一种用于制备抗菌膜的真空镀膜机制造技术

本实用新型专利技术申请涉及一种用于制备抗菌膜的真空镀膜机，包括镀膜仓、放置组件、镀层件和遮挡组件，其中，镀膜仓开设有镀膜腔，放置组件用于放置镀膜钯，镀层件用于给工件表面进行镀层，遮挡组件用于遮挡镀层件从而便于镀层件和镀膜钯，进而在不同的镀膜条件下，避免镀层件的表面被镀膜钯侵蚀而造成镀膜效果不佳的情况。况。况。

【技术实现步骤摘要】
一种用于制备抗菌膜的真空镀膜机


[0001]本技术申请涉及真空镀膜领域，尤其涉及一种用于制备抗菌膜的真空镀膜机。

技术介绍

[0002]目前，真空镀膜一般是指把金属、合金或者化合物进行蒸发，使得这些材料被涂覆在工件上，待工件沉积后，工件上会附带这些材料的化学性质，比如，抗病毒或抗菌等等。
[0003]然而，进行真空镀膜往往需要采用真空镀膜机，根据工件需要的属性需要进行多次镀膜或者镀上不同的材料并在工件上形成相应的层结构，其中，在相关技术中，往往采用多种镀膜钯进行不同材料的镀膜。然而，这些材料在蒸发过程中易于混杂在一起，从而导致整体层结构混乱的情况。
[0004]针对上述相关技术，存在相关技术中真空镀膜机的镀膜效果不佳。

技术实现思路

[0005]为了提高真空镀膜机的镀膜效果，本申请提供一种用于制备抗菌膜的真空镀膜机。
[0006]一种用于制备抗菌膜的真空镀膜机，包括镀膜仓、放置组件、镀层件和遮挡组件，所述镀膜仓开设有镀膜腔，所述放置组件、镀层件和遮挡组件设置于所述镀膜腔内，所述放置组件用于放置镀膜钯，所述镀层本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于制备抗菌膜的真空镀膜机，其特征在于，包括镀膜仓(1)、放置组件(2)、镀层件(3)和遮挡组件(4)，所述镀膜仓(1)开设有镀膜腔(11)，所述放置组件(2)、镀层件(3)和遮挡组件(4)设置于所述镀膜腔(11)内，所述放置组件(2)用于放置镀膜钯，所述镀层件(3)用于给工件进行镀层；所述镀膜腔(11)开设有镀层槽(112)，所述镀层件(3)设置于所述镀层槽(112)内，所述遮挡组件(4)相对于所述镀层槽(112)的槽口滑动设置。2.根据权利要求1所述的一种用于制备抗菌膜的真空镀膜机，其特征在于，还包括转盘件(53)，所述转盘件(53)用于供工件放置，所述转盘件(53)相对于所述镀膜腔(11)的腔底转动设置。3.根据权利要求2所述的一种用于制备抗菌膜的真空镀膜机，其特征在于，还包括转动机构(5)，所述转动机构(5)连接于所述转盘件(53)，所述放置组件(2)设置于所述转盘件(53)的中心。4.根据权利要求3所述的一种用于制备抗菌膜的真空镀膜机，其特征在于，所述转动机构(5)包括第一转动组件(51)和第二转动组件(52...

【专利技术属性】
技术研发人员：王伟，张扬，常杰，
申请(专利权)人：深圳市一诺真空科技有限公司，
类型：新型
国别省市：