齐聚反应器入口的污垢防护制造技术

本申请涉及齐聚反应器入口的污垢防护。本文公开了防止齐聚反应器的反应器入口积垢的系统和方法。所述系统和方法涉及围绕反应器入口的至少一部分放置入口套筒，使得惰性材料帘相对于反应器入口的端部的外表面同轴地流动穿过环形空间且进入反应器。穿过环形空间且进入反应器。穿过环形空间且进入反应器。

【技术实现步骤摘要】
齐聚反应器入口的污垢防护
[0001]本申请是分案申请，原申请的申请日为2018年6月5日，申请号为201880036413.1，专利技术名称为“齐聚反应器入口的污垢防护”。


[0002]本公开涉及齐聚反应器的反应器入口的积垢。

技术介绍

[0003]齐聚反应将一种或多种反应物(例如乙烯)转化为一种或多种产物(例如1
‑
己烯)。反应通常在齐聚反应器中进行，在所述齐聚反应器中馈入反应物。反应物通常在与反应器接触时可以与其他组分(例如，其他反应物和/或催化剂)反应。可形成不合需要的副产物(如聚合物)，且在一些情况下，副产物可作为积垢反应器的部分的固体累积。持续需要解决齐聚反应器的积垢。

技术实现思路

[0004]本文公开一种防止反应器入口处积垢的方法，所述方法包含使反应物经由反应器入口流动到反应器中，使得反应物经由反应器入口的端部引入到反应器内部，且使惰性材料相对于反应器入口的端部的外表面同轴地流动到反应器中。
[0005]本文还公开了一种防止反应器入口积垢的系统，设备包含反应器，与反应器连接的反应器入口，使得反应器入口的一端延伸到反应器的内部，以及与反应器连接的入口套筒，使得入口套筒的一端延伸到反应器的内部，其中入口套筒同轴地放置在反应器入口的至少一部分周围，从而在反应器入口的外表面与入口套筒的内表面之间形成环形空间。
附图说明
[0006]以下图式形成本说明书的一部分并且包括在内以进一步展示本专利技术的某些方面。通过参考这些图式中的一个或多个并且结合本文给出的具体方面的详细描述，可更好地理解本专利技术。
[0007]图1说明反应器的剖视图，所述反应器在反应器入口的端部容易积垢。
[0008]图2说明反应器的剖视图，所述反应器在反应器入口的端部容易积垢。
[0009]图3说明可以防止反应器入口积垢的系统的剖视图。
[0010]图4说明可以防止反应器入口积垢的另一系统的剖视图。
[0011]图5说明可以防止反应器入口积垢的另一系统的剖视图。
[0012]图6至图8说明入口套筒和反应器入口的出口平面的替代配置的剖视图。
[0013]图9说明耦合到各种材料源的图3、4或5的系统。
[0014]图10说明图9中所示的替代配置。
[0015]图11说明图9和图10中所示配置的替代配置。
[0016]图12说明图9至11所示配置的替代配置。
[0017]虽然本文中所公开的专利技术容许各种修改和替代形式，但在附图中，仅已借助于例子示出了几个特定方面，并且在下文中进行了详细描述。这些具体方面的图式和详细描述并非旨在以任何方式限制本专利技术概念或所附权利要求的宽度或范围。相反，提供图式和详细的书面描述是为了向所属领域普通技术人员说明本专利技术概念并且使这类人能够制造和使用本专利技术概念。
具体实施方式
[0018]上面描述的图式和下面的具体结构和功能的书面描述并不是为了限制申请人专利技术的范围或所附权利要求的范围。相反，提供图式和书面描述是为了教导所属领域的技术人员制造和使用寻求专利保护的专利技术。所属领域的技术人员将理解，为了清楚和理解，并未描述或示出本专利技术的商业实施例的所有特征。所属领域的技术人员还应了解，结合本专利技术的各方面的实际商业实施例的开发将需要许多特定于实施的决定以实现开发者对商业实施例的最终目标。这类特定于实施的决定可包括并且可能不限于遵守与系统相关的、与业务相关的、与政府相关的和其它约束，这些约束可根据具体实施、位置和时间变化而变化。虽然开发人员的努力在绝对意义上可能是复杂并且耗时的，但是这些努力对于受益于本公开的所属领域的技术人员来说是常规任务。必须理解的是，本文公开和教导的专利技术易于进行多种和各种修改和替代形式。最后，使用单数术语，如但不限于“一(a)”，并不旨在限制项目的数量。同样，为了清楚起见使用关系术语，如但不限于“顶部”、“底部”、“左”、“右”、“上”、“下”、“向下”、“向上”、“侧”等，在具体参考图式时在书面描述中使用，并且不旨在限制本专利技术或所附权利要求的范围。
[0019]在本文公开的系统和方法的范围内，预期与反应器系统相关联的各种设备(例如，阀、泵、储液器、管道、再沸器、冷凝器、加热器、压缩机、控制系统、安全设备等)，虽然为了清楚起见可不示出，但是根据本领域已知的技术借助于本公开可将其包括在各个方面中。
