碳酸锂除杂工艺用储罐制造技术

本实用新型专利技术涉及碳酸锂生产技术领域，具体为碳酸锂除杂工艺用储罐，包括罐体，罐体的侧壁下部设置有出料口，罐体的顶面设置有进料口，罐体的底面为下凹面，下凹面中的低点位置设置有排渣口，排渣口处安装有排渣控制阀；罐体的顶面上设置有竖向插入罐体内部吹气管道，吹气管道位于罐体内部的管体上安装有喷嘴；罐体顶面上设置有排气口，排气口处设置有排气阀。利用储罐实现初步除杂后的溶液中未反应完全的除杂剂和金属离子进行深度反应，降低除杂剂的加入量，并通可过吹气的方式以及罐底预留晶种的方式加快反应速率；此外深度反应后可实现沉锂工序前金属离子杂质满足要求，无需再加入EDTA进行络合反应。入EDTA进行络合反应。入EDTA进行络合反应。

【技术实现步骤摘要】
碳酸锂除杂工艺用储罐


[0001]本技术涉及碳酸锂生产
，特别是涉及一种碳酸锂除杂工艺用储罐。

技术介绍

[0002]电池级碳酸锂作为加工生产锂电池材料的基础原料，其市场需求量不断增大，同时品质要求不断提高，特别对产品中钠、硫酸根、铁、镁、铝等对电池化学性能有较大的影响的杂质要求更加严格，因此，除杂工序成为电池级碳酸锂制备的重要过程。
[0003]现有碳酸锂除杂工艺为：将浸出净化后的硫酸锂溶液加入到除杂釜中，之后向除杂釜内加入除杂剂，具体为加入氢氧化钠去除铁离子、铝离子、镁离子后再加入碳酸钠去除钙离子进而完成初步除杂，初步除杂后的溶液经精密过滤机过滤后排入已经配置好碳酸钠饱和溶液的结晶釜中进行沉锂，最终沉锂完成后向结晶釜中加入EDTA络合出溶液中剩余的金属离子。
[0004]然而，初步除杂过程中生成氢氧化物和碳酸钙并完成沉淀均需要较长时间，并且微量的钙生成沉淀过程中在没有晶种介入以及碳酸根不严重过量的条件下，很难形成沉淀，因此加入除杂剂的量需要远超出理论需要量；此外，络合反应后结晶釜内上层溶液中锂含量较高需回用到前工序中，但是，部分络合金属离子会随着上层溶液一同回用回到前工序中，而随着络合物的逐渐增长会使硫酸锂溶液变色，同时络合物的长期累积也会降低除杂效率。

