基板清洗液、清洗过的基板的制造方法以及器件的制造方法技术

[问题]得到能够清洗基板、并除去微粒的基板清洗液。[解决方案]提供一种基板清洗液，其含有不溶或难溶的溶质(A)、可溶的溶质(B)和溶剂(C)，其中溶剂(C)包含水(C

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板清洗液、清洗过的基板的制造方法以及器件的制造方法


[0001]本专利技术涉及用于清洗基板的基板清洗液、使用其的基板的清洗方法。
[0002]以往，基板的制造工序例如有时会因光刻工序等而产生异物。因此，基板的制造工序有时包括从基板上除去微粒的清洗工序。在清洗工序中，存在向基板供给去离子水(DIW:Deionized water)等清洗液并物理除去微粒的方法、通过药液化学除去微粒的方法等方法。然而，当图案精细化和复杂化时，图案容易受到物理或化学损伤。
[0003]而且，作为基板的清洗工序，正在研究在基板上形成膜，使微粒保持在膜中，然后利用除去液除去膜的方法。当所形成的膜被除去液全部溶解时，可引起保持在膜中的微粒再附着。因此，研究了使形成的膜部分溶解，未溶解的部分以固体状态除去的方法(例如专利文献1和2)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2019
‑
212889号公报
[0007]专利文献2：日本特开2019
‑
212890号公报

