本申请提供一种蒸镀不同厚度金属膜的装置，设于真空腔内，其特征在于，包括设于真空腔体顶部的蒸镀本体，其上设有多个待蒸镀基板，镀膜机构设于真空腔体底部，镀膜机构用于在待蒸镀基板上蒸镀金属膜，遮挡机构设于待蒸镀基板靠近镀膜机构侧，遮挡机构具有第一状态和第二状态，当遮挡机构处于第一状态时，遮挡机构可遮挡住设定待蒸镀基板，当遮挡机构处于第二状态时，遮挡机构未遮挡设定待蒸镀基板，驱动机构用于驱动遮挡机构在第一状态和第二状态之间切换；与传统技术相比，该装置可在真空泵一次抽真空后，在保持同一个真空度的真空腔室内可蒸镀两个不同厚度的金属膜，可节约所述真空泵抽真空的时间，节约资源，省时省力，可提高生产效率。生产效率。生产效率。
【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀不同厚度金属膜的装置
[0001]本申请涉及真空镀膜
，具体涉及一种蒸镀不同厚度金属膜的装置。
技术介绍
[0002]真空镀膜是声表面波器件制作的一个关键工序，由于激发压电体表面波需要一个金属叉指电极换能器，因此必须在基板表面生长一层薄而均匀的金属膜，这层金属膜与基板表面粘附性好且不会与其生成有害化合物、便于超声或热压键合、薄膜淀积和光刻成型，在蒸镀纯金属膜时，铝膜的应用最为广泛，而在镀铝膜过程中常采用的电子束镀膜工艺，该工艺为电子束在磁场作用下，穿过加速极阳极孔飞入磁场空间，调节磁场强度，制控电子束偏转半径，准确打到坩埚内的铝源上，将电子的动能转变为热能，使铝熔化并蒸发到基板表面，形成一定的铝膜厚度。
[0003]在现有技术中，蒸镀过程需要在真空腔室内完成，多个基板在同一个真空腔室一次只能蒸镀同一种厚度的金属膜，如果需要不同厚度的金属膜，则必须独立地多次在真空腔室完成，真空腔室内抽真空时间较长，反复操作费时费力，造成资源浪费，生产效率低下。
技术实现思路
[0004]鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，本申请旨在提供一种蒸镀不同厚度金属膜的装置，包括：
[0005]蒸镀本体，所述蒸镀本体设于所述真空腔体顶部，其上设有多个待蒸镀基板；
[0006]镀膜机构，所述镀膜机构设于所述真空腔体底部，所述镀膜机构用于在所述待蒸镀基板上蒸镀金属膜；
[0007]遮挡机构，所述遮挡机构设于所述待蒸镀基板靠近所述镀膜机构侧，所述遮挡机构具有第一状态和第二状态，当所述遮挡机构处于所述第一状态时，所述遮挡机构可遮挡住设定待蒸镀基板；当所述遮挡机构处于所述第二状态时，所述遮挡机构未遮挡所述设定待蒸镀基板；
[0008]驱动机构，所述驱动机构用于驱动所述遮挡机构在所述第一状态和所述第二状态之间切换。
[0009]根据本申请实施例提供的技术方案，所述驱动机构包括转动杆和驱动电机，所述转动杆贯穿所述蒸镀本体，与所述驱动电机输出端连接，所述转动杆远离所述驱动电机侧与所述遮挡机构远离所述镀膜机构侧连接。
[0010]根据本申请实施例提供的技术方案，所述遮挡机构包括第一挡板，所述第一挡板靠近所述待蒸镀基板侧设有竖向部，所述竖向部内具有第一空间，所述转动杆设于所述第一空间内，所述竖向部上设有锁紧部，所述锁紧部用于锁紧所述转动杆。
[0011]根据本申请实施例提供的技术方案，所述蒸镀本体上设有多个第一开口，所述第一开口向内延伸设有第一凸台，所述待蒸镀基板设于所述第一凸台远离所述镀膜机构侧。
[0012]根据本申请实施例提供的技术方案，所述第一开口远离第一凸台侧设有基板盖，
所述基板盖将所述第一开口覆盖，所述基板盖用于固定所述待蒸镀基板。
[0013]根据本申请实施例提供的技术方案，所述基板盖远离所述第一凸台侧设有调节件，所述调节件具有第三状态和第四状态，当所述调节件处于第三状态时，所述基板盖可拆下，取出所述待蒸镀基板，当所述调节件处于第四状态时，所述基板盖固定所述待蒸镀基板。
[0014]根据本申请实施例提供的技术方案，所述转动杆外套设有连接片，所述连接片固定于所述蒸镀本体上。
[0015]根据本申请实施例提供的技术方案，所述驱动机构还包括减速组件，所述减速组件设于所述转动杆远离所述第一挡板侧，所述减速组件用于减缓所述转动杆的转动速度。
[0016]根据本申请实施例提供的技术方案，所述驱动机构材质为耐高温材质。
[0017]根据本申请实施例提供的技术方案，所述驱动电机上设有无线接收组件，所述无线接收组件用于接收所述真空腔外的遥控信号。
[0018]综上所述，本申请提出一种蒸镀不同厚度金属膜的装置，设于真空腔室内，真空腔内顶部设有蒸镀本体，蒸镀本体上承载有若干个待蒸镀基板，在真空腔室底部设有镀膜机构，镀膜机构用于向待蒸镀基板内表面蒸镀金属膜，遮挡机构具有第一状态和第二状态，当遮挡机构处于第一状态时，遮挡机构可遮挡住设定待蒸镀基板，当遮挡机构处于第二状态时，遮挡机构未遮挡设定待蒸镀基板，遮挡机构通过驱动机构进行第一状态和第二状态的切换；与传统技术相比，该装置可在真空泵一次抽真空后，通过遮挡机构遮挡已达目标厚度金属膜的待蒸镀基板，对未达目标厚度金属膜的待蒸镀基板进行再次蒸镀，在保持同一个真空度的真空腔室内可蒸镀两个不同厚度的金属膜，节约真空泵抽真空的时间，节约资源，省时省力，可提高生产效率。
