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本实用新型公开了一种磁控溅射沉积用旋转镀球转架，涉及磁控溅射技术领域，内支撑杆的下端安装在内旋转轨道上，外支撑杆的下端安装在外旋转轨道上，且内支撑杆和外支撑杆的上端均用于接触并支撑球体，且内支撑杆和外支撑杆分别用于与球体的不同位置接触，外旋...
该专利属于兰州工业学院所有，仅供学习研究参考，未经过兰州工业学院授权不得商用。

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