技术实现思路

[0005]针对上述问题，本技术实施例提供了一种碳酸锂除杂工艺用储罐。
[0006]本技术实施的一方面，提供了一种碳酸锂除杂工艺用储罐，包括罐体，罐体的侧壁下部设置有出料口，罐体的顶面设置有进料口，进料口与精密过滤机的出料口通过管道连通，出料口与结晶釜的进料口通过管道连通，罐体的底面为下凹面，下凹面中的低点位置设置有排渣口，排渣口处安装有排渣控制阀；罐体的顶面上设置有竖向插入罐体内部吹气管道，吹气管道位于罐体内部的管体上安装有喷嘴；罐体顶面上设置有排气口，排气口处设置有排气阀。
[0007]与现有技术相比，本技术的有益效果在于：利用本方案储罐进行除杂时，初步除杂过程中可根据杂质含量进行计算所需除杂剂的量并加到除杂釜中，初步除杂后的溶液进入罐体进行存储，存储过程中通过吹气管道向溶液内吹入气体使得溶液慢慢搅动，使得初步除杂后的溶液中未反应完全的除杂剂和金属离子在储罐内进行进一步的深度反应，深度反应一定时间后停止吹气，静止使得反应产生的沉淀物沉淀，沉淀物达到一定量之后由排渣口排出，且排渣时在罐底保留少量沉淀物作为下次深度反应的晶种用以加快反应速率；沉淀完成后通过排料口将上层溶液排入结晶釜内沉锂。利用储罐实现初步除杂后的溶液中未反应完全的除杂剂和金属离子进行深度反应，降低除杂剂的加入量，并通过吹气的方式以及罐底预留晶种的方式加快反应速率；并且深度反应后实现沉锂工序前金属离子杂
质满足要求，无需再加入EDTA进行络合反应。
[0008]可选的，吹气管道设置有多个，且以罐体轴线为中心线对称分布。
[0009]可选的，各个吹气管道上竖向间隔安装有多个喷嘴，所有喷嘴的朝向均为以罐体轴线为中心线的圆柱面的切线方向。
[0010]可选的，喷嘴为鸭嘴型。
附图说明
[0011]此处所说明的附图用来提供对本技术的进一步理解，构成本申请的一部分，并不构成对本技术的限定。在附图中：
[0012]图1为本技术实施例提供的一种碳酸锂除杂工艺用储罐的结构示意图；
[0013]图2为本技术实施例提供的一种碳酸锂除杂工艺用储罐的俯视结构示意图。
[0014]其中，罐体1、出料口2、进料口3、排渣口4、吹气管道5、喷嘴6、排气口7。
具体实施方式
[0015]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施方式和附图，对本技术做进一步详细说明。在此，本技术的示意性实施方式及其说明用于解释本技术，但并不作为对本技术的限定。
[0016]参见图1和图2，本技术实施例提供的碳酸锂除杂工艺用储罐，包括罐体1，罐体1的侧壁下部设置有出料口2，罐体1的顶面设置有进料口3，进料口3与精密过滤机的出料口通过管道连通，出料口2与结晶釜的进料口通过管道连通，罐体1的底面为下凹面，下凹面中的低点位置设置有排渣口4，排渣口4处安装有排渣控制阀；罐体1 的顶面上设置有竖向插入罐体1内部吹气管道5，吹气管道5位于罐体1内部的管体上安装有喷嘴6；罐体1顶面上设置有排气口7，排气口处设置有排气阀。
[0017]实施中，吹气管道5设置有多个，且以罐体1轴线为中心线对称分布；各个吹气管道5上竖向间隔安装有多个喷嘴6，所有喷嘴6的朝向均为以罐体1轴线为中心线的圆柱面的切线方向，各个吹气管道5上喷嘴6可按照顺时针排布，对溶液实现顺时针侧吹朝着同一方向搅动；喷嘴6为鸭嘴型。
[0018]应用本方案储罐进行碳酸锂除杂工艺为：浸出净化后的硫酸锂溶液加入到除杂釜中，根据除杂釜中金属离子杂质的含量加入相应剂量除杂剂进行初步除杂，初步除杂后的溶液经过精密过滤机过滤后排入储罐内，待储罐的罐体内注满溶液后，通过吹气管道向罐体内溶液吹入气体使得溶液慢慢搅动，使得初步除杂后的溶液中未反应完全的除杂剂和金属离子杂质进行深度反应，利用气体搅动能够加快离子反应速率，使得除杂更彻底；深度反应20小时后停止吹气，使得深度反应产生的沉淀物静止沉淀，静止4小时后，由出料口将沉淀后的上层溶液排入结晶釜中沉锂；罐体内下部沉淀物可以作为下次深度反应除杂的晶种，加快沉淀物析出，晶种达到一定数量之后由排渣口排出，且排渣时需在罐底保留少量沉淀物；
[0019]利用储罐使得初步除杂后的溶液中未反应完全的除杂剂和金属离子杂质进行进一步的深度反应，并且罐底预留沉淀物作为晶种能够加快沉淀物析出，无需在除杂釜中加入过量除杂剂；此外，经过进一步深度反应能够使得溶液中金属离子含量达到要求，无需在
沉锂完成后加入EDTA络合出溶液中剩余的金属离子即可回用。
[0020]以上所述仅为本技术的较佳实施例而已，并非用于限定本技术的保护范围。凡在本技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换、改进等，均包含在本技术的保护范围内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种碳酸锂除杂工艺用储罐，包括罐体，罐体的侧壁下部设置有出料口，罐体的顶面设置有进料口，进料口与精密过滤机的出料口通过管道连通，出料口与结晶釜的进料口通过管道连通，其特征在于，罐体的底面为下凹面，下凹面中的低点位置设置有排渣口，排渣口处安装有排渣控制阀；罐体的顶面上设置有竖向插入罐体内部吹气管道，吹气管道位于罐体内部的管体上安装有喷嘴；罐体顶面上设置有排气口，排气口处设置有排...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘久传，才利民，陈圆，侯磊，李闯，郜丽慧，郜铁军，张宝森，
申请(专利权)人：辽宁虹京实业有限公司，
类型：新型
国别省市：