构，包含一离子放射针，该离子放射针是释放正、负离子；一喷嘴，是用以传导正、负离子于目标物，又该喷嘴是接设于该套管一端；一套管，该套管是置设在该离子放射针与喷嘴之间。所述的套管为陶瓷材质。所述的套管为铁氟龙材质。所述的喷嘴为金属管材质。所述的喷嘴为可弯曲金属软管。附图说明图1是本技术的立体示意图；图2是本技术喷嘴置设于可弯曲金属软管的示意图；图3是习用的示意图。附图标记说明A-高压产生器；A1-进气口；A2-放电针；B-金属喷嘴；C-电弧；1-高压产生器；2-离子放射针；3-喷嘴；4-套管；5-可弯曲金属软管；51-外护层。具体实施方式请参阅图1所示，本技术是提供一种具套管的静电消除喷嘴结构，其包含一离子放射针2、一喷嘴3、一套管4，其中该离子放射针2是置设于该高压产生器1的一端，且该离子放射针2是以电晕放电释放正、负离子；该喷嘴3是一端接设于该套管4一端，又该喷嘴3是用以传导正、负离子于目标物；该套管4其是具有绝缘特性，又该套管4是置设于该离子放射针2与该喷嘴3之间，俾以延长该离子放射针2尖端周围与该喷嘴3之间距距离，俾可避免该离子放射针2与该喷嘴3之间产生电弧，且该套管4也可采用具有特殊特性(如耐热、耐高温、耐蚀性..等)的材质(如陶瓷、铁氟龙)；请再参阅图2所示，其是该本技术的另一实施例，该喷嘴3可为可弯曲金属软管5，俾当需要消除静电的目标物其位置有所移动时，俾可机动调整该可弯曲金属软管5，进达改变正、负离子释放的路径，并该可弯曲金属软管5可在外缘被覆外护层51，俾供辅助该可弯曲金属软管5为一保护层，又该可弯曲金属软管5的一端置设一套管4，俾可藉由延长该离子放射针2的尖端周围与该可弯曲金属软管5之间距距离，进而避免该离子放射针2与该可弯曲金属软管5之间产生电弧，进达改善漏电、离子放射针2尖端周围高温积炭的现象，并可抵抗当该离子放射针2透过电晕放电的方式释放正、负离子时，致使该离子放射针2周围产生高浓度臭氧，俾达防止臭氧破坏该喷嘴3周围组件，进而改善粉尘现象；为使本技术更加显现出其进步性与实用性，兹与习用作一比较分析如下习用缺点1、离子放射针的尖端与金属喷嘴之间容易产生电弧发生漏电现象，损害喷嘴。2、漏电产生的高温积炭导致离子释放的性能劣化。3、离子放射针周围的臭氧致使喷嘴周围组件产生粉尘。本技术优点1、避免该离子放射针与该喷嘴之间产生电弧，进而改善漏电。2、改善离子放射针高温积炭现象。3、抵抗高浓度臭氧，进而改善粉尘现象。4、具实用性。5、具工商界及产业界上利用价值。综上所述，以上所述仅为本案的较佳实施例，并非用以限制本技术，若依本技术的构想所作的改变，在不脱离本技术精神范围内，例如对在构形或布置型态加以变换，对在各种变化，修饰与应用，所产生等效作用，均应包含在本案的权利范围内。权利要求1.一种具套管的静电消除喷嘴结构，其特征在于包含一离子放射针，该离子放射针是释放正、负离子；一喷嘴，是用以传导正、负离子于目标物，又该喷嘴是接设于该套管一端；一套管，该套管是置设在该离子放射针与喷嘴之间。2.根据权利要求1所述的一种具套管的静电消除喷嘴结构，其特征在于所述的套管为陶瓷材质。3.根据权利要求1所述的一种具套管的静电消除喷嘴结构，其特征在于所述的套管为铁氟龙材质。4.根据权利要求1所述的一种具套管的静电消除喷嘴结构，其特征在于所述的喷嘴为金属管材质。5.根据权利要求1所述的一种具套管的静电消除喷嘴结构，其特征在于所述的喷嘴为可弯曲金属软管。专利摘要本技术是提供一种具套管的静电消除喷嘴结构，其主要是该离子放射针与该喷嘴之间置设一套管，以延长该离子放射针尖端周围与该喷嘴之间距距离，当该离子放射针经电晕放电产生正负离子时，可避免该离子放射针的尖端周围与该喷嘴之间产生电弧，进达改善漏电、高温积炭现象，并可抵抗电晕放电所产生的臭氧，以达防止臭氧破坏该喷嘴周围组件，进而改善粉尘现象，且经由该喷嘴将正负离子传导至目标物上，进达中和消除目标物所带的静电的目的。文档编号H05F3/06GK2909781SQ20062000133公开日2007年6月6日 申请日期2006年1月25日 优先权日2006年1月25日专利技术者高俊杰 申请人:海丰科技股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具套管的静电消除喷嘴结构，其特征在于：包含：　　　　一离子放射针，该离子放射针是释放正、负离子；　　　　一喷嘴，是用以传导正、负离子于目标物，又该喷嘴是接设于该套管一端；　　　　一套管，该套管是置设在该离子放射针与喷嘴之间。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：高俊杰，
申请(专利权)人：海丰科技股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]