陶瓷部件制造技术

陶瓷部件具有：陶瓷制的基材；以及在基材的表面设置的陶瓷制的覆盖层。该陶瓷部件在基材的表面设置有朝向覆盖层突出的多个凸部。另外，相邻的凸部之间的间隔为100μm以上2000μm以下。m以下。m以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】陶瓷部件


[0001]本申请主张2020年8月28日申请的日本专利申请第2020－144920号的优先权。通过参考而将该申请的全部内容都并入本说明书中。本说明书公开一种与陶瓷部件相关的技术。

技术介绍

[0002]日本特开2001－278685号公报(以下称为专利文献1)中公开了一种在陶瓷(碳化硅)制的基材的表面设置有陶瓷(多铝红柱石、氧化锆等)制的覆盖层的陶瓷部件。专利文献1中，对基材表面进行喷砂处理而将基材的表面粗糙度(Rz)调整为20μm以上，由此抑制覆盖层自基材剥离。

技术实现思路

[0003]关于专利文献1的陶瓷部件，通过对基材表面实施粗面化而能够获得以某种程度抑制覆盖层自基材剥离的效果。然而，本专利技术的专利技术人进行了研究，结果可知，如果仅对基材表面实施粗面化，则在反复对陶瓷部件进行加热的过程中，因基材与覆盖层的热膨胀系数差而导致覆盖层自基材剥离。即，能够判明：如果仅对基材表面实施粗面化，则难以获得耐久性高的(长寿命的)陶瓷部件。本说明书的目的在于，提供一种实现耐久性高的陶瓷部件的技术。
>[0004]本说明本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种陶瓷部件，具有：陶瓷制的基材；以及在所述基材的表面设置的陶瓷制的覆盖层，所述陶瓷部件的特征在于，在所述基材的表面设置有朝向所述覆盖层突出的多个凸部，相邻的凸部之间的间隔为100μm以上2000μm以下。2.根据权利要求1所述的陶瓷部件，其特征在于，所述基材与所述凸部的热膨胀率差为10％以下。3.根据权利要求1或2所述的陶瓷部件，其特征在于，所述基材和所述凸部为相同材质的材料。4.根据权利要求1至3中任一项所述的陶瓷部件，其特征在于，所述凸部的突出高度为1μm以上200μm以下。5.根据权利要求1至3中任一项所述的陶瓷部件，其特征在于，所述凸部的突出高度为10μm以上200μm以下。6.根据权利要求1至5中任一项所述的陶瓷部件，其特征在于，所述凸部的宽度为10μm以上200μm以下。7.一种陶瓷部件，具有：陶瓷制的基材；以及在所述基材的表面设置的陶瓷制的覆盖层，所述陶瓷部件的特征在于，在所述基材的表面设置有多个凹部，相邻的凹部之间的间隔为100μm以上2000...

【专利技术属性】
技术研发人员：古宫山常夫，松叶浩臣，
申请(专利权)人：NGK阿德列克株式会社，
类型：发明
国别省市：