曝光机制造技术

本发明专利技术公开了一种曝光机，所述曝光机具有承载台、光源以及投射系统，所述曝光机中还设置有能量转换件，所述能量转换件用于在所述光源发出的光波进入所述投射系统之前，接收所述光源发出的光波并转换为第一电磁波，所述第一电磁波的波长大于760nm且小于1000nm；和/或所述曝光机中还设置有烘烤模块，所述烘烤模块用于朝所述承载台发射第二电磁波，所述第二电磁波的波长大于760nm且小于1000nm，或所述第二电磁波的波长大于1mm且小于1m。第一电磁波和第二电磁波可对玻璃基板进行烘烤。本发明专利技术通过在曝光机中设置能量转换件或烘烤模块，使曝光机具有了对玻璃基板的烘烤功能，能够使玻璃基板能够在曝光机中进行后烘工序。板能够在曝光机中进行后烘工序。板能够在曝光机中进行后烘工序。

【技术实现步骤摘要】
曝光机


[0001]本专利技术涉及显示装置生产
，特别涉及一种及曝光机。

技术介绍

[0002]随着新型显示技术的快速发展，器件的高度集成化成为未来显示科技的新增长点。在LCD(Li qu i d Crysta l Di sp l ay,液晶显示器)、OLED(Organ i cLi ght
‑
Emitt i ng D i ode，有机激光显示)或mi cro
‑
LED(微米量级LED发光像素单元)显示技术中，现有的驱动电路控制系统或传输系统等都是集成在PCB(Pr i nted Ci rcu i t Board，印刷线路板)或COF(Ch i p On Fi lm，覆晶薄膜)的“芯片”上，再bond i ng连接到玻璃基板上。
[0003]因此，为了节省材料成本，可将外挂芯片系统集成在玻璃基板上。由于将集成电路在玻璃基板上，因此在玻璃基板曝光完后需要进行后烘，但现有的G4.5代线中的曝光机不具有烘烤功能，无法对玻璃基板进行后烘。

