包括辐射电加热器和温度传感器组件的烹调设备制造技术

一种辐射电加热器（２），其被设置用于放置在烹调板（１２）的下方，并且挨着所述烹调板（１２），并和与烹调板分开的加热元件（１４）以及温度传感器组件（２６）协同操作。所述温度传感器组件包括一个由陶瓷材料制成的梁（２８），其被提供在加热器（２）内，并至少部分地跨过加热器在所述加热元件（１４）的上方延伸。所述的梁具有基本上是平面的上表面（３２），被设置面向烹调板（１２），和所述烹调板接触或者紧靠所述烹调板，以及下表面（３４），被设置使得暴露于加热元件的直接辐射。所述平面上表面上提供有电气元件（３６），例如呈膜或箔的形式，具有随着烹调板的温度而改变的电参数。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种包括温度传感器组件的辐射电加热器，这种加热器被设置使得放置在烹调板例如玻璃陶瓷的下方。更具体地说，本专利技术涉及一种这样的加热器，其中提供有具有随温度而改变的电参数的检测元件。
技术介绍
辐射电加热器是熟知的，其被提供在烹调板的下方并且和烹调板接触，所述烹调板一般由玻璃陶瓷材料制成。通常对这种加热器提供机电或者电子形式的热传感器，以便限制烹调板上表面的最大温度。在现有的技术中，把温度检测探针置于加热元件和烹调板的下表面之间的空间内。这种结构的缺点在于，由检测探针获得的温度极大地受热元件的直接辐射的影响，因而不能精确地反应烹调板的上表面的温度。探针的温度一般可以达100-200摄氏度，高于烹调板的上表面的相应的温度。结果，在检测探针和烹调板的上表面之间具有两个温度梯度，即，在检测探针和烹调板的下侧之间的一个温度梯度，以及在烹调板的下侧和其上表面之间的另一个温度梯度。这些温度梯度例如可以随加热器功率密度、加热器的温度分布以及置于烹调板的上表面上的所选择的烹调容器的热载荷的变化而改变。因而，烹调容器影响烹调板的上表面的温度。在这种加热器中使用的温度传感器被设置成在一个本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种辐射电加热器（２），所述加热器被设置使得放置在烹调板（１２）的下方，并且挨着所述烹调板（１２），包括和所述烹调板分开的加热元件（１４）和温度传感器组件（２６），其特征在于，所述温度传感器组件包括一个由陶瓷材料制成的梁（２８），其被提供在加热器（２）内，并至少部分地跨过加热器在所述加热元件（１４）的上方延伸。所述的梁具有基本上是平面的上表面（３２），被设置面向烹调板（１２），以及下表面（３４），被设置使得暴露于加热元件的直接辐射，所述平面上表面上提供有电气元件（３６），所述电气元件具有随着烹调板的温度而改变的电参数。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：比德莱文斯克洛夫特威尔金斯，
申请(专利权)人：塞拉麦斯皮德有限公司，
类型：发明
国别省市：GB[英国]