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本申请属于半导体工艺技术领域，公开了一种半导体清洗支架，包括超声波清洁箱，所述超声波清洁箱的顶端两侧对称固定连接有支架本体，所述超声波清洁箱的顶端靠近背面一侧设置有喷淋管，所述超声波清洁箱的顶端中心处开设有清洗槽，所述支架本体的内部设置有升...
该专利属于苏州盖锜智能科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州盖锜智能科技有限公司授权不得商用。

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