基板清洗液、清洗过的基板的制造方法以及器件的制造方法技术

[问题]得到能够清洗基板、并除去微粒的基板清洗液。[解决方案]提供一种基板清洗液，其含有不溶或难溶的溶质(A)、可溶的溶质(B)和溶剂(C)，其中溶剂(C)包含水(C

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板清洗液、清洗过的基板的制造方法以及器件的制造方法


[0001]本专利技术涉及用于清洗基板的基板清洗液、使用其的基板的清洗方法。
[0002]以往，基板的制造工序例如有时会因光刻工序等而产生异物。因此，基板的制造工序有时包括从基板上除去微粒的清洗工序。在清洗工序中，存在向基板供给去离子水(DIW:Deionized water)等清洗液并物理除去微粒的方法、通过药液化学除去微粒的方法等方法。然而，当图案精细化和复杂化时，图案容易受到物理或化学损伤。
[0003]而且，作为基板的清洗工序，正在研究在基板上形成膜，使微粒保持在膜中，然后利用除去液除去膜的方法。当所形成的膜被除去液全部溶解时，可引起保持在膜中的微粒再附着。因此，研究了使形成的膜部分溶解，未溶解的部分以固体状态除去的方法(例如专利文献1和2)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2019
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212889号公报
[0007]专利文献2：日本特开2019
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>212890号公报本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种基板清洗液，包含不溶或难溶的溶质(A)、可溶的溶质(B)、和溶剂(C)：其中，溶剂(C)包含水(C
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1)；并且以水(C
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1)为基准计，可溶的溶质(B)的含量为0.1～500质量％，优选，基板清洗液被滴加到基板上，通过干燥从而除去溶剂(C)的至少一部分，形成膜，之后利用除去液从基板上除去前述膜；优选，不溶或难溶的溶质(A)在除去液中为不溶性或难溶性；和/或优选，可溶的溶质(B)在除去液中为可溶性。2.根据权利要求1所述的基板清洗液，其中，可溶的溶质(B)为包含羧基、磺基、或磷基的物质；优选，可溶的溶质(B)的酸度常数pKA(H2O)为
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5～11。3.根据权利要求1或2所述的基板清洗液，其中，溶剂(C)进一步含有有机溶剂(C
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2)；优选，有机溶剂(C
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2)具有挥发性；和/或优选，有机溶剂(C
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2)在1个大气压下的沸点为50～250℃。4.根据权利要求1～3中任一项所述的基板清洗液，其中，不溶或难溶的溶质(A)含有酚醛清漆衍生物、苯酚衍生物、聚苯乙烯衍生物、聚丙烯酸衍生物、聚马来酸衍生物、聚碳酸酯衍生物、聚乙烯醇衍生物、聚甲基丙烯酸衍生物、以及它们的任何组合的共聚物中的至少一种；优选，不溶或难溶的溶质(A)不含有氟和/或硅。5.根据权利要求1～4中任一项所述的基板清洗液，其中，可溶的溶质(B)为促裂成分(B
’
)，促裂成分(B
’
)含有含羧基的烃。6.根据权利要求1～5中任一项所述的基板清洗液，其中，可溶的溶质(B)含有由式(B
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1)表示的结构单元；这里，L1为选自单键、C1‑4亚烷基、亚苯基、醚、羰基、酰胺和酰亚胺中的至少一种的连接基，R1为羧基、磺基、或磷基，R2为氢、甲基、或羧基，R3为氢或甲基。7.根据权利要求1～6中任一项所述的基板清洗液，其中，不溶或难溶的溶质(A)在5.0质量％氨水中的溶解性不足100ppm，可溶的溶质(B)在5.0质量％氨水中的溶解性为100ppm以上；优选，溶解性通过在20～35℃(进一步优选25
±
2℃)的条件下，在烧瓶中将100ppm的前述(A)或(B)添加至5.0质量％氨水中，盖上盖，用振荡器振荡3小时，确认(A)或(B)是否溶解
从而求得。8.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：绢田贵史，长原达郎，
申请(专利权)人：默克专利有限公司，
类型：发明
国别省市：