一种真空镀膜设备制造技术

本申请涉及一种真空镀膜设备，包括加热装置、工架以及底架，所述加热装置设置在所述底架的中部，所述工架沿所述底架周向设置，所述加热装置包括竖向正极以及多个竖向负极，所述竖向正极与竖向负极之间放置有靶材，所述工架上设置有工件。本申请具有提高镀膜效率的效果。果。果。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜设备


[0001]本申请涉及镀膜的领域，尤其是涉及一种真空镀膜设备。

技术介绍

[0002]真空镀膜设备主要指一类需要在比较高真空度下进行的镀膜,包括很多种类,主要技术方案是蒸发和溅射。
[0003]靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应，即可得到不同的膜系。
[0004]目前真空镀膜设备中一般只设置有一个正极和一个负极加热电极，靶材设置在加热装置上，加热装置与正极和负极连接对靶材进行加热进行镀膜，但是一个正极和负极之间只能放置一排靶材，镀膜效率不高。
[0005]针对上述中的相关技术，存在有镀膜效率不高缺陷。

技术实现思路

[0006]为了提高镀膜效率，本申请提供一种真空镀膜设备。
[0007]本申请提供的一种真空镀膜设备采用如下的技术方案：
[0008]一种真空镀膜设备，包括加热装置、工架以及底架，所述加热装置设置在所述底架的中部，所述工架沿所述底架周向设置，所述加热装置包括竖向正极以及多个竖向负极，所述竖向正极与竖向负极之间放置有靶材，所述工架上设置有工件。
[0009]通过采用上述技术方案，在底架上设置加热装置，并将工件周向设置在加热装置的周侧，加热装置包括一个竖向正极以及多个竖向负极，通过一个竖向正极和多个竖向负极形成通路，将电流传送到靶材上，以对放置在加热装置上的靶材进行加热，从而对工件进行镀膜，多组通路进行对靶材的加热提高镀膜的效率。
[0010]优选的，所述加热装置还包括调节架，所述调节架包括调节件以及夹持件，所述夹持件固定连接在所述调节架，所述调节件可拆卸连接在所述竖向正极和竖向负极。
[0011]通过采用上述技术方案，通过调节架将竖向正极以及竖向负极进行连接，并将竖向正极和竖向负极形成通路对靶材进行加热，将调节架通过调节件可拆卸的安装在竖向正极和竖向负极上，当所需要镀膜的工件的高度变化时，可通过调节件调节调节架的高度对镀膜的高度进行调节，以使得调节架能够适应不同高度的工件，提高调节架的灵活性。
[0012]优选的，所述工件还包括转轴，所述工件套设在所述转轴，所述工件围绕所述转轴旋转。
[0013]通过采用上述技术方案，将工件设置在转轴上，在对工件进行镀膜的过程中，工件在转轴上旋转，使得工件的外表面能够不停旋转使得工件的外表面都能进行镀膜，并且使得工件的镀膜更加均匀，提升对工件镀膜的效果。
[0014]优选的，所述夹持件还包括放置环，所述放置环设置于所述调节架之间，所述放置环中设置有靶材。
[0015]通过采用上述技术方案，靶材为圆柱形的，将靶材放置在放置环中，放置环通电后，放置环的环状结构对靶材进行周向加热，靶材进行周向挥发，使得对靶材的加热更加均匀，靶材挥发的速度更快，挥发后的靶材在工件表面进行镀膜的速度更加快，使得对工件的镀膜效率提高。
[0016]优选的，所述底架包括连接架与支撑架，所述竖向正极设置在所述连接架的中部，所述竖向负极设置有两个，所述竖向负极分设与所述竖向正极的两侧。
[0017]通过采用上述技术方案，在支撑架上的中部设置一个竖向正极并在竖向正极的两旁设置有两个竖向负极，使得一个竖向负极与中间的竖向正极为一组通路并对放置环上的靶材进行加热，另一个竖向负极与中间的竖向正极也组成一个通路放置环上的靶材也进行加热，两个竖向负极与一个竖向正极能形成两组通路，两组进行加热使得对工件的镀膜效率提高。
[0018]优选的，所述调节件包括圆弧部，所述圆弧部与所述竖向正极和所述竖向负极的侧面弧度一致。
[0019]通过采用上述技术方案，调节件上设置有圆弧部，圆弧部的弧度与竖向正极和竖向负极侧面的弧度一致，将调节架通过圆弧部贴合竖向正极和竖向负极进行固定，接触面积大，使得调节架安装在竖向正极和竖向负极的稳定性更高。
