本发明专利技术是提供一种显示装置，其利用了具备如无机玻璃的特性与如塑料的特性、且耐弯曲性优良的硬质透明基板，积层各种显示装置用电子材料而成。硬质透明基板可使一般式（１）所示的硬化性树脂硬化而得到，而硬化性树脂具有以式（２）所计算的Ｋｐ为０．６８至０．８的紧密构造部位（Ａ）与Ｋｐ未达到０．６８的疏松构造部位（Ｂ），构造部位（Ａ）／（Ｂ）之重量比为０．０１至５．００，且具有至少一个不饱和键而平均分子量为８００至６００００。－｛（Ａ）－（Ｂ）ｍ｝ｎ－（１）（ｍ及ｎ为１以上的整数）Ｋｐ＝Ａｎ．Ｖｗ．ｐ／Ｍｗ（２）（Ａｎ＝阿伏伽德罗常数、Ｖｗ＝范德华体积、ｐ＝密度、Ｍｗ＝分子量、Ｖｗ＝∑Ｖａ、Ｖａ＝４π／Ｒ３－∑１／３πｈｉ２（３Ｒａ－ｈｉ）、ｈｉ＝Ｒａ－（Ｒａ２＋ｄｉ２－Ｒｉ２）／２ｄｉ、Ｒａ＝原子半径、Ｒｉ＝键结原子半径、及ｄｉ＝原子间距离）。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及使用新颖的硬质透明基板取代以往的玻璃基板而积层 显示装置用电子材料而成的显示装置，并且涉及在例如计算机、视听 设备、行动电话、信息和通讯机器、游戏或仿真机器、车上装载的导 航系统等各种领域所使用的显示装置。
技术介绍
随着电子技术的急剧进步，特别是液晶显示装置、触控式面板、 光电领域正在扩大。 一般而言，光电元件是通过将元件形成于具有透 明导电层的玻璃基板上而提供各种用途。然而，玻璃基板重量大，且 当组合在行动型装置上时，由于玻璃基板的比重大，故存在机器重量 变大的问题。因此，轻量化备受期待，而就取代玻璃基板的硬质基板 而言，逐渐采用由强度、透明性、耐热性等较优良的聚丙烯酸酯、聚醚砜(polyethersulfone)、聚碳酸酯等塑料薄片组成的薄片基板。然而，目前这些薄片基板由于厚度为0. lmm左右，因此比以往的 玻璃基板较欠缺刚性。虽然为了赋予刚性可考虑将薄膜加厚，但在一 般得到薄片基板时所采用的溶剂浇铸(casting)法中，由于发泡、平面 性降低、残留溶剂的问题，故实际上制造厚度0.2mm左右为极限。此 外，为了应用于液晶元件，薄片基板的双折射率通常须在20nm以下、 优选的在10nm以下，但塑料成形时，容易受到分子取向而难以制造低 双折射的成形体。因此，有提案例如积层2层双折射率小的薄片的光 学塑料薄片(参照专利文献l)，但在此种薄片中由于为难塑性树脂，故 有刚性小且对耐药性极差的缺点。此外，对光学用薄片虽提案有在基 材薄片的表面层涂布硬化性树脂的(参照专利文献2)，但此种薄片在基 板清洗时，由于根据溶剂不同而在薄片侧面的硬化性树脂有膨润或溶 解的地方，故耐药性差，同时也有基板刚性不足的问题。特别是，由于在光电元件领域中，更加要求高度的光学特性、阻 气(gas barrier)性、导电性、机械强度等。故实际上是使用由具有各 机能的多层或者膜所组成积层构造的基板。已提案有例如，在塑料成 形体上的双面设置硬化覆膜，而在单面设置导电膜，且在另一面设置 金属氧化物覆膜的积层体。然而，在此积层体中，因各层的性质不同 '和密着性的问题等，因此在加热时，在塑料成形体上容易产生龟裂等 问题。另一方面，有用的塑料薄片基板虽能做为玻璃替代基板，但为了 提高利用价值，故不只须为轻量，且也须兼具挠性。换言之，即在以 某个曲率使基板弯曲(使弯曲)时，必须使导电膜上不带有裂痕而确保 导电性。然而，在以往的塑料薄片基板上，有其耐弯曲性不足的问题。日本特开平7 — 36023号公报日本特开平6 — 116406号公报日本特开平2 — 5308号公报
技术实现思路
(专利技术所欲解决的课题)本专利技术的目的是在于提供一种显示装置，其是利用具备如无机玻 璃的强度、透明性、耐热性及尺寸稳定性，同时也具备如塑料的高韧 性及可加工性，且耐弯曲性也优良的硬质透明基板，而积层各种显示 装置用电子材料而成。(解决课题的手段)本专利技术人等为了得到取代以往的玻璃基板的新颖的基板而专心致 力研究后结果发现，使在分子构造中具有自由体积分率不同的紧密构 造部位与疏松构造部位的硬化性树脂硬化，而兼具玻璃基板与塑料薄 片基板所具有的优良性能，且能得到耐弯曲性也优良的硬质透明基板， 而此硬质透明基板较适合代替至今在各种显示装置中所使用的玻璃基 板，才完成本专利技术。换言之，本专利技术是将显示装置用电子材料积层于硬质透明基板而 形成的显示装置；硬质透明基板为可使下述一般式(1)所示的硬化性树 脂硬化而得到，而上述硬化性树脂为具有由下述计算式(2)所计算的堆 砌系数(packing coefficient) Kp在0. 68至0. 8的金属氧化物所构成 的紧密构造部位(A)、与由上述Kp未达到0.68的有机物或有机物与有 机金属氧化物所构成的疏松构造部位(B)，同时构造部位(A) / (B)的重 量比为0.01至5.00，且具有至少一个不饱和键而平均分子量为800 至60000。