排气组件以及具备其的液体处理装置及基板处理设备制造方法及图纸

本发明专利技术的实施例提供能够在将气体向外部排出的排气过程中使气流稳定地形成的排气组件以及具备其的液体处理装置以及基板处理设备。根据本发明专利技术的排气组件，用于排出在基板处理工艺中产生的气体，所述排气组件包括：至少两个进气口，被流入所述气体；主体部，与所述进气口连通，并提供用于排出所述气体的对称路径；导向部，在所述主体部中为了引导所述气体的流动而设置；以及排气口，排出所述气体。所述导向部包括：流动导向件，与所述进气口中的至少一个相邻地设置，并引导所述气体的方向以使得所述气体的流动均匀地分开；以及流量导向件，设置于所述进气口中的与所述排气口最相邻的进气口的周边而形成为缩减所述气体的流动路径的截面面积。路径的截面面积。路径的截面面积。

【技术实现步骤摘要】
排气组件以及具备其的液体处理装置及基板处理设备


[0001]本专利技术涉及排气组件以及具备其的液体处理装置及基板处理设备，更具体地涉及用于排出基本处理工艺中产生的气体的排气组件以及具备其的液体处理装置及基板处理设备。

技术介绍

[0002]半导体(或者显示器)制造工艺作为用于在基板(例：晶圆)上制造半导体元件的工艺，例如包括曝光、蒸镀、蚀刻、离子注入、清洗等。尤其，可以执行将处理液供应于基板上而去除基板上的颗粒的工艺或在基板上形成液膜的工艺之类液体处理工艺。
[0003]在这样的液体处理工艺的情况下，由于基板上的化学反应可能产生气体，特定工艺之后残留的气体可能影响下一道工艺。因此，可以构成用于向外部排出残留的气体的排气系统。
[0004]另一方面，在将气体向外部排出的过程中，若气流不稳定地形成且在特定区间气压过高或气流停滞，则如产生烟雾(Fume)那样可能无法顺畅地执行整体的气体排出过程。

技术实现思路

[0005]因此，本专利技术的实施例提供能够在将气体向外部排出的排气过程中使气流稳定地形成的排气组件以及具备其本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种排气组件，用于排出在基板处理工艺中产生的气体，其特征在于，所述排气组件包括：至少两个进气口，被流入所述气体；主体部，与所述进气口连通，并提供用于排出所述气体的对称路径；导向部，在所述主体部中为了引导所述气体的流动而设置；以及排气口，排出所述气体，所述导向部包括：流动导向件，与所述进气口中的至少一个相邻地设置，并引导所述气体的方向以使得所述气体的流动均匀地分开；以及流量导向件，设置于所述进气口中的与所述排气口最相邻的进气口的周边而形成为缩减所述气体的流动路径的截面面积。2.根据权利要求1所述的排气组件，其特征在于，所述进气口非对称地配置于执行所述基板处理工艺的空间的周边。3.根据权利要求1所述的排气组件，其特征在于，所述主体部形成为通过所述进气口流入的气体能够朝向所述排气口向双向流动。4.根据权利要求3所述的排气组件，其特征在于，所述主体部形成为在中心形成的圆形的开口部提供在中心形成的圆形的路径。5.根据权利要求1所述的排气组件，其特征在于，所述流动导向件包括：第一流动导向件，在所述进气口的周边将所述气体的流动向所述主体部的第一方向引导；以及第二流动导向件，在所述进气口的周边将所述气体的流动向所述主体部的第二方向引导。6.根据权利要求5所述的排气组件，其特征在于，所述第一流动导向件以及所述第二流动导向件由彼此隔开一定间隔的隔墙构成。7.根据权利要求1所述的排气组件，其特征在于，所述流量导向件在所述进气口中的与所述排气口最相邻的进气口周边由缩窄所述气体流动的路径的隔墙构成。8.一种液体处理装置，其特征在于，包括：卡盘，被安放基板；碗，用于回收从所述基板飞散的药液；以及排气组件，用于排出在所述基板的处理工艺中产生的气体，所述排气组件包括：至少两个进气口，被流入所述气体；主体部，与所述进气口连通，并提供用于排出所述气体的对称路径；导向部，在所述主体部中为了引导所述气体的流动而设置；以及排气口，排出所述气体，所述导向部包括：流动导向件，与所述进气口中的至少一个相邻地设置，并引导所述气体的方向以使得
所述气体的流动均匀地分开；以及流量导向件，设置于所述进气口中的与所述排气口最相邻的进气口的周边而形成为缩减所述气体的流动路径的截面面积。9.根据权利要求8所述的液体处理装置，其特征在于，所述进气口非对称地配置于所述碗的周边。10.根据权利要求8所述的液体处理装置，其特征在于，所述主体部形成为通过所述进气口流入的气体能够朝向所述排气口向双向流动。11.根据权利要求10所述的液体处理装置，其特征在于，所述主体部形成为在中心形成...

【专利技术属性】
技术研发人员：金耿民，朴仁煌，朴舟楫，梁贤真，李智炯，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：