一种旋转靶材制造技术

本实用新型专利技术属于磁控溅射靶材领域，具体是涉及到一种旋转靶材，包括靶管，所述靶管包括圆筒部Ⅰ和设置在圆筒部Ⅰ两端的圆筒部Ⅱ，所述圆筒部Ⅰ和圆筒部Ⅱ的外径一致，所述圆筒部Ⅰ的内径小于所述圆筒部Ⅱ的内径，本实用新型专利技术能够很好的解决旋转靶材两端过刻蚀带来的靶材寿命短和利用率低的问题，同时由于保证了任意位置靶管外径的一致，使靶面的磁场强度和磁场均匀性均可以得到有效的保证。匀性均可以得到有效的保证。匀性均可以得到有效的保证。

【技术实现步骤摘要】
一种旋转靶材


[0001]本技术属于磁控溅射靶材领域，具体是涉及到一种旋转靶材。

技术介绍

[0002]常规的磁控溅射用的旋转靶材，一般采用内外径整体统一的直筒结构(例如专利CN201620193858.9
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绑定式磁控溅射旋转靶材)。该结构随着溅射过程的进行，旋转靶材在靠近靶材两端的位置会出现明显的过刻蚀区域，过刻蚀区域的残靶厚度显著小于残靶的平均厚度。过刻蚀区域的残靶厚度限制了靶材的寿命和材料利用率。

技术实现思路

[0003]本技术要解决的技术问题是提供一种同时保证靶材材料利用率、磁场强度和磁场均匀性的旋转靶材。
[0004]本技术提供一种旋转靶材，包括靶管，所述靶管包括圆筒部Ⅰ和设置在圆筒部Ⅰ两端的圆筒部Ⅱ，所述圆筒部Ⅰ和圆筒部Ⅱ的外径一致，所述圆筒部Ⅰ的内径小于所述圆筒部Ⅱ的内径。
[0005]更进一步地，所述圆筒部Ⅰ和圆筒部Ⅱ连接处的内壁平滑过渡。
[0006]更进一步地，本技术还包括背管，所述背管的外壁与所述靶管的内壁适配。
[0007]更进一步地，所述背管两端凸伸出所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种旋转靶材，其特征是，包括靶管(1)，所述靶管(1)包括圆筒部Ⅰ(11)和设置在圆筒部Ⅰ(11)两端的圆筒部Ⅱ(12)，所述圆筒部Ⅰ(11)和圆筒部Ⅱ(12)的外径一致，所述圆筒部Ⅰ(11)的内径小于所述圆筒部Ⅱ(12)的内径。2.如权利要求1所述的旋转靶材，其特征是，所述圆筒部Ⅰ(11)和圆筒部Ⅱ(12)连接处的内壁平滑过渡。3.如权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：来华杭，王正安，郭峰，刘杰，麻春雷，
申请(专利权)人：杭纳半导体装备杭州有限公司，
类型：新型
国别省市：