[0020]综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：
[0021]1.一个竖向正极以及多个竖向负极，通过一个竖向正极和多个竖向负极形成通路以对放置在加热装置上的靶材进行加热，从而对工件进行镀膜，多组通路进行对靶材的加热提高镀膜的效率；
[0022]2.将调节架通过调节件可拆卸的安装在竖向正极和竖向负极上，可通过调节件调节调节架的高度对镀膜的高度进行调节，以使得调节架能够适应不同高度的工件，提高调节架的灵活性；
[0023]3.圆弧部的弧度与竖向正极和竖向负极侧面的弧度一致，将调节架通过圆弧部贴合竖向正极和竖向负极进行固定，接触面积大，使得调节架安装在竖向正极和竖向负极的稳定性更高。
附图说明
[0024]图1是真空镀膜设备整体结构示意图。
[0025]图2是加热装置整体结构示意图。
[0026]图3是图2中A局部放大示意图。
[0027]图4是图2中B局部放大示意图。
[0028]附图标记说明：1、加热装置；11、竖向正极；12、竖向负极；13、调节架；131、夹持件；1311、放置环；132、调节件；1321、圆弧部；2、工架；21、转轴；22、工件；3、底架；31、连接架；32、支撑架。
具体实施方式
[0029]以下结合附图1
‑
4对本申请作进一步详细说明。
[0030]本申请实施例公开一种真空镀膜设备。参照图1，一种真空镀膜设备包括加热装置1、工架2以及底架3，底架3包括连接架31以及支撑架32，支撑架32呈圆形，连接架31呈长条板状，连接架31一体设置在支撑架32上，连接架31经过支撑架32的圆心，加热装置1竖直设置在连接架31的中部，工架2设置在支撑架32上，工架2设置有多个并沿支撑架32的顶部周向设置，工架2包括转轴21，转轴21上转动设置有工件22。
[0031]参照图2和图3，加热装置1包括竖向正极11、竖向负极12以及调节架13，竖向正极11和竖向负极12呈长圆柱状，在本实施例中，竖向负极12设置有两个，竖向正极11设置在连接架31中部，两个竖向负极12对称设置在竖向正极11的两侧，调节架13可调节设置在竖向正极11和竖向负极12上，调节架13两两一组设置在竖向正极11和竖向负极12，两个竖向负极12与一个竖向正极11之间设置有，具体的，调节架13包括调节件132以及夹持件131，调节件132包括圆弧部1321，圆弧部1321上开设有两个螺纹孔，通过螺丝将圆弧部1321固定安装在调节架13上，以使得圆弧部1321抵接在竖向正极11和竖向负极12的侧面，圆弧部1321的弧度与竖向正极11和竖向负极12的侧面的弧度一致，以使得圆弧部1321与竖向正极11和竖向负极12的侧面贴合使得安装更加稳定。
[0032]参照图2和图4，夹持件131具有两个安装部，安装部开设有螺纹孔，夹持件131通本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜设备，其特征在于：包括加热装置(1)、工架(2)以及底架(3)，所述加热装置(1)设置在所述底架(3)的中部，所述工架(2)沿所述底架(3)周向设置，所述加热装置(1)包括竖向正极(11)以及多个竖向负极(12)，所述竖向正极(11)与竖向负极(12)之间放置有靶材，所述工架(2)上设置有工件(22)。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：所述加热装置(1)还包括调节架(13)，所述调节架(13)包括调节件(132)以及夹持件(131)，所述夹持件(131)固定连接在所述调节架(13)，所述调节件(132)可拆卸连接在所述竖向正极(11)和竖向负极(12)。3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：所述工件(22)还包括转轴(21)，所述工件(...

【专利技术属性】
技术研发人员：王伟，张扬，常杰，
申请(专利权)人：深圳市一诺真空科技有限公司，
类型：新型
国别省市：