附图说明
[0019]图1为本申请实施例提供的所述遮挡机构的结构示意图；
[0020]图2为本申请实施例提供的一种蒸镀不同厚度金属膜的装置悬挂时的结构示意图；
[0021]图3为本申请实施例提供的一种蒸镀不同厚度金属膜的装置蒸镀过程中的示意图；
[0022]图中所述文字标注表示为：
[0023]1、蒸镀本体；2、基板盖；3、悬挂部；4、第一挡板；5、驱动机构；6、待蒸镀基板；7、真空腔；8、观察窗；9、蒸镀挡板；10、镀膜机构。
具体实施方式
[0024]下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关专利技术，而非对该专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与专利技术相关的部分。
[0025]需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
[0026]诚如
技术介绍
中提到的，针对现有技术中的问题，本申请提出了一种蒸镀不同厚
度金属膜的装置，设于真空腔7内，如图1
‑
3所示，包括：
[0027]蒸镀本体1，所述蒸镀本体1设于所述真空腔7体顶部，其上设有多个待蒸镀基板；可选地，所述真空腔7室为真空镀膜室，所述真空镀膜室具有维持室内真空度的真空泵，前方设有两个观察窗8，可随时观察腔室内的蒸镀情况，所述蒸镀本体1为顶面圆弧形的圆锥体镀金盘，所述蒸镀本体1通过顶部的悬挂部3悬挂于所述真空腔7室内的顶部，所述圆锥体具有内腔，所述内腔沿第一平面的截面为圆形，沿第一方向从上到下所述圆形的外径由小到大，所述第一方向与地面垂直，顶面圆弧形处用于将所述蒸镀本体1挂置所述真空腔7室内的顶部，所述镀金盘用于承载所述待蒸镀基板，空心圆锥体构造可以增大其承载面积，增加所述蒸镀本体1承载所述待蒸镀基板的数量，所述待蒸镀基板为晶片，在某种特定的场景中，蒸镀过程常备两个所述蒸镀本体1，当需批量蒸镀相同厚度金属膜时，选用第一蒸镀本体1，此时所述第一蒸镀本体1装满所述晶片，当需生产个别不同厚度的金属膜时，选用第二蒸镀本体1，此时所述第二蒸镀本体1承载两到三个所述晶片；
[0028]镀膜机构10，所述镀膜机构10设于所述真空腔7体底部，所述镀膜机构10用于在所述待蒸镀基板上蒸镀金属膜；可选地，所述镀膜机构10包括270
°
偏转电子枪(e型枪)电子束蒸发装置，设于所述真空腔7室底部，主要由发射电子的电子枪体和使电子做圆周本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种蒸镀不同厚度金属膜的装置，设于真空腔(7)内，其特征在于，包括：蒸镀本体(1)，所述蒸镀本体(1)设于所述真空腔(7)体顶部，其上设有多个待蒸镀基板(6)；镀膜机构(10)，所述镀膜机构(10)设于所述真空腔(7)体底部，所述镀膜机构(10)用于在所述待蒸镀基板(6)上蒸镀金属膜；遮挡机构，所述遮挡机构设于所述待蒸镀基板(6)靠近所述镀膜机构(10)侧，所述遮挡机构具有第一状态和第二状态，当所述遮挡机构处于所述第一状态时，所述遮挡机构可遮挡住设定待蒸镀基板(6)；当所述遮挡机构处于所述第二状态时，所述遮挡机构未遮挡所述设定待蒸镀基板(6)；驱动机构(5)，所述驱动机构(5)用于驱动所述遮挡机构在所述第一状态和所述第二状态之间切换。2.根据权利要求1所述的蒸镀不同厚度金属膜的装置，其特征在于：所述驱动机构(5)包括转动杆和驱动电机，所述转动杆贯穿所述蒸镀本体(1)，与所述驱动电机输出端连接，所述转动杆远离所述驱动电机侧与所述遮挡机构远离所述镀膜机构(10)侧连接。3.根据权利要求2所述的蒸镀不同厚度金属膜的装置，其特征在于：所述遮挡机构包括第一挡板(4)，所述第一挡板(4)靠近所述待蒸镀基板(6)侧设有竖向部，所述竖向部内具有第一空间，所述转动杆设于所述第一空间内，所述竖向部上设有锁紧部，所述锁紧部用于锁紧所述转动杆。4.根据权利要求1所述的蒸镀不同厚度金属膜的装置，其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员：冯永增，
申请(专利权)人：河北时硕微芯科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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