本实用新型专利技术公开了一种真空吸附的加热退火装置，包括：加热平台，具有沿周向布置的密封圈，密封圈凸出加热平台的表面并用于支撑基板，基板在加热平台上的竖直投影能够完全遮挡密封圈；真空吸附组件，设置在加热平台上，密封圈饶设在真空吸附组件外侧，真空吸附组件吸附基板时密封圈受压与加热平台平齐。通过真空吸附基板，以使基板靠近加热平台，使基板挤压密封圈，密封圈受压变形，直至基板与加热平台紧密接触，由于密封圈的密封作用，可使加热平台与基板之间密封连接，避免了密封不严，真空吸盘组件吸附时吸附效果不稳定的问题，从而形成良好的热传导，并且受热均匀，避免因接触不良导致受热不均从而产生的翘曲应变和裂片的问题。题。题。
【技术实现步骤摘要】
一种真空吸附的加热退火装置
[0001]本技术涉及退火工艺
，特别涉及一种真空吸附的加热退火装置。
技术介绍
[0002]太阳能薄膜电池：太阳能薄膜电池又称为“太阳能芯片”或“光电池”，是一种利用太阳光直接发电的光电器件。
[0003]在太阳能薄膜电池生产中需要使用大面积的玻璃基板，而大面积的玻璃基板在加工过程中，为了保证其质量，进一步保证发电设备的使用寿命，需要对大面积的玻璃基板及其上的膜层进行退火工艺，以提高膜层结晶质量。具体的，大面积的玻璃基板加热退火工艺应用广泛，例如：在钙钛矿领域中，在玻璃基板上涂布大面积钙钛矿薄膜，然后对其进行100～150℃退火，完成薄膜结晶；在光刻领域，在玻璃基板上涂布光刻胶后，需要对其进行热退火，蒸发多余的溶剂，等等。
[0004]目前，现有的退火工艺通常采用加热板对大面积的玻璃基板进行加热，以完成退火。
[0005]具体的，将大面积的玻璃基板通过真空吸附的方式吸附在加热板上，具体的，在加热板上设置多个抽气孔，基板放置在加热板上，通过抽真空的方式将基板吸附在台面上，加热板与基板接触以热传导的方式进行传热，完成加热过程。
[0006]但是，采用上述加热方式会存在以下问题：
[0007]一、局部温差：由于基板和加热板属于硬接触，两者之间局部会有缝隙，无法完全密封，导致基板无法完全贴合台面，使得局部无法以热传导方式传热，导致局部温度较低产生温差，继而导致高裂片率；
[0008]二、结晶质量差：温度对钙钛矿结晶过程非常重要，局部温度不均匀会导致结晶质量不一致；尤其是大量分布在加热板表面的抽气孔，孔位置和其它区域会产生较大温差，导致膜层结晶质量较差，无法精细控制成膜。
[0009]三、初始温差大：刚放到加热台上时，因尚未开启吸附，基板和台面之间贴附不良，有部分区域接触，而另一些区域未接触，会在极短时间内产生很大的温差，导致裂片。
[0010]因此，如何缓解温差，以保证基板加热退火效果，是本
人员亟待解决的问题。
技术实现思路
[0011]有鉴于此，本技术提供了一种真空吸附的加热退火装置，保证基板受热均匀，以保证基板的退火效果。同时在真空吸附前密封圈对基板起到支撑作用，避免吸附前基板和加热平台接触而产生温差。
[0012]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[0013]一种真空吸附的加热退火装置，用于对基板加热退火，包括：
[0014]加热平台，所述加热平台上具有沿周向布置的密封圈，所述密封圈凸出所述加热
平台的表面并用于支撑所述基板，且所述基板在所述加热平台上的竖直投影能够完全遮挡所述密封圈；
[0015]真空吸附组件，所述真空吸附组件设置在所述加热平台上，并且所述密封圈饶设在所述真空吸附组件外侧，且所述真空吸附组件吸附所述基板时所述密封圈受压与所述加热平台平齐。
[0016]优选的，上述的真空吸附的加热退火装置中，所述密封圈的形状与所述基板的边缘轮廓相同。
[0017]优选的，上述的真空吸附的加热退火装置中，所述加热平台上具有密封槽，所述密封圈限位卡设或粘接在所述密封槽内；
[0018]且所述密封圈安装在所述密封槽内突出所述加热平台的高度h和所述密封圈的直径D的关系为：
[0019]10％D≤h≤50％D。
[0020]优选的，上述的真空吸附的加热退火装置中，所述真空吸附组件包括：
[0021]用于吸附所述基板的吸附通道，所述吸附通道贯穿所述加热平台；
[0022]真空泵，所述真空泵与所述吸附通道连通。
[0023]优选的，上述的真空吸附的加热退火装置中，所述吸附通道包括：
