建立光学邻近校正模型的方法及光学邻近校正的方法技术

本申请公开了一种建立光学邻近校正模型的方法及光学邻近校正的方法。该建立光学邻近校正模型的方法，包括：针对设计好的各图案，根据各图案之间的密切系数来划分图案组；分别为划分好的每个图案组建立相匹配的光学邻近校正模型；其中，密切系数包括图案形状异同、图案密度、图案与自身周围图案的距离以及图案功能异同中的至少一个参数。本公开的建立光学邻近校正模型的方法，根据各图案之间的密切系数来划分图案组，分别为划分好的每个图案组建立相匹配的光学邻近校正模型，大大提高了各图案组所对应的光学邻近校正模型的匹配度，从而能够实现在利用各光学邻近校正模型对相匹配的图案组进行图案模型化时降低图案模型化时产生的误差和不良率。的误差和不良率。的误差和不良率。

【技术实现步骤摘要】
建立光学邻近校正模型的方法及光学邻近校正的方法


[0001]本公开涉及半导体
，具体涉及一种建立光学邻近校正模型的方法及光学邻近校正的方法。

技术介绍

[0002]在半导体产品制造业中，在图案化阶段体现半导体产品的设计存在诸多限制。在掩模、光刻胶、工艺条件等方面出现分辨率(Resolution)不足的状况时，设计好的图案可能无法形成(实现)。随着半导体密集度的增加，通过光刻技术形成的图案尺寸越来越小。但是，实际形成的图案由于各种原因与原设计不符，因此出现许多不良的情况
[0003]为了克服这样的弱点，要进行OPC(Optical Proximity Correction，光学邻近校正)的工作。OPC就是为了按照想要的图案设计，校正使其准确成型。但在单一的层中，半导体芯片内所有图案都使用同一个OPC模型进行模型化，这样就容易导致在特定部位所采用的OPC模型不准确，这是一个重大缺陷。如图1和图2所示，在设计好的芯片上，三个不同的图案组Group A、Group B和Group C均采用了相同的OPC模型Model A，这样容易产生OPC模型与图案组不相符的情况，导致图案模型化出现较大误差和不良率，如图2所示，纵向坐标代表理想的图案和实际的图案之间的差异，将Model A作为标准模型，则Group A、Group B和Group C均采用Model A进行图案模型化时，Group B和Group C的图案模型化出现了较大的误差。

