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本实用新型属于磁控溅射靶材领域，具体是涉及到一种旋转靶材，包括靶管，所述靶管包括圆筒部Ⅰ和设置在圆筒部Ⅰ两端的圆筒部Ⅱ，所述圆筒部Ⅰ和圆筒部Ⅱ的外径一致，所述圆筒部Ⅰ的内径小于所述圆筒部Ⅱ的内径，本实用新型能够很好的解决旋转靶材两端过刻蚀带...
该专利属于杭纳半导体装备（杭州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭纳半导体装备（杭州）有限公司授权不得商用。

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