一种合成邻苯二胺类化合物的方法技术

本发明专利技术公开了一种合成邻苯二胺类化合物的方法，制备过程为，在惰性保护气体下，将羟胺类化合物、醛类化合物和异氰类化合物以及添加剂加入溶剂中溶解，在0～60℃下反应，经后处理得到邻苯二胺类化合物，其中羟胺类化合物、醛类化合物、异氰类化合物的结构分别如式(I)～(IV)所示。本发明专利技术突破了该化学体系的传统制备方法，合成方法路线简短，具有原子经济性高、效能优越，反应产率高的特点，操作步骤简洁，反应条件温和，所使用的各种原料简单易得，反应底物选择范围宽。物选择范围宽。

【技术实现步骤摘要】
一种合成邻苯二胺类化合物的方法


[0001]本专利技术属于化合物制备
，具体涉及一种合成邻苯二胺类化合物的方法。

技术介绍

[0002]芳香胺以及N
‑
芳基酰胺广泛存在于具有生物活性的天然产物、药物、农用化学品和功能材料中，如安普那韦(HIV
‑
蛋白酶抑制剂)、司帕沙星(抗生素)、劳拉替尼(抗癌药)、曲美替尼(抗癌药)、对乙酰氨基酚(镇痛药)。其中邻苯二胺在农药杀菌剂应用较为广泛，如多菌灵，苯菌灵，甲基托布津等，同时邻苯二胺还可用于还原性染料，阳离子染料，聚合物稳定剂，杂环化合物，感光材料，表面活性剂等。通常邻苯二胺的合成方法主要有以下两种：一是邻硝基苯胺与硫化钠还原法，二是邻硝基苯胺加氢还原法。然而第一种方法需要高温高压条件下反应，第二种往往需要使用昂贵的金属催化剂，并且需要在高温高压下进行。因此，发展一种简洁、高效、实用的催化合成邻苯二胺类化合物的方法可以为药物研发、小分子药物的高通量筛选以及功能材料的合成提供切实可靠的新方法，具有十分重要的研究意义和应用前景。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本专利技术提供一种合成邻苯二胺类化合物的方法，该方法具有反应条件温和，反应底物易于合成，价格低廉，性质稳定，保存条件简单，成本低的特点，且产物的产率较高。
[0004]其技术方案如下：
[0005]一种合成邻苯二胺类化合物的方法，其关键在于制备过程为，在惰性保护气体下，将羟胺类化合物、醛类化合物和异氰类化合物以及添加剂加入溶剂中溶解，在0～60℃下反应，经后处理得到邻苯二胺类化合物；
[0006]其中所述羟胺类化合物结构如式(I)：
[0007][0008]R1为五氟苯甲酰基或乙酰基，R2选自H、苯基、取代或无取代的烷基、卤素、取代或无取代的烷氧基、酯基、羰基，R2为取代基时在间位或/和对位，个数为1～3个；
[0009]所述醛类化合物结构如式(II)：
[0010][0011]R3选自H、取代或无取代的烷基、取代或无取代的芳基、酯基；
[0012]所述异氰类化合物结构如式(III)：
[0013]R4
‑
NC
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(III)，
[0014]R4为苄基；
[0015]所述邻苯二胺类化合物结构如式(IV)：
[0016][0017]作为优选，上述羟胺类化合物分子中，R2选自H、苯基、烷基、卤素、酯基、羰基、三氟甲基和三氟甲氧基中的任意一种。
[0018]作为优选，上述羟胺类化合物分子中，选自以下基团中的任意一种：
[0019][0020]作为优选，上述醛类化合物分子中，R3或为H，或为无取代的直链或支链烷基，或为含有卤素、醚键、酯基、烯键、胺基、芳基或杂芳基的直链烷基，或为环烷基，或为芳基，或为酯基。
[0021]作为优选，上述醛类化合物分子中，R3选自以下基团中的任意一种：
[0022][0023]作为优选，以原料化合物的物质的量计，所述羟胺类化合物的用量为N，所述醛类化合物的用量为N～3N，所述异氰类化合物的用量为N～3N。
[0024]作为优选，上述添加剂为联萘二酚，用量为0.05～0.2N。
[0025]作为优选，上述反应在15～35℃条件下进行。
[0026]作为优选，上述反应在室温下进行，反应28小时。
[0027]作为优选，上述溶剂为氯仿；所述后处理步骤为，去除溶剂后进行柱层析分离。
[0028]与现有技术相比，本专利技术的有益效果：
[0029](1)所使用的各种原料简单易得，均为工业化商品，来源广泛，价格低廉，并且性质稳定，各种原料尤其反应底物易保存，反应底物选择范围宽；
[0030](2)本方法的操作步骤简洁，反应条件温和，易于控制；
[0031](3)本专利技术的合成方法路线简短，利用取代羟胺类化合物的亲核性，实现了N
‑
O键的断裂以及C
‑
N键的快速构建，具有原子经济性高、效能优越，反应产率高的特点，实现了该体系化学合成的突破性进展，并促进该体系相关药物化学研究的深层次扩展。
