物理气相沉积机台的暖机方法技术

本发明专利技术提供一种物理气相沉积机台的暖机方法，主要将一遮蔽单元放置在物理气相沉积机台的一承载盘及一靶材之间，并提供一制程气体至物理气相沉积机台的反应腔体内。供电电源对靶材提供电压，使得制程气体形成电浆，电浆会受到靶材上的电压吸引并撞击靶材。通过一电压量测单元量测靶材上的电压，以产生一靶材电压，其中靶材电压包括一起始电压及一稳定电压。而后比对靶材电压及一门坎电压，当稳定电压大于门坎电压时，判定物理气相沉积机台已完成暖机。通过本发明专利技术所述的暖机方法可节省暖机的时间，并降低暖机过程所消耗的能量。并降低暖机过程所消耗的能量。并降低暖机过程所消耗的能量。

【技术实现步骤摘要】
物理气相沉积机台的暖机方法


[0001]本专利技术有关于一种物理气相沉积机台的暖机方法，可节省暖机的时间，并降低暖机所消耗的能量。

技术介绍

[0002]物理气相沉积(PVD)是利用物理机制进行薄膜沉积的技术，其中物理机制主要是指物质的相变化，例如利用高温加热靶材，使得靶材气化而后使其沉积在基板上，以在基板的表面形成薄膜。另外亦可通过高能粒子轰击靶材，使得靶材表面的原子离开靶材，离开靶材的原子会沉积在基板上，并在基板表面形成薄膜。
[0003]具体而言，物理气相沉积的制程温度较低，在沉积的过程中可大幅减少有毒溶液的使用，并可减少水资源的浪费，因此较其他薄膜沉积制程环保，此外几乎所有的材料的薄膜都可以通过物理气相沉积制作。
[0004]然而物理气相沉积相较于其他沉积制程而言，亦存在阶梯覆盖率(Step coverage)不佳及薄膜厚度的均匀性较不易控制等问题。

