一种半导体清洗支架制造技术

技术编号:36695028 阅读:38 留言:0更新日期:2023-02-27 20:06
本申请属于半导体工艺技术领域,公开了一种半导体清洗支架,包括超声波清洁箱,所述超声波清洁箱的顶端两侧对称固定连接有支架本体,所述超声波清洁箱的顶端靠近背面一侧设置有喷淋管,所述超声波清洁箱的顶端中心处开设有清洗槽,所述支架本体的内部设置有升降机构,两个所述支架本体相对的一侧设置有承载载具,所述承载载具的两侧对称设置有壳体;两个所述壳体的内部设置有转动组件,所述转动组件包括第一齿轮和第二齿轮。将半导体放入承载载具后,转动第二旋钮,通过内部结构带动半导体转动至水平状态后,停止转动第二旋钮,此时矩形半导体淹没在清洗槽内,从而可以对矩形半导体进行清洗,节约清洗时间。节约清洗时间。节约清洗时间。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体清洗支架


[0001]本申请涉及半导体工艺
,更具体地说,涉及一种半导体清洗支架。

技术介绍

[0002]目前半导体清洗所采取的方式一般采用超声波加清洗剂的方式,其操作方式主要是将所需清洗的半导体产品放入承载载具后,再通过支架支撑进行超声波清洗,使加工后的半导体表面保持洁净。
[0003]现有的一些小型半导体清洗设备所使用的支架,功能较为单一,主要用于夹持承载载具,无法转动,在对矩形半导体清洗时,可能会出现半导体的宽度较窄但是高度高于清洗池的深度的情况,使得高出水面的部分无法同步清洗,只能分步操作,较为浪费时间,因此提出一种半导体清洗支架。

技术实现思路

[0004]为了解决上述问题,本申请提供一种半导体清洗支架。
[0005]本申请提供的一种半导体清洗支架采用如下的技术方案:
[0006]一种半导体清洗支架,包括超声波清洁箱,所述超声波清洁箱的顶端两侧对称固定连接有支架本体,所述超声波清洁箱的顶端靠近背面一侧设置有喷淋管,所述超声波清洁箱的背面固定连接有水箱,所述超声波清洁箱的顶端中心处开设本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体清洗支架,包括超声波清洁箱(1),其特征在于:所述超声波清洁箱(1)的顶端两侧对称固定连接有支架本体(2),所述超声波清洁箱(1)的顶端靠近背面一侧设置有喷淋管(11),所述超声波清洁箱(1)的背面固定连接有水箱(16),所述超声波清洁箱(1)的顶端中心处开设有清洗槽,所述支架本体(2)的内部设置有升降机构,两个所述支架本体(2)相对的一侧设置有承载载具(8),所述承载载具(8)的两侧对称设置有壳体(5);两个所述壳体(5)的内部设置有转动组件,所述转动组件包括第一齿轮(14)和第二齿轮(15),所述第一齿轮(14)的顶端固定连接有转动杆(13),两个所述转动杆(13)的顶端分别与两个壳体(5)的顶部内壁转动连接,其中一个所述转动杆(13)的顶端延伸至壳体(5)的顶端,且固定连接有第二旋钮(6)。2.根据权利要求1所述的一种半导体清洗支架,其特征在于:所述第一齿轮(14)的外壁与第二齿轮(15)的外壁相互啮合,两个所述第二齿轮(15)相对的一侧均固定连接有连接杆(7)。3.根据权利要求2所述的一种半导体...

【专利技术属性】
技术研发人员:李琳
申请(专利权)人:苏州盖锜智能科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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