技术实现思路

[0008]本专利技术要解决的问题
[0009]专利技术人等认为在基板上形成膜而除去微粒的技术中，目前还存在需要改良的一个或多个课题。这些例如可列举出以下：微粒的除去效率不高；形成的膜未被除去液完全除去，残留在基板上；即使进行用除去液除去后的清洗，仍有膜残留；溶质不能完全溶解在溶剂中、或析出。
[0010]本专利技术是基于前述技术背景而完成的，并提供了一种基板清洗液。
[0011]用于解决问题的手段
[0012]本专利技术的基板清洗液包含不溶或难溶的溶质(A)、可溶的溶质(B)、和溶剂(C)，
[0013]这里，溶剂(C)包含水(C
‑
1)；
[0014]以水(C
‑
1)作为基准，可溶的溶质(B)的含量为0.1～500质量％，
[0015]优选，基板清洗液被滴加到基板上，通过干燥除去溶剂(C)的至少一部分，形成膜，之后利用除去液从基板上除去前述膜；
[0016]优选，不溶或难溶的溶质(A)在除去液中是不溶性或难溶性；和/或
[0017]优选，可溶的溶质(B)在除去液中是可溶性。
[0018]另外，本专利技术还提供了一种清洗过的基板的制造方法，包括以下的工序：
[0019](1)向基板上滴加前述基板清洗液；
[0020](2)除去前述基板清洗液中的溶剂(C)的至少一部分，形成膜；
[0021](3)使基板上的微粒保持在前述膜中；
[0022](4)向前述基板上供给除去液，除去保持有微粒的前述膜。
[0023]另外，本专利技术还提供了一种器件的制造方法，包括前述清洗过的基板的制造方法。
[0024]专利技术的效果
[0025]通过使用本专利技术的基板清洗液，能够实现以下的一个或多个效果。
[0026]能够有效地去除微粒；能够将所形成的膜从基板上充分剥离并除去；由于成为剥离契机的部分存在于膜中，因此能够充分地除去膜；由于不需要溶解大部分膜以除去，因此可以防止保持的微粒的脱离；去除除去液后的清洗能够有效地除去膜；溶质良好地溶解于溶剂中。
附图说明
[0027]图1是示意性地说明本专利技术的基板在清洗中的基板表面的情况的截面图。
具体实施方式
[0028]如下对本专利技术的实施方式进行详细说明。
[0029]定义
[0030]在本说明书中，除非有特别限制或提及，否则遵循本段落所述的定义或例子。
[0031]单数形式包括复数形式，“一个”或“这个”表示“至少一个”。某些概念的要素可以由多种表达，如果描述了其量(例如，质量％或摩尔％)，则该量意味着这些多种的和。
[0032]“和/或”包括要素的所有组合，也包括单独使用。
[0033]当使用“～”或
“‑”
表示数值范围时，它们包含两个端点，单位相同。例如，5～25摩尔％表示5摩尔％以上且25摩尔％以下。
[0034]“Cx
‑
y”、“Cx
‑
Cy”及“Cx”等的记载表示分子或取代基中的碳的数量。例如，C1‑6烷基是指具有1个以上6个以下碳原子的烷基链(甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基等)。
[0035]当聚合物具有多种重复单元时，这些重复单元共聚。这些共聚可以是交替共聚、无规共聚、嵌段共聚、接枝共聚或它们的混合形式。用结构式表示聚合物或树脂时，括号外记载的n或m等表示重复数。
[0036]温度单位使用摄氏度(Celsius)。例如，20度是指摄氏20度。
[0037]添加剂是指具有该功能的化合物本身(例如，如果是碱产生剂，则产生碱的化合物本身)。也可以是将该化合物溶解或分散在溶剂中并添加到组合物中的方式。作为本专利技术的一种方式，优选在本专利技术的组合物中含有这样的溶剂作为溶剂(C)或其他成分。
[0038]<基板清洗液>
[0039]本专利技术的基板清洗液包含不溶或难溶的溶质(A)(以下有时称为(A)成分。(B)后面也同样)、可溶的溶质(B)和溶剂(C)，(C)含有水(C
‑
1)；以水(C
‑
1)为基准，可溶的溶质(B)的含量为0.1～50质量％。优选地，不溶或难溶的溶质(A)不溶于或难溶于除去液。另外，优选可溶的溶质(B)可溶于除去液。
[0040]在本专利技术中，“溶质”不限于溶解在溶剂(C)中的状态，也允许悬浮状态。作为本专利技术的一个优选方式，基板清洗液中所含的溶质、成分和添加剂溶解在溶剂(C)中。认为采用该方式的基板清洗液的埋入性能或膜的均匀性好。
[0041]本专利技术的基板清洗液优选将基板清洗液滴加到基板上，通过干燥除去溶剂(C)的至少一部分，形成膜，然后利用除去液从基板上除去前述膜。
[0042]“形成膜”是指形成一个膜，成为共存于一个膜中的状态。膜的形成的一种方式是
溶质的“固化”。需要说明的是，由基板清洗液得到的膜只要具有能够保持微粒的程度的硬度即可，溶剂(C)无法完全被除去(例如通过汽化)。基板清洗液随着溶剂(C)的挥发逐渐收缩而成为膜。不溶或难溶的溶质(A)和可溶的溶质(B)允许被除去极少量(例如蒸发、挥发)。例如，与原始量相比，允许被除去0～10质量％(优选0～5质量％、更优选0～3质量％、进一步优选0～1质量％、进一步优选0～0.5质量％)。
[0043]没有限制权利范围的意图，不受理论限制，但认为通过前述膜保持基板上的微粒并被后述的除去液剥离，从而微粒被除去。另外，认为膜中的可溶的溶质(B)产生成为膜剥离的契机的部分。认为通过在膜中含有水(C
‑
1)，可以容易地使可溶的溶质(B)从基板剥离，实现高效的剥离。
[0044]<不溶或难溶的溶质(A)>
[0045]本专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种基板清洗液，包含不溶或难溶的溶质(A)、可溶的溶质(B)、和溶剂(C)：其中，溶剂(C)包含水(C
‑
1)；并且以水(C
‑
1)为基准计，可溶的溶质(B)的含量为0.1～500质量％，优选，基板清洗液被滴加到基板上，通过干燥从而除去溶剂(C)的至少一部分，形成膜，之后利用除去液从基板上除去前述膜；优选，不溶或难溶的溶质(A)在除去液中为不溶性或难溶性；和/或优选，可溶的溶质(B)在除去液中为可溶性。2.根据权利要求1所述的基板清洗液，其中，可溶的溶质(B)为包含羧基、磺基、或磷基的物质；优选，可溶的溶质(B)的酸度常数pKA(H2O)为
‑
5～11。3.根据权利要求1或2所述的基板清洗液，其中，溶剂(C)进一步含有有机溶剂(C
‑
2)；优选，有机溶剂(C
‑
2)具有挥发性；和/或优选，有机溶剂(C
‑
2)在1个大气压下的沸点为50～250℃。4.根据权利要求1～3中任一项所述的基板清洗液，其中，不溶或难溶的溶质(A)含有酚醛清漆衍生物、苯酚衍生物、聚苯乙烯衍生物、聚丙烯酸衍生物、聚马来酸衍生物、聚碳酸酯衍生物、聚乙烯醇衍生物、聚甲基丙烯酸衍生物、以及它们的任何组合的共聚物中的至少一种；优选，不溶或难溶的溶质(A)不含有氟和/或硅。5.根据权利要求1～4中任一项所述的基板清洗液，其中，可溶的溶质(B)为促裂成分(B
’
)，促裂成分(B
’
)含有含羧基的烃。6.根据权利要求1～5中任一项所述的基板清洗液，其中，可溶的溶质(B)含有由式(B
‑
1)表示的结构单元；这里，L1为选自单键、C1‑4亚烷基、亚苯基、醚、羰基、酰胺和酰亚胺中的至少一种的连接基，R1为羧基、磺基、或磷基，R2为氢、甲基、或羧基，R3为氢或甲基。7.根据权利要求1～6中任一项所述的基板清洗液，其中，不溶或难溶的溶质(A)在5.0质量％氨水中的溶解性不足100ppm，可溶的溶质(B)在5.0质量％氨水中的溶解性为100ppm以上；优选，溶解性通过在20～35℃(进一步优选25
±
2℃)的条件下，在烧瓶中将100ppm的前述(A)或(B)添加至5.0质量％氨水中，盖上盖，用振荡器振荡3小时，确认(A)或(B)是否溶解
从而求得。8.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：绢田贵史，长原达郎，
申请(专利权)人：默克专利有限公司，
类型：发明
国别省市：