[0024]刻蚀在所述加热平台上的排气槽；
[0025]与所述排气槽连通的抽气孔，所述抽气孔开设在所述加热平台上，并能够与所述真空泵密封连通，所述抽气孔的直径小于所述排气槽的直径。
[0026]优选的，上述的真空吸附的加热退火装置中，所述真空吸附组件还包括：
[0027]控制所述吸附通道的通断的电磁阀；
[0028]控制组件，所述控制组件与所述电磁阀信号连接。
[0029]优选的，上述的真空吸附的加热退火装置中，所述吸附通道为多个，并沿所述密封圈的周向均匀布置，且所有的所述吸附通道均与所述真空泵连通。
[0030]优选的，上述的真空吸附的加热退火装置中，还包括用于获取所述加热平台温度的温度检测装置，并且所述温度检测装置与所述控制组件信号连接，当所述温度检测装置检测到温度高于预设温度时，所述控制组件控制所述电磁阀导通，所述控制组件控制所述加热平台的加热温度。
[0031]优选的，上述的真空吸附的加热退火装置中，所述加热平台为铝合金板或不锈钢板。
[0032]本技术提供了一种真空吸附的加热退火装置，通过真空吸附基板，以使基板靠近加热平台，使基板挤压密封圈，密封圈受压变形，直至基板与加热平台紧密接触，并且由于密封圈的密封作用，可使加热平台与基板之间密封连接，避免了密封不严，真空吸附组件吸附时吸附效果不稳定的问题，从而形成良好的热传导，并且受热均匀，避免了因受热不均而产生的翘曲应变和接触不良的问题。
[0033]同时在真空吸附前密封圈对基板起到支撑作用，隔开基板和加热平台，避免吸附前基板和加热平台接触而产生温差。
附图说明
[0034]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0035]图1为本技术实施例中公开的真空吸附的加热退火装置的主视图；
[0036]图2为本技术实施例中公开的真空吸附的加热退火装置未抽真空前的侧视图；
[0037]图3为本技术实施例中公开的均真空吸附的加热退火装置未抽真空后的侧视图；
[0038]图4为技术实施例中公开的均匀的加热退火装置的加热平台与第一密封圈的主视剖视图；
[0039]其中，
[0040]1为加热平台、11为密封圈；
[0041]2为连通通道、21为排气槽、22为抽气孔；
[0042]3为基板。
具体实施方式
[0043]本技术公开了一种真空吸附的加热退火装置，保证基板受热均匀，以保证基板的退火效果。
[0044]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0045]以下，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种真空吸附的加热退火装置，其特征在于，用于对基板加热退火，包括：加热平台，所述加热平台上具有沿周向布置的密封圈，所述密封圈凸出所述加热平台的表面并用于支撑所述基板，且所述基板在所述加热平台上的竖直投影能够完全遮挡所述密封圈；真空吸附组件，所述真空吸附组件设置在所述加热平台上，并且所述密封圈饶设在所述真空吸附组件外侧，且所述真空吸附组件吸附所述基板时所述密封圈受压与所述加热平台平齐。2.根据权利要求1所述的真空吸附的加热退火装置，其特征在于，所述密封圈的形状与所述基板的边缘轮廓相同。3.根据权利要求1所述的真空吸附的加热退火装置，其特征在于，所述加热平台上具有密封槽，所述密封圈限位卡设或粘接在所述密封槽内；且所述密封圈安装在所述密封槽内突出所述加热平台的高度h和所述密封圈的直径D的关系为：10％D≤h≤50％D。4.根据权利要求1所述的真空吸附的加热退火装置，其特征在于，所述真空吸附组件包括：用于吸附所述基板的吸附通道，所述吸附通道贯穿所述加热平台；真空泵，所述真空泵与所述吸附通道连通。5.根据权利要求4所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘庆伏，肖平，杨永军，赵志国，赵东明，李新连，付林，
申请(专利权)人：华能新能源股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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