一种青釉、陶瓷砖及其制备方法技术

本发明专利技术公开一种青釉、陶瓷砖及其制备方法，按质量份计，所述青釉包括以下原料：钠长石20

【技术实现步骤摘要】
一种青釉、陶瓷砖及其制备方法


[0001]本专利技术涉及陶瓷
，尤其涉及一种青釉、陶瓷砖及其制备方法。

技术介绍

[0002]青釉是传统的颜色釉，在陶瓷的发展进程中具有举足轻重的地位。所谓青釉，其颜色并不是纯粹的青，有月白、天青、粉青、梅子青、豆青、豆绿、翠青等，但多少总能泛出一点青绿色。
[0003]然而传统的青釉采用还原气氛烧成，铁氧化物被还原处于低价态(三价铁被还原为二价铁)，通过控制铁氧化物氧化态与还原态的比例(即三价铁和二价铁的比例)，使得釉层呈现青绿色，但整个烧成过程中还原阶段的气氛较难控制，且烧成周期长，能耗高，效率低。而陶瓷砖的生产采用低温快烧工艺、氧化气氛烧成，此种条件下青釉中的铁氧化物很难被还原，难以产生青绿色。
[0004]因此，现有技术还有待于改进和发展。

技术实现思路

[0005]基于上述现有技术的不足，本专利技术的目的在于提供一种青釉、陶瓷砖及其制备方法，旨在解决现有青釉需采用还原气氛烧成、氧化气氛烧成无法产生青绿色，且烧成周期长、能耗高的问题。
[0006]本专利技术的技术方案如下：
[0007]本专利技术的第一方面，提供一种青釉，其中，按质量份计，所述青釉包括以下原料：
[0008]钠长石20
‑
30份、石英5
‑
10份、高岭土4
‑
8份、方解石10
‑
20份、霞石20
‑
30份、高膨胀熔块10
‑
20份、碳酸钡3r/>‑
6份、白云石6
‑
10份、氧化铜0.3
‑
1份、钒蓝0.5
‑
1份。
[0009]可选地，按质量份计，所述高膨胀熔块的化学成分包括：
[0010]SiO263
‑
64份、Al2O38
‑
9份、Fe2O30.1
‑
0.2份、CaO13
‑
14份、MgO1
‑
2份、K2O3
‑
4份、Na2O5
‑
6份、BaO3
‑
4份。
[0011]本专利技术的第二方面，提供一种陶瓷砖，其中，包括坯体层以及设置在所述坯体层上的青釉层，所述青釉层采用本专利技术如上所述的青釉制备得到。
[0012]可选地，按质量份计，所述坯体层的化学成分包括：
[0013]SiO270
‑
72份、Al2O319
‑
21份、Fe2O31.5
‑
2.5份、CaO1
‑
2份、MgO1.5
‑
2.5份、K2O1
‑
2份、Na2O1
‑
2份、TiO20.5
‑
1份；所述陶瓷砖的表面具有裂纹。
[0014]可选地，所述陶瓷砖还包括底釉层，所述底釉层设置在所述坯体层与所述青釉层之间；
[0015]按质量份计，所述底釉层的原料包括：
[0016]钠长石20
‑
35份、煅烧高岭土6
‑
12份、高岭土8
‑
12份、烧滑石4
‑
7份、氧化铝1
‑
3份、白云石1
‑
3份、硅酸锆5
‑
10份、锆白熔块20
‑
30份、透明熔块3
‑
6份；其中，按质量份计，所述锆白熔块的化学成分包括：
[0017]SiO260
‑
61份、Al2O314
‑
15份、Fe2O30.1
‑
0.2份、CaO12
‑
13份、MgO1
‑
2份、K2O1
‑
2份、Na2O3
‑
4份、Ba2O30.5
‑
1份、ZrO23
‑
4份。
[0018]按质量份计，所述透明熔块的化学成分包括：
[0019]SiO264
‑
65份、Al2O311
‑
12份、Fe2O30.1
‑
0.2份、CaO12
‑
13份、MgO3
‑
4份、K2O2
‑
3份、Na2O3
‑
4份、Ba2O30.5
‑
1份。
[0020]可选地，所述陶瓷砖还包括喷墨装饰层，所述喷墨装饰层设置在所述底釉层与所述青釉层之间。
[0021]本专利技术的第三方面，提供一种陶瓷砖的制备方法，其中，包括步骤：
[0022]提供坯体；
[0023]将本专利技术如上所述的青釉施加到所述坯体上，进行烧成后，得到所述陶瓷砖。
[0024]可选地，所述制备方法具体包括包括步骤：
[0025]提供坯体；按质量份计，所述坯体的化学成分包括：
[0026]SiO270
‑
72份、Al2O319
‑
21份、Fe2O31.5
‑
2.5份、CaO1
‑
2份、MgO1.5
‑
2.5份、K2O1
‑
2份、Na2O1
‑
2份、TiO20.5
‑
1份；
[0027]将所述青釉施加到所述坯体上，进行烧成后，得到表面具有裂纹的陶瓷砖。
[0028]可选地，所述将所述青釉施加到所述坯体上的步骤之前，还包括步骤:
[0029]提供底釉；
[0030]将所述底釉施加到所述坯体上；
[0031]按质量份计，所述底釉的原料包括：
[0032]钠长石20
‑
35份、煅烧高岭土6
‑
12份、高岭土8
‑
12份、烧滑石4
‑
7份、氧化铝1
‑
3份、白云石1
‑
3份、硅酸锆5
‑
10份、锆白熔块20
‑
30份、透明熔块3
‑
6份；
[0033]按质量份计，所述锆白熔块的化学成分包括：
[0034]SiO260
‑
61份、Al2O314
‑
15份、Fe2O30.1
‑
0.2份、CaO12
‑
13份、MgO1
‑
2份、K2O1
‑
2份、Na2O3
‑
4份、Ba2O30.5
‑
1份、ZrO23
‑
4份；
[0035]按质量份计，所述透明熔块的化学成分包括：
