记录有指令的非瞬态计算机可读介质制造技术

本文描述了在其上记录有指令的非瞬态计算机可读介质，指令被实施用于评估设计布局的所选图案集合的方法。方法包括：获得(i)由图案选择过程产生的第一图案集合，(ii)与第一图案集合相关联的第一图案数据，(iii)与第一图案数据相关联的特性数据，以及(iv)与第二图案集合相关联的第二图案数据。机器学习模型基于特性数据来训练，其中机器学习模型被配置为预测输入图案的图案数据。第二图案集合被输入到经训练的机器学习模型，以预测第二图案集合的第二图案数据。第一图案集合通过比较第二图案数据和预测的第二图案数据来评估。据和预测的第二图案数据来评估。据和预测的第二图案数据来评估。

【技术实现步骤摘要】
记录有指令的非瞬态计算机可读介质


[0001]本文的描述大体上涉及改进量测测量和光刻相关过程。更具体地，用于为图案化过程中使用的量测测量值或训练模型评估图案集合的设备、方法和计算机程序产品。

技术介绍

[0002]光刻投影设备可以例如在集成电路(IC)的制造中使用。在这种情况下，图案形成装置(例如掩模)可以包含或提供与IC的单个层相对应的图案(“设计布局”)，并且通过诸如通过图案形成装置上的图案照射目标部分等方法，该图案可以被转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括一个或多个管芯)上，该目标部分已经被涂有辐射敏感材料(“抗蚀剂”)层。通常，单个衬底包含多个相邻的目标部分，图案由光刻投影设备连续地转印至该目标部分，一次一个目标部分。在一种类型的光刻投影设备中，整个图案形成装置上的图案被一次转印到一个目标部分上；这种设备一般被称为步进器。在一般称为步进扫描设备的替代设备中，投影束沿着给定参考方向(“扫描”方向)在图案形成装置上进行扫描，同时平行于或反平行于该参考方向移动衬底。图案形成装置上的图案的不同部分被逐渐转印到一个目标部分。通常，由于光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种在其上记录有指令的非瞬态计算机可读介质，所述指令在由计算机执行时被实施用于评估所选图案集合的方法，所述方法包括：获得(i)由图案选择过程产生的第一图案集合，(ii)与所述第一图案集合相关联的第一图案数据，(iii)与所述第一图案数据相关联的特性数据，以及(iv)与第二图案集合相关联的第二图案数据；基于与所述第一图案相关联的所述特性数据来训练机器学习模型，所述机器学习模型被配置为预测输入到所述机器学习模型中的图案的图案数据；通过将所述第二图案集合输入到经训练的机器学习模型，生成所述第二图案集合的预测的第二图案数据；以及通过比较所述第二图案数据和所预测的第二图案数据，评估所述第一图案集合。2.根据权利要求1所述的介质，其中获得所述第一图案数据包括：通过执行参考模型来生成第一轮廓或第一图像，所述参考模型被配置为使用所述第一图案集合作为输入来模拟图案化过程。3.根据权利要求1所述的介质，其中获得所述第一图案数据和所述第二图案数据包括：从包括所述第一图案集合和所述第二图案集合的图案化衬底的量测图像获得轮廓或图像。4.根据权利要求1所述的介质，其中所述第一图案集合是所述第二图案集合的子集。5.根据权利要求2所述的介质，其中所述第二图案数据包括通过使用所述第二图案集合作为输入执行所述参考模型来生成的第二轮廓或第二图像，其中所述参考模型被配置为模拟图案化过程。6.根据权利要求1所述的介质，其中所述特性数据包括从所述第一图案数据导出的标准度量的数据，所述标准度量被配置为量化图案的一个或多个物理特性。7.根据权利要求6所述的介质，其中所述标准度量包括：边缘放置标准度量，位于沿着所述第一图案数据的轮廓的多个位置处；临界尺寸标准度量，被配置为测量所述第一图案集合的临界尺寸值；被配置为测量所述第一图案集合中的线的标准度量；被配置为测量所述第一图案集合的特征之间的空间的标准度量；被配置为测量尖端到尖端结构的标准度量；和/或被配置为测量模型预测轮廓与设计轮廓之间的轮廓差异的标准度量。8.根据权利要求1所述的介质，其中评估所述第一图案集合包括：将绝对图案覆...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙任成，杨丰，刘梦，严飞，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：