[0020]尽管在选择性齐聚的情形下描述所公开的技术，但预期本专利技术的主题可适用于可容易受由一或多种反应物在反应器入口处引起的积垢影响的任何过程和系统，例如在烯烃聚合反应中。
[0021]现在转向图式，图1和2说明具有可容易受积垢影响的反应器入口110的反应器101的剖视图。可以看出，反应器入口110放置在反应器101的内部102内(即，示出的反应器101的106)，使得一种或多种反应物通过入口110的端部112馈入到反应器101的内部102中。在图1和2中，反应物沿过程流的方向(箭头A)从入口110馈入到反应器101中。入口110内的反应物的流动方向示出为箭头B。
[0022]已发现通过入口110馈入到反应器101中的反应物的云端104可在注入点103处形成。“注入点”被定义为反应物进入反应器101的内部102中的过程流的位置。在不受理论限制的情况下，认为在反应器入口110周围的过程流中的电流可使得云端104在将反应物注射到反应器101的内部102中时形成。云端104可以是反应物的浓缩体积。例如，在选择性齐聚或三聚反应中，可以在注入点103处形成浓缩体积的乙烯单体的云端104。在某些条件下，浓缩体积的反应物会发生反应，形成一种产物(或超过一种产物)，所述产物积聚在反应器入口110的端部112上并弄脏端部112。
[0023]图2示出了反应器入口110的示例性积垢，其可能是不期望的产物105在反应器入
口110的端部112的外表面113上的积聚。在选择性乙烯齐聚的情况下，不期望的产物105可以是乙烯聚合物，其不是反应的目标产物，并且不需要在系统100中的任何地方形成。
[0024]不期望的产物105在反应器入口110上的产生和积累会引起各种问题。例如，不期望的产物105的量可以增加到必须关闭反应器101以进行清洁的量，从而减少所需反应的运行时间。例如，高浓度乙烯与选择性乙烯齐聚催化剂系统的接触可使聚合物积垢成为齐聚物生产中的主要限制因素。另一问题是不期望的产物105的积累还可引起反应器101内的流动问题。流动条件可改变(且因此影响反应条件)，因为过程流与反应器入口110上的不期望的产物105的累积碰撞和/或围绕反应器入口110上的不期望的产物105的累积流动(例如，不期望的产物的累积可导致归因于变窄流动路径面积而增加的流动速度)。不期望的产物105的累积也可能限制反应进行的温度范围。例如，在选择性乙烯齐聚中，尽管选择性齐聚反应可在低于乙烯聚合物的不期望的产物105的熔点的温度下发生，但在高于熔点的温度下操作可能需要减少在反应器入口110的端部112本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防止反应器入口处积垢的方法，所述方法包含：使反应物通过所述反应器入口流入反应器，使得所述反应物通过所述反应器入口的端部被引入所述反应器的内部；以及使惰性材料相对于所述反应器入口的所述端部的外表面同轴地流入所述反应器；其中所述惰性材料经由形成于入口套筒的内表面与所述反应器入口的外表面之间的环形空间相对于所述反应器入口的所述端部的外表面同轴地流动；并且其中所述反应器入口的所述端部的出口平面与所述入口套筒的端部的出口平面间隔开。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述反应物是第一石油化学产品，并且其中所述惰性材料是选自第二石油化学产品、氮、氩或其组合。3.根据权利要求1所述的方法，其中所述反应器是齐聚反应器，其中所述反应物是烯烃，且其中所述惰性材料是关于所述反应器中的齐聚反应的稀释剂。4.根据权利要求1所述的方法，其中所述反应器入口的端部延伸到所述反应器的内部，并且其中入口套筒的端部延伸入所述反应器的内部。5.根据权利要求1所述的方法，其进一步包含：使稀释剂通过所述反应器入口流入所述反应器，使得所述反应物和稀释剂的混合物通过所述反应器入口的所述端部被引入所述反应器的内部，其中通过所述反应器入口流入所述反应器的所述稀释剂是用于所述反应器中的反应的主要稀释剂源，且其中同轴地流入所述反应器中的所述惰性材料是用于所述反应器中的反应的次要稀释剂源。6.根据权利要求1所述的方法，其中所述惰性材料经由环形空间与经由所述反应器入口的所述端部流入所述反应器的所述反应物分开地流入所述反应器。7.根据权利要求1所述的方法，其中所述反应器入口的所述端部延伸到所述入口套筒的外部。8.根据权利要求1所述的方法，其中所述反应器入口的所述端部被包含于所述入口套筒内。9.根据权利要求1所述的方法，其中所述反应器入口的所述端部和所述入口套筒的端部在共同平面中终止。10.根据权利要求1所述的方法，其进一步包含：通过催化剂入口或通过所述反应器...

【专利技术属性】
技术研发人员：S，
申请(专利权)人：切弗朗菲利浦化学公司，
类型：发明
国别省市：