技术实现思路

[0004]本公开的目的是提供一种建立光学邻近校正模型的方法及光学邻近校正的方法。为了对披露的实施例的一些方面有一个基本的理解，下面给出了简单的概括。该概括部分不是泛泛评述，也不是要确定关键/重要组成元素或描绘这些实施例的保护范围。其唯一目的是用简单的形式呈现一些概念，以此作为后面的详细说明的序言。
[0005]根据本公开实施例的第一个方面，提供一种建立光学邻近校正模型的方法，包括：
[0006]针对设计好的各图案，根据所述各图案之间的密切系数来划分图案组；
[0007]分别为划分好的每个图案组建立相匹配的光学邻近校正模型；
[0008]其中，所述密切系数包括图案形状异同、图案密度、图案与自身周围图案的距离以及图案功能异同中的至少一个参数。
[0009]根据本公开实施例的第二个方面，提供一种光学邻近校正的方法，包括：
[0010]上述第一个方面的建立光学邻近校正模型的方法的步骤；
[0011]分别利用与各所述图案组相匹配的光学邻近校正模型对各所述图案组进行光学邻近校正。
[0012]根据本公开实施例的第三个方面，提供一种建立光学邻近校正模型的装置，包括：
[0013]划分模块，用于针对设计好的各图案，根据所述各图案之间的密切系数来划分图案组；
[0014]建模模块，用于分别为划分好的每个图案组建立相匹配的光学邻近校正模型；
[0015]其中，所述密切系数包括图案形状异同、图案密度、图案与自身周围图案的距离以及图案功能异同中的至少一个参数。
[0016]根据本公开实施例的第四个方面，提供一种光学邻近校正的装置，包括：
[0017]上述第三个方面的建立光学邻近校正模型的装置；
[0018]校正模块，用于分别利用与各所述图案组相匹配的光学邻近校正模型对各所述图案组进行光学邻近校正。
[0019]根据本公开实施例的第五个方面，提供一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的第一程序和/或第二程序；
[0020]所述处理器执行所述第一程序，以实现第一个方面所述的建立光学邻近校正模型的方法，
[0021]和/或，
[0022]所述处理器执行所述第二程序，以实现第二个方面所述的光学邻近校正的方法。
[0023]根据本公开实施例的第六个方面，提供一种计算机可读存储介质，其上存储有第一程序和/或第二程序，
[0024]所述第一程序被处理器执行，以实现第一个方面所述的建立光学邻近校正模型的方法，
[0025]和/或，
[0026]所述第二程序被处理器执行，以实现第二个方面所述的光学邻近校正的方法。
[0027]本公开实施例的其中一个方面提供的技术方案可以包括以下有益效果：
[0028]本公开实施例提供的建立光学邻近校正模型的方法，针对设计好的各图案，根据各图案之间的密切系数来划分图案组，分别为划分好的每个图案组建立相匹配的光学邻近校正模型，从而大大提高了各图案组所对应的光学邻近校正模型的匹配度，从而能够实现在利用各光学邻近校正模型对相匹配的图案组进行图案模型化时大大降低图案模型化时产生的误差和不良率。
[0029]本公开的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者，部分特征和优点可以从说明书中推知或毫无疑义地确定，或者通过实施本公开实施例了解。本公开的目的和其他优点可通过在所写的说明书、权利要求书、以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
[0030]为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0031]图1示出了设计好的图案所构成的三个图案组的示意图；
[0032]图2示出了采用现有技术的方法对图1的三个图案组进行图案模型化之后理想的图案和实际的图案之间的误差柱状图；
[0033]图3示出了本公开的一个实施例的建立光学邻近校正模型的方法流程图；
[0034]图4示出了图3所示实施例中的根据各图案之间的密切系数来划分图案组的一个实施方式的流程图；
[0035]图5示出了图3所示实施例中的根据各图案之间的密切系数来划分图案组的另一实施方式的流程图；
[0036]图6示出了图3所示实施例中的根据各图案之间的密切系数来划分图案组的另一实施方式的流程图；
[0037]图7示出了图3所示实施例中的根据各图案之间的密切系数来划分图案组的另一实施方式的流程图；
[0038]图8示出了图3所示实施例中的根据各图案之间的密切系数来划分图案组的一个实施方式的示意图；
[0039]图9示出了图3所示实施例中的根据各图案之间的密切系数来划分图案组的另一实施方式的示意图；
[0040]图10示出了本公开的另一个实施例的光学邻近校正的方法流程图；
[0041]图11示出了采用图10所示实施例的光学邻近校正的方法对图1的三个图案组进行图案模型化之后理想的图案和实际的图案之间的误差柱状图。
具体实施方式
[0042]以下，将参照附图来描述本公开的实施例。但是应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本公开的范围。此外，在以下说本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种建立光学邻近校正模型的方法，其特征在于，包括：针对设计好的各图案，根据所述各图案之间的密切系数来划分图案组；分别为划分好的每个图案组建立相匹配的光学邻近校正模型；其中，所述密切系数包括图案形状异同、图案密度、图案与自身周围图案的距离以及图案功能异同中的至少一个参数。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述各图案之间的密切系数来划分图案组，包括：从所述设计好的各图案中选定一个初始图案，以所述初始图案作为图案组合；从所述图案组合周围的图案中选择一个备选图案加入所述图案组合；所述备选图案为与所述图案组合的中心点的距离小于预设阈值的图案；计算加入所述备选图案后的图案组合的图案密度；若计算得到的图案密度小于或等于预设密度阈值，则确定将所述备选图案留在所述图案组合内；否则，将所述备选图案从所述图案组合中排除；转向从所述图案组合周围的图案中选择一个备选图案加入所述图案组合，直至所述图案组合周围的图案中不存在备选图案为止，将得到的图案组合作为一个图案组。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述各图案之间的密切系数来划分图案组，包括：将图案形状相同的图案划分为同一个图案组。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述各图案之间的密切系数来划分图案组，包括：将图案功能相同的图案划分为同一个图案组。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述各图案之间的密切系数来划分图案组，包括：从所述设计好的各图案中选择一个参考图案，计算所述参考图案与自身周围图案的距离；将与所述参考图案的距离小于或等于预设距离阈值的图案与所述参考图案划分为同一个图案组；转向所述从所述设计好的各图案中选择一个参考图案，直至所有所述图案均划分完毕为止。6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述根据所述各图案之间的密切系数来划分图案组，还包括：在所有所述图案均划分完毕后，若存在多于一个的孤立图案组，则根据所述图案形状异同和/或图案功能异...

【专利技术属性】
技术研发人员：李其衡，粟雅娟，董立松，张利斌，陈睿，苏晓菁，
申请(专利权)人：真芯北京半导体有限责任公司，
类型：发明
国别省市：