一种磁控溅射沉积用旋转镀球转架制造技术

本实用新型专利技术公开了一种磁控溅射沉积用旋转镀球转架，涉及磁控溅射技术领域，内支撑杆的下端安装在内旋转轨道上，外支撑杆的下端安装在外旋转轨道上，且内支撑杆和外支撑杆的上端均用于接触并支撑球体，且内支撑杆和外支撑杆分别用于与球体的不同位置接触，外旋转轨道套设于内旋转轨道外周，且内旋转轨道的中部与底部支撑机构的中部相连，底部支撑机构能够在外部驱动机构的带动下转动，并带动内旋转轨道和外旋转轨道转动，且内旋转轨道和外旋转轨道在转动过程中能够带动内支撑杆和外支撑杆交替支撑球体。该磁控溅射沉积用旋转镀球转架能够实现球体表面涂层全覆盖，且成膜均匀性好。且成膜均匀性好。且成膜均匀性好。

【技术实现步骤摘要】
一种磁控溅射沉积用旋转镀球转架


[0001]本技术涉及磁控溅射
，具体是涉及一种磁控溅射沉积用旋转镀球转架。

技术介绍

[0002]等离子体磁控溅射沉积技术具有薄膜结构可控性强、成膜质量高、沉积温度低、附着力好等特点，在现代精密装备高端制造业零部件的表面处理领域表现出巨大的应用潜力。由于磁控溅射等离子体具有可视性的特点，大曲面零部件的均匀性和全覆盖沉积一直是该技术应用的一个难题。通常做法是通过工装设计使得大曲面零部件旋转起来以解决成膜均匀和表面覆盖的问题。例如直径小于10mm的球体可以通过“鼠笼法”工装或者倾向角度托盘旋转法制备，但直径大于50mm的金属钢球，因自重较大，无法用上述方法沉积而成。目前的主流镀膜方法是通过底部工装夹具固定支撑，将球体托起以完成镀膜。但该方法在夹具与球体的支撑点处由于遮挡效应无法镀到。存在球体表面涂层覆盖不完整的问题。

技术实现思路

[0003]本技术的目的是提供一种磁控溅射沉积用旋转镀球转架，以解决上述现有技术存在的问题，能够实现球体表面涂层全覆盖，且成膜均匀性好。
[0004]为实现上述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射沉积用旋转镀球转架，其特征在于：包括底部支撑机构、内旋转轨道、外旋转轨道、多个内支撑杆和多个外支撑杆，所述内支撑杆的下端安装在所述内旋转轨道上，所述外支撑杆的下端安装在所述外旋转轨道上，且所述内支撑杆和所述外支撑杆的上端均用于接触并支撑球体，且所述内支撑杆和所述外支撑杆分别用于与球体的不同位置接触，所述外旋转轨道套设于所述内旋转轨道外周，且所述内旋转轨道的中部与所述底部支撑机构的中部相连，所述底部支撑机构能够在外部驱动机构的带动下转动，并带动所述内旋转轨道和所述外旋转轨道转动，且所述内旋转轨道和所述外旋转轨道在转动过程中能够带动所述内支撑杆和所述外支撑杆交替支撑球体。2.根据权利要求1所述的磁控溅射沉积用旋转镀球转架，其特征在于：所述底部支撑机构包括旋转底座和固定支撑体，所述旋转底座用于连接外部驱动机构，且所述固定支撑体转动安装于所述旋转底座的上端，所述内旋转轨道和所述外旋转轨道均转动安装于所述固定支撑体的上端，所述旋转底座的中部固定有定位台，所述定位台的上端伸出所述旋转底座，且所述固定支撑体与所述定位台之间通过止推轴承连接，所述内旋转轨道套设于所述定位台上，所述旋转底座能够通过所述定位台带动所述内旋转轨道和所述外旋转轨道转动，且所述固定支撑体不转。3.根据权利要求2所述的磁控溅射沉积用旋转镀球转架，其特征在于：所述固定支撑体的外周固定有一固定杆，...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋成燕，冯毅，贾金龙，胡春霞，他进国，薛城，
申请(专利权)人：兰州工业学院，
类型：新型
国别省市：