技术实现思路

[0004]本专利技术的主要目的是提供一种曝光机，旨在解决现有技术中大尺寸曝光机不具有烘烤功能的技术问题。
[0005]本专利技术提出一种曝光机，具有承载台、光明以及投射系统，所述承载台用于承载玻璃基板，所述投射系统用于将所述光源发出的光处理后投射到承载台；其中
[0006]所述曝光机中还设置有能量转换件，所述能量转换件用于在所述光源发出的光波进入所述投射系统之前，接收所述光源发出的光波并将所述接收的光波转换为第一电磁波，所述第一电磁波的波长大于760nm且小于1000nm；和/或
[0007]所述曝光机中还设置有烘烤模块，所述烘烤模块用于朝所述承载台发射第二电磁波，所述第二电磁波的波长大于760nm且小于1000nm，或所述第二电磁波的波长大于1mm且小于1m。
[0008]在本专利技术的部分实施例中，所述能量转换件为下转换玻片，所述下转换玻片设置于所述光源与所述投射系统的光线传播路径中，以使所述光源发出的光线在达到所述投射系统之前先穿过所述下转换玻片；
[0009]所述下转换玻片由下转换材料制成。
[0010]在本专利技术的部分实施例中，所述能量转换件包括透明基板以及设置于所述透明基板上的下转换材料层，所述透明基板具有相对的第一基板面和第二基板面，所述透明基板设置于所述光源与所述投射系统的光线传播路径中，以使所述光源发出的光线在达到所述投射系统之前依次穿过所述第一基板面和所述第二基板面；其中
[0011]所述第一基板面设置有所述下转换材料层；和/或
[0012]所述第二基板面设置有所述下转换材料层。
[0013]在本专利技术的部分实施例中，所述能量转换件可移动地设置于所述曝光机中，所述能量转换件被配置为在第一位置和第二位置之间移动，当所述能量转换件处于第一位置
时，所述能量转换件位于所述光源与所述投射系统的光线传播路径中，并用于将所述光源发出的光波转换为第一电磁波；
[0014]当所述能量转换件处于第二位置时，所述能量转换件位于所述光源与所述投射系统的光线传播路径外。
[0015]在本专利技术的部分实施例中，所述能量转换件具有相对的第一表面和第二表面，所述第一表面为所述能量转换件靠近所述光源的侧面，所述第二表面为所述能量转换件远离所述光源的侧面；
[0016]所述第一表面为直面，所述第二表面为直面。
[0017]在本专利技术的部分实施例中，所述光源的光轴与所述第一表面之间的夹角为90
°
，所述光源的光轴与所述第二表面之间的夹角为90
°
。
[0018]在本专利技术的部分实施例中，所述能量转换件为矩形结构、扇形结构、圆形结构或三角形结构中的任意一种。
[0019]在本专利技术的部分实施例中，所述烘烤模块为红外线发射器，所述红外线发射器用于朝所述承载台发射所述第二电磁波，所述第二电磁波为红外线，且所述红外线的波长大于760nm且小于1000nm。
[0020]在本专利技术的部分实施例中，所述烘烤模块为微波发射器，所述微波发射器用于朝所述承载台发射所述第二电磁波，所述第二电磁波为微波，所述微波的波长大于1mm且小于1m，所述微波的频率为300MHz～300GHz。
[0021]在本专利技术的部分实施例中，所述光源发出的光波波长小于380nm。
[0022]本专利技术提供的一种曝光机，在曝光机中设置能量转换件和/或烘烤模块，使曝光机中光源发出的光波转换为第一电磁波或由烘烤模块直接发射第二电磁波，通过控制第一电磁波的波长为760nm
‑
1000nm，控制第二电磁波的波长为760nm
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1000nm或1mm
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1m，使第一电磁波或第二电磁波均朝向承载台发射，当第一电磁波或第二电磁波的波长范围为760nm
‑
1000nm时，通过波长为760nm
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1000nm的红外线辐射将能量转换为溶剂分子的热运动，进而去除溶剂，实现后烘工序；另外的，当第二电磁波的波长范围为1mm
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1m时，微波将电磁能转换为溶剂分子的动能，使得分子之间摩擦生热而挥发，从而实现后烘工序。本专利技术通过在曝光机中设置能量转换件或烘烤模块，使曝光机具有了对玻璃基板的烘烤功能，能够使玻璃基板能够在曝光机中进行后烘工序。
附图说明
[0023]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0024]图1为本专利技术的第一种实施例的曝光机的结构示意图；
[0025]图2为本专利技术的第二种实施例的曝光机的结构示意图；
[0026]图3为本专利技术的第三种实施例的曝光机的结构示意图；
[0027]图4为本专利技术的一种实施例的下转换玻片的结构示意图；
[0028]图5为本专利技术的一种实施例的能量转换件的结构示意图；
[0029]图6为本专利技术的另一种实施例的能量转换件的结构示意图。
[0030]附图标记：
[0031]100、光源，200、投射系统，300承载台，301、玻璃基板，400、能量转换件，401
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1、转换层，401
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2、第一透明层，401
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3、第二透明层，402
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1、透明基板，402
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2、下转换材料层；402
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a、第一区域；402
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b、第二区域。
具体实施方式
[0032]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光机，具有承载台、光源以及投射系统，所述承载台用于承载玻璃基板，所述投射系统用于将所述光源发出的光处理后投射到所述承载台，其特征在于，所述曝光机中还设置有能量转换件，所述能量转换件用于在所述光源发出的光波进入所述投射系统之前，接收所述光源发出的光波并将所接收的光波转换为第一电磁波，所述第一电磁波的波长大于760nm且小于1000nm；和/或所述曝光机中还设置有烘烤模块，所述烘烤模块用于朝所述承载台发射第二电磁波，所述第二电磁波的波长大于760nm且小于1000nm，或所述第二电磁波的波长大于1mm且小于1m。2.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述能量转换件为下转换玻片，所述下转换玻片设置于所述光源与所述投射系统的光线传播路径中，以使所述光源发出的光线在达到所述投射系统之前先穿过所述下转换玻片；所述下转换玻片由下转换材料制成。3.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述能量转换件包括透明基板以及设置于所述透明基板上的下转换材料层，所述透明基板具有相对的第一基板面和第二基板面，所述透明基板设置于所述光源与所述投射系统的光线传播路径中，以使所述光源发出的光线能够依次穿过所述第一基板面和所述第二基板面；所述第一基板面设置有所述下转换材料层；和/或所述第二基板面设置有所述下转换材料层。4.根据权利要求2或3所述的曝光机，其特征在于，所述能量转换件可移动地设置于所述曝光机中，所述能量转换件被配置为在第一位置和第二位置之间移动，当所述能量转换件处于第一位置时，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：段淼，李林霜，朱钦富，陈黎暄，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：