具体实施方式
[0032]以下结合实施例对本专利技术作进一步说明。
[0033]一种合成邻苯二胺类化合物的方法，制备过程为：在惰性保护气体如氮气或氩气气氛下，将羟胺类化合物1、醛类化合物2和异氰类化合物3以及添加剂加入溶剂中溶解。以原料化合物的物质的量计，所述羟胺类化合物的用量为N，所述醛类化合物的用量为N～3N，所述异氰类化合物的用量为N～3N。所述添加剂为质子转移剂，可以是联萘二酚，其用量为0.05N～0.2N。反应在0～60℃下进行，更优选地，反应在15～35℃条件下进行。经后处理得到邻苯二胺类化合物4。该反应的反应过程为：
[0034][0035]其中所述羟胺类化合物结构如式(I)：
[0036][0037]R1为五氟苯甲酰基或乙酰基，R2选自H、苯基、取代或无取代的烷基、卤素、取代或无取代的烷氧基、酯基、羰基，其中取代苯基上的R2基数量可以是1～3个，取代基位置可以是间位、对位；
[0038]所述醛类化合物结构如式(II)：
[0039][0040]R3选自H、取代或无取代的烷基、取代或无取代的芳基、酯基；
[0041]所述异氰类化合物结构如式(III)：
[0042]R4
‑
NC
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(III)，
[0043]R4为苄基；
[0044]所述邻苯二胺类化合物结构如式(IV)：
[0045][0046]具体来说，羟胺类化合物分子中R2更优选地选自H、苯基、烷基、卤原子、酯基、羰基、三氟甲基和三氟甲氧基中的任意一种。
[0047]醛类化合物中，R3更优选地选自：R3或为H，或为无取代的直链或支链烷基，或为含
有卤素、醚键、酯基、烯键、胺基、芳基或杂芳基的直链烷基，或为环烷基，或为芳基，或为酯基。根据原料的不同，该反应的最适温度可以根据实际情况调节，为方便，所述反应可以在20～30℃下进行，反应28小时。
[0048]所述溶剂可以是氯仿。所述后处理步骤为，去除溶剂后进行柱层析分离。根据不同的化合物，可以选择其他有机溶剂。
[0049]本专利技术利用取代羟胺类化合物的亲核性，实现了N
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O键的断裂以及C
‑
N键的快速构建，实现了取代羟胺类化合物和醛类化合物、异氰类化合物一步构建邻苯二胺类化合物。
[0050]下面结合具体实例1～31说明本方法的制备过程和效果。各实施例所用试剂均采用市售的分析纯试剂，产物纯度均通过核磁鉴定。反应原料如表1。
[0051]表1实施例1～31的反应原料
[0052][0053][0054][0055]实施例1
[0056]取20mL的反应管，加入取代羟胺类化合物1a(0.2mmol)、醛类化合物2a(0.6mmo本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种合成邻苯二胺类化合物的方法，其特征在于制备过程为：在惰性保护气体下，将羟胺类化合物、醛类化合物和异氰类化合物以及添加剂加入溶剂中溶解，在0～60℃下反应，经后处理得到邻苯二胺类化合物；其中所述羟胺类化合物结构如式(I)：R1为五氟苯甲酰基或乙酰基，R2选自H、苯基、取代或无取代的烷基、卤素、取代或无取代的烷氧基、酯基、羰基，R2为取代基时在间位或/和对位，个数为1～3个；所述醛类化合物结构如式(II)：R3选自H、取代或无取代的烷基、取代或无取代的芳基、酯基；所述异氰类化合物结构如式(III)：R4‑
NC
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(III)，R4为苄基；所述邻苯二胺类化合物结构如式(IV)：2.根据权利要求1所述的一种合成邻苯二胺类化合物的方法，其特征在于：所述羟胺类化合物分子中，R2选自H、苯基、烷基、卤素、酯基、羰基、三氟甲基和三氟甲氧基中的任意一种。3.根据权利要求1所述的一种合成邻苯二胺类化合物的方法，其特征在于：所述羟胺类化合物分子中，选自以下基团中的任意一种：4.根据权利要求1所述的一种合成邻苯二胺类化合物的方法，其特征在于：所述醛类化合物分子中，R3或为H，或为无取代的直链或支链烷基，或为含有卤素、醚键、酯基、烯键、胺基、芳基或杂芳基的直链烷基，或为环烷基，或为芳基，或为...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏晔，余宁，蒋坤，
申请(专利权)人：西南大学，
类型：发明
国别省市：