<formula>formula see original document page 8</formula>(其中，m及n为1以上的整数)<formula>formula see original document page 8</formula>(其中，An-阿伏伽德罗常数(Avogadro constant) 、 Vw二范德华体 积(Van der Waals volume) 、 p二密度、Mw二分子量、Vw=SVa、 Va二4 Jt /R3—2l/3:ihi2(3Ra—hi)、 hi:Ra—(Ra2+di2—Ri2)/2di、 Ra二原子 半径、Ri二键结原子半径、及di二原子间距离)此外，本专利技术的上述显示装置中，紧密构造部位(A)为具有去除下 述一般式(I )的有机物部位的三维多面体构造的金属氧化物部位，疏 松构造部位(B)为由一般式(I )的有机物部位与下述一般式(II)所构 成。<formula>formula see original document page 8</formula>(其中，R为以(a)—R'—0C0—CR、CH2、 (b) —R1 —CR2=CH2或者(c) 一CH《H2表示的不饱和基、烷基、环烷基、环烯基、苯基、氢原子、 烷氧基、或烷基硅氧基，而式(1)中的多个R可互相不同，但至少l个 是包含(a)、 (b)、 (c)的任一者。此外，R'表示亚烷基、亚烯基或亚苯 基，R2表示氢原子或烷基，R3至R7为以(a)-R'-OCO-CR2=CH2、 (b)—R1 — CR2《H2或者(c)一CH二CH2表示的不饱和基、烷基、环垸基、环烯基、苯 基、氢原子、垸氧基、或烷基硅氧基，M为硅、锗、钛、或锆的金属原 子，X为卤素原子、或垸氧基，w为4以上的整数，x、 y及z为满足w 十x + y + z^8的整数；此外，j、 k、及1分别表示0以上的整数)在此，如一般式(I )所示的构造单位中的三维多面体构造骨架的 金属氧化物部位为产生自RSiX3、 MX4或其混合物(其中，R、 M及X与一 般式(I )相同)的水解缩合物的构造单位中的三维多面体构造骨架的 金属氧化物部位、或一般式(II)所示的构造单位为由R3R4R5SiX、R6R7SiX2 或其混合物(其中，W至W及X与一般式(II)相同)的水解缩合物所制造的金属氧化物的链状单位、及与金属原子键结的有机基，是本专利技术 的较理想的状态。此外，在本专利技术中，可按在上述硬化性树脂中调配硅氢(hydrosilyl)化催化剂或自由基引发剂，或者调配硅氢化催化剂与自 由基引发剂两者而形成硬化性树脂组合物后，使此硬化性树脂组合物 硬化而得到硬质透明基板。具体而言，可将如上述进行而调配出的硬 化性树脂组合物，在形成预定形状后使其热硬化或光硬化而得到成形 体(硬质透明基板)。此外，在此硬化性树脂组合物中，调配分子中具 有至少1个硅氢基的可硅氢化的化合物、或调配分子中具有不饱和基 的化合物，或者也可调配两者。 (专利技术的效果)由本专利技术所得到的硬质透明基板因具备如无机玻璃的强度、透明 性、耐热性及尺寸稳定性，同时也具备如塑料的高韧性及可加工性， 且因耐弯曲性也优本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种显示装置，其是将显示装置用电子材料积层于硬质透明基板而形成；硬质透明基板为使下述一般式（１）所示的硬化性树脂硬化而得到，而上述硬化性树脂为具有由以下述计算式（２）所计算的堆砌系数Ｋｐ为０．６８至０．８的金属氧化物所构成的紧密构造部位（Ａ）、与由上述Ｋｐ未达到０．６８的有机物或有机物与有机金属氧化物所构成的疏松构造部位（Ｂ），同时，构造部位（Ａ）／（Ｂ）的重量比为０．０１至５．００，且具有至少一个不饱和键而平均分子量为８００至６００００，－｛（Ａ）－（Ｂ）↓［ｍ］｝↓［ｎ］－（１）（其中，ｍ及ｎ为１以上的整数）Ｋｐ＝Ａｎ．Ｖｗ．ｐ／Ｍｗ（２）（其中，Ａｎ＝阿伏伽德罗常数、Ｖｗ＝范德华体积、ｐ＝密度、Ｍｗ＝分子量、Ｖｗ＝∑Ｖａ、Ｖａ＝４π／Ｒ↑［３］－∑１／３πｈｉ↑［２］（３Ｒａ－ｈｉ）、ｈｉ＝Ｒａ－（Ｒａ↑［２］＋ｄｉ↑［２］－Ｒｉ↑［２］）／２ｄｉ、Ｒａ＝原子半径、Ｒｉ＝键结原子半径、及ｄｉ＝原子间距离）。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：斋藤宪，安藤秀树，北村健一，
申请(专利权)人：新日铁化学株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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