技术实现思路

[0005]在进行物理气相沉积制程时，如何提高基板上薄膜厚度的均匀度一直是各制程厂努力的目标。为此本专利技术提出一种物理气相沉积机台的暖机方法，可实时侦测物理气相沉积机台的制程条件，并确定物理气相沉积机台已完成暖机后，通过物理气相沉积机台对基板进行薄膜沉积，有利于提高沉积在基板表面的薄膜均匀度。
[0006]本专利技术的一目的，在于提供一种物理气相沉积机台的暖机方法，主要于物理气相沉积机台进行暖机的过程中量测靶材上的靶材电压，而后比较靶材电压及一门坎电压，以判断物理气相沉积机台是否完成暖机。通过本专利技术所述的暖机方法可减少暖机所花费的时间，并可降低暖机过程所消耗的能量。
[0007]本专利技术的一目的，在于提供一种物理气相沉积机台的暖机方法，其中靶材电性连接一第一供电电源及一电压量测单元。第一供电电源提供电压给靶材，而电压量测单元则用以量测靶材上的电压，以产生一靶材电压。
[0008]电压量测单元电性连接一计算机，并将靶材电压传送给计算机。计算机用以处理靶材电压，并去除靶材电压中的起始电压，以得到靶材电压中的稳定电压。而后计算机可进一步比对靶材电压中的稳定电压及一门坎电压，当稳定电压大于门坎电压时，便判断物理气相沉积机台已完成暖机。
[0009]在实际应用时可于完成物理气相沉积机台的制造或组装后，对物理气相沉积机台进行测试或试机以得到门坎电压，而后将门坎电压储存在计算机中，其中每个物理气相沉积机台的门坎电压可能会不同。
[0010]为了达到上述的目的，本专利技术提出一种物理气相沉积机台的暖机方法，包括：将一遮蔽单元放置在物理气相沉积机台的一承载盘与一靶材之间；提供一制程气体至物理气相
沉积机台的一反应腔体内；通过一第一供电电源对靶材提供一电压，使得制程气体形成一电浆，其中电浆受到靶材上的电压吸引并撞击靶材；通过一电压量测单元量测靶材上的电压，以产生一靶材电压，其中靶材电压包括一起始电压及一稳定电压；及比对稳定电压与一门坎电压，当稳定电压大于或等于门坎电压时，判断物理气相沉积机台完成暖机。
[0011]本专利技术提供一种物理气相沉积机台的暖机方法，包括：将一遮蔽单元放置在物理气相沉积机台的一承载盘与一靶材之间；提供一制程气体至物理气相沉积机台的一反应腔体内；通过一第一供电电源对靶材提供一电压，使得制程气体形成一电浆，其中电浆受到靶材上的电压吸引并撞击靶材；通过一电压量测单元量测一第一时间间隔后的靶材上的电压，以产生一稳定电压；及比对稳定电压与一门坎电压，当稳定电压大于或等于门坎电压时，判断物理气相沉积机台完成暖机。
[0012]所述的物理气相沉积机台的暖机方法，包括：当稳定电压大于或等于门坎电压时，遮蔽单元离开承载盘与靶材之间；及驱动承载盘及承载的至少一基板朝靶材的方向位移，并对基板进行一物理气相沉积。
[0013]所述的物理气相沉积机台的暖机方法，其中起始电压为一第一时间间隔内所量测的靶材电压。
[0014]所述的物理气相沉积机台的暖机方法，包括减去靶材电压的起始电压，而后比对稳定电压及门坎电压。
[0015]所述的物理气相沉积机台的暖机方法，其中遮蔽单元放置在承载盘上，并用以遮挡承载盘。
[0016]所述的物理气相沉积机台的暖机方法，其中靶材电压包括复数个脉冲电压，复数个脉冲电压分别包括起始电压及稳定电压。
[0017]所述的物理气相沉积机台的暖机方法，其中电压量测单元量测在第一时间间隔后复数个脉冲电压的电压，以产生稳定电压。
[0018]本专利技术的有益效果是：提供一种物理气相沉积机台的暖机方法，可节省暖机的时间，并降低暖机所消耗的能量。
附图说明
[0019]图1为本专利技术进行暖机的物理气相沉积机台一实施例的构造示意图。
[0020]图2为本专利技术物理气相沉积机台的暖机方法一实施例的步骤流程图。
[0021]图3为本专利技术进行暖机的物理气相沉积机台又一实施例的构造示意图。
[0022]图4为本专利技术物理气相沉积机台的电压量测单元一实施例所量测的靶材电压。
[0023]图5为本专利技术物理气相沉积机台的电压量测单元一实施例所量测的靶材电压的稳定电压。
[0024]图6为本专利技术进行薄膜沉积的物理气相沉积机台一实施例的剖面示意图。
[0025]附图标记说明：10
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物理气相沉积机台；11
‑
反应腔体；112
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开口；115
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基板进出口；12
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容置空间；121
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反应空间；13
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承载盘；131
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基板；14
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挡件；141
‑
环形凸缘；143
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盖环；15
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靶材；161
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第一供电电源；163
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电压量测单元；165
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第二供电电源；17
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遮蔽单元；18
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脉冲电压；180
‑
靶材电压；181
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起始电压；183
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稳定电压；T1
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第一时间间隔；S1
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第一循环；S2
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第二循环；S3
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第三循环。
具体实施方式
[0026]请参阅图1及图2，分别为本专利技术进行暖机的物理气相沉积机台一实施例的构造示意图及物理气相沉积机台的暖机方法一实施例的步骤流程图。如图所示，物理气相沉积机台10主要包括一反应腔体11、一承载盘13、一靶材15及一遮蔽单元17，其中承载盘13、靶材15及遮蔽单元17位于反应腔体11的容置空间12内。
[0027]承载盘13用以承载至少一基板131，而靶材15则面对承载盘13及其承载的基板131。具体而言，反应腔体11可设置一设置开口，例如设置开口位于反应腔体11的上方，其中容置空间12经由设置开口连接外部。靶材15及/或顶板可设置或覆盖在反应腔本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种物理气相沉积机台的暖机方法，其特征在于，包括：将一遮蔽单元放置在该物理气相沉积机台的一承载盘与一靶材之间；提供一制程气体至该物理气相沉积机台的一反应腔体内；通过一第一供电电源对该靶材提供一电压，使得该制程气体形成一电浆，其中该电浆受到靶材上的该电压吸引并撞击该靶材；通过一电压量测单元量测该靶材上的电压，以产生一靶材电压，其中该靶材电压包括一起始电压及一稳定电压；及比对该稳定电压与一门坎电压，当该稳定电压大于或等于该门坎电压时，判断该物理气相沉积机台完成暖机。2.根据权利要求1所述的物理气相沉积机台的暖机方法，其特征在于，包括：当该稳定电压大于或等于该门坎电压时，该遮蔽单元离开该承载盘与该靶材之间；及驱动该承载盘及承载的至少一基板朝该靶材的方向位移，并对该基板进行一物理气相沉积。3.根据权利要求1所述的物理气相沉积机台的暖机方法，其特征在于，其中该起始电压为一第一时间间隔内所量测的该靶材电压。4.根据权利要求3所述的物理气相沉积机台的暖机方法，其特征在于，包括减去该靶材电压的该起始电压，而后比对该稳定电压及该门坎电压。5.根据权利要求1所述的物理气相沉积机台的暖机方法，其特征在于，其中该遮蔽单元放置在该承载盘上，并用以遮挡该承载盘。6.根据权利要求1所述的物理气相沉...

【专利技术属性】
技术研发人员：林俊成，
申请(专利权)人：鑫天虹厦门科技有限公司，
类型：发明
国别省市：