[0036]SiO264
‑
65份、Al2O311
‑
12份、Fe2O30.1
‑
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种青釉，其特征在于，按质量份计，所述青釉包括以下原料：钠长石20
‑
30份、石英5
‑
10份、高岭土4
‑
8份、方解石10
‑
20份、霞石20
‑
30份、高膨胀熔块10
‑
20份、碳酸钡3
‑
6份、白云石6
‑
10份、氧化铜0.3
‑
1份、钒蓝0.5
‑
1份。2.根据权利要求1所述的青釉，其特征在于，按质量份计，所述高膨胀熔块的化学成分包括：SiO
2 63
‑
64份、Al2O
3 8
‑
9份、Fe2O
3 0.1
‑
0.2份、CaO 13
‑
14份、MgO 1
‑
2份、K2O 3
‑
4份、Na2O 5
‑
6份、BaO 3
‑
4份。3.一种陶瓷砖，其特征在于，包括坯体层以及设置在所述坯体层上的青釉层，所述青釉层采用权利要求1
‑
2任一项所述的青釉制备得到。4.根据权利要求3所述的陶瓷砖，其特征在于，按质量份计，所述坯体层的化学成分包括：SiO
2 70
‑
72份、Al2O
3 19
‑
21份、Fe2O
3 1.5
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2.5份、CaO 1
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2份、MgO 1.5
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2.5份、K2O 1
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2份、Na2O 1
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2份、TiO
2 0.5
‑
1份；所述陶瓷砖的表面具有裂纹。5.根据权利要求4所述的陶瓷砖，其特征在于，所述陶瓷砖还包括底釉层，所述底釉层设置在所述坯体层与所述青釉层之间；按质量份计，所述底釉层的原料包括：钠长石20
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35份、煅烧高岭土6
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12份、高岭土8
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12份、烧滑石4
‑
7份、氧化铝1
‑
3份、白云石1
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3份、硅酸锆5
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10份、锆白熔块20
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30份、透明熔块3
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6份；其中，按质量份计，所述锆白熔块的化学成分包括：SiO
2 60
‑
61份、Al2O
3 14
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15份、Fe2O
3 0.1
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0.2份、CaO 12
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13份、MgO 1
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2份、K2O 1
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2份、Na2O 3
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4份、Ba2O
3 0.5
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1份、ZrO
2 3
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4份。按质量份计，所述透明熔块的化学成分包括：SiO
2 64
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65份、Al2O
3 11
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12份、Fe2O
3 0.1<...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓振伟，曾绍雄，吴华，辛大廷，肖咸芬，王永强，
申请(专利权)人：东莞市唯美陶瓷工业园有限公司，
类型：发明
国别省市：