一种多层膜材料、极紫外光反射镜及其制备方法和应用技术

本发明专利技术属于极紫外光光学元件技术领域，具体涉及一种多层膜材料、极紫外光反射镜及其制备方法和应用。本发明专利技术提供的多层膜材料，包括层叠的第一周期单元或第二周期单元，所述第一周期单元包括依次层叠的Nb层、Y层和Si层，所述第二周期单元包括依次层叠的Nb层、第一Y层、Si层和第二Y层；当所述多层膜材料为层叠的第一周期单元时，所述多层膜材料的两表面分别为Nb层和Si层；当所述多层膜材料为层叠的第二周期单元时，所述多层膜材料的两表面分别为Nb层和第二Y层。在Nb层和Si层之间增加Y层能够抑制Nb层和Si层之间的扩散从而提高多层膜材料中Nb层和Si层的边界清晰度，进而提高了多层膜材料对极紫外光的反射率。对极紫外光的反射率。对极紫外光的反射率。

【技术实现步骤摘要】
一种多层膜材料、极紫外光反射镜及其制备方法和应用


[0001]本专利技术属于极紫外光光学元件
，具体涉及一种多层膜材料、极紫外光反射镜及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]极紫外光通常指波长为121nm到10nm的光波，极紫外光存在大量的原子共振线，传统膜材料对极紫外光的折射率实部接近1，即传统膜材料对极紫外光的近正入射的反射率极低。随着X射线的发现及对X射线晶体衍射的了解，Spiller提出了一种极紫外光高反射率元件的设计理论，即用高折射率(层)的材料和低折射率(层)的材料交替镀制成周期多层膜，该多层膜满足布拉格(Bragg)条件。多层膜材料的出现促进了极紫外光的光学发展。
[0003]随着集成电路向小型化和高性能方向的发展，光刻技术成为集成电路重要制作工艺之一，其中极紫外光刻技术为制造超大规模集成电路的关键工艺。极紫外光刻机主要由极紫外光源系统、极紫外光反射系统和照明曝光刻蚀系统组成。极紫外光反射系统中关键的元件为极紫外光反射镜，目前主要以Nb/Si多层膜材料为主要原料制备极紫外光反射镜，以保证极紫外光反射镜对极紫外光具本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多层膜材料，包括层叠的第一周期单元或第二周期单元，所述第一周期单元包括依次层叠的Nb层、Y层和Si层，所述第二周期单元包括依次层叠的Nb层、第一Y层、Si层和第二Y层；当所述多层膜材料为层叠的第一周期单元时，所述多层膜材料的两表面分别为Nb层和Si层；当所述多层膜材料为层叠的第二周期单元时，所述多层膜材料的两表面分别为Nb层和第二Y层。2.根据权利要求1所述多层膜材料，其特征在于，一个第一周期单元中Nb层的厚度为2.45～2.51nm，第一周期单元中Y层的厚度为0.48～0.52nm，第一周期单元中Si层的厚度为3.92～3.96nm。3.根据权利要求1所述多层膜材料，其特征在于，一个第二周期单元中Nb层的厚度为2.22～2.26nm，第二周期单元中第一Y层的厚度为0.48～0.52nm，第二周期单元中Si层的厚度为3.67～3.71nm，第二周期单元中第二Y层的厚度为0.48～0.52nm。4.根据权利要求1所述多层膜材料，其特征在于，所述第一周期单元和第二周期单元的个数独立的为40～60。5.一种极紫外光反射镜，包括基底和基底表面的多层膜，其特征在于，所述多层膜材料由权利要求1～4任一项所述多层膜材料构成；所述基底表面直接与第一周期...

【专利技术属性】
技术研发人员：金宇，朱运平，金长利，陈溢祺，
申请(专利权)人：苏州宏策光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：