一种印花瓷器及其印花方法技术

本发明专利技术公开了一种印花瓷器及其印花方法，包括：瓷器胚体，包括有平滑表面，及在平滑表面形成的浮雕部，该浮雕部由若干相对平滑表面凸起的凸状结构和相对凸状结构凹陷的凹状结构组成；印花层，包括有印制在平滑表面上的平滑层，及印制在凸状结构表面上的凸起层，及印制在凹状结构表面上的凹陷层；该印花层由粘接在瓷器胚体表面的印花纸烘烤后形成，该印花纸上设有水溶性剥离层，及在水溶性剥离层表面的印花转移层，及在印花转移层表面的印花图像层；该印花瓷器及其印花方法适用于带有浮雕的瓷器，上釉图案清晰，成本低，且能够避免烂花和剥釉，保证色彩度鲜明。保证色彩度鲜明。保证色彩度鲜明。

【技术实现步骤摘要】
一种印花瓷器及其印花方法


[0001]本专利技术涉及一种印花瓷器及其印花方法。

技术介绍

[0002]瓷器的源流历历华夏至今已有几千年的历史，从历史文献出土证物信历史记载应以南朝开始就有原始青瓷古物出现。瓷器最终变从古陶器、青铜器一切民用生活用品。传承下来。中国的瓷器起源与发展。瓷器乃由古代陶器，演进变化而来，随着社会的进步，人们对器具的需要数量增加、品种增加，陶器的制造技术历代都有进步，汉代时期专利技术了釉料，人们开始在陶器的表面刷上釉作为装饰。因为刷上釉的陶器外观与普通的陶器不同，所以不叫陶而称为“瓷”，从此中国就有了瓷器。
[0003]瓷器的好坏关键在于瓷胎,瓷胎包括几种,有瓷胎,浆胎,缸胎,石阶,铁胎等不同的种。所谓瓷胎,就是把石科成粉术状后成后胎。普通的瓷器,都属于浆胎,浆胎是把瓷粉液选出来沉淀,直到发清后,融合成泥浆,再制成胎,所有轻而薄的瓷器都是用浆胎制作的。缸胎也叫瓦,也就是说胎质像瓦器市样粗糙,凡是凝重粗厚的瓷器都是用缸胎制作的。石胎并不是真正的石头质地疑重而且坚实,有点像大理石跟雕琢成的器物,康熙时制作有石胎三彩。铁胎并不是只正的铁,瓷质较黑,和铁色相近,其胎瓷器的厚薄轻重也不一致。
[0004]制作瓷器上釉时有两种方法。一种方法是蘸釉,把所造瓷放入缸中在釉汁荡匀。蘸釉瓷器的釉质厚,所以钩密、哥窑各窑生产瓷器上釉往往犹如堆脂，这是因为所蘸的釉不止次。另一种方法是吹釉,就是用一粮竹筒嘘气。将釉汁吹匀胎上。采用吹釉的瓷器釉质很薄，所以，旧瓷中有“玻璃釉”等名目，釉薄的甚至像卵膜那样。<br/>[0005]现今，随着技术的发展，瓷器的上釉还出现了通过机械喷印和贴印花纸进行热转印的方式来进行工业化的上釉，从而批量化的在瓷器上形成印花图案和色彩。
[0006]如申请号为201911158022.X的中国专利一种底釉及其制备方法、黑色喷墨陶瓷砖及其制造方法中所公开的“底釉的原料组成以质量分数计包括：高岭土5份，钾长石33份，钠长石28份，石英粉10份，硅酸锆10份，滑石粉7份，965熔块7份；所述965熔块的化学组成以质量百分数计包括：SiO249.97％，Al2O316.96％，Fe2O30.14％，TiO20.05％，CaO 12.71％，MgO 1.41％，K2O 4.03％，Na2O 12.57％，ZnO 0.37％，B2O30.18％，BaO 0.83％，烧失量0.78％。通过控制高岭土的加入量，增加了墨水的下渗深度，提升了墨水的干燥效率，避免了喷墨印花之后的避釉缺陷”，该技术中针对于印花工艺的方式为“在干燥过的坯体表面吹尘、喷水、淋本专利技术上述实施例中的底釉”，可以看出，该手段所采用的上釉方式就是喷印，这种方式所形成的印花仅适用于瓷砖上，而在瓷器上使用，特别是在有浮雕的瓷器上使用，容易存在图案混杂，喷印不均匀和剥釉等问题。
[0007]又如申请号为201811514665.9的中国专利一种具有立体图案纹理的陶瓷砖的制备方法中所公开的“包括如下工艺步骤：1)在烘干的陶瓷砖生坯表面喷墨打印具有图案纹理的陶瓷胶水；2)在陶瓷胶水层上布施干粒；3)施面釉；4)于面釉层上喷墨印花，喷墨印花的图案纹理与陶瓷胶水层的图案纹理相同且相互重叠；5)施抛釉；6)烘干，经1180～1230℃
烧成；步骤6)所述烧成的温度在步骤2)所述干粒的熔融温度范围内。本专利技术使陶瓷砖立体图案纹理无对位偏差，同时大大提高了陶瓷砖图案纹理的立体效果，且由于干粒粘度大，烧成过程中堆积在干粒中的空气来不及排出而被包覆在干粒层中，避免了空气排出破坏喷墨印花层和抛釉层造成陶瓷砖表面缺陷的弊端”，该工艺中针对于陶瓷上的立体图案问题的上釉问题，提出了“1)在烘干的陶瓷砖生坯表面喷墨打印具有图案纹理的热分解温度在650～800℃范围内的陶瓷胶水，得陶瓷胶水层；2)在陶瓷胶水层上布施粒径在150～200目范围内的干粒，控制风机的转速为2000r/min，用风机吸走没有位于陶瓷胶水层上的干粒，得厚度为1mm的干粒层；3)施面釉，面釉覆盖陶瓷砖生坯表面，得面釉层；4)于面釉层上喷墨印花，喷墨印花的图案纹理与陶瓷胶水层的图案纹理相同且相互重叠，得喷墨印花层；5)施抛釉，调节抛釉比重为1.5g/cm3、施釉量为160g/m2，抛釉覆盖陶瓷砖生坯表面，得抛釉层”的技术手段来进行立体图案的上釉，但是即使采用上述手段，喷印的方式在瓷器上的浮雕图案的凹凸纹理处，依旧容易存在图案不清晰，以及烂花和剥釉等问题。

技术实现思路

[0008]针对现有技术中的不足，本专利技术的目的是提供一种适用于带有浮雕的瓷器，上釉图案清晰，成本低，且能够避免烂花和剥釉，保证色彩度鲜明的印花瓷器及其印花方法。
[0009]本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：
[0010]一种印花瓷器，包括：
[0011]瓷器胚体，包括有平滑表面，及在平滑表面形成的浮雕部，该浮雕部由若干相对平滑表面凸起的凸状结构和相对凸状结构凹陷的凹状结构组成；
[0012]印花层，包括有印制在平滑表面上的平滑层，及印制在凸状结构表面上的凸起层，及印制在凹状结构表面上的凹陷层；
[0013]该印花层由粘接在瓷器胚体表面的印花纸烘烤后形成，该印花纸上设有水溶性剥离层，及在水溶性剥离层表面的印花转移层，及在印花转移层表面的印花图像层。
[0014]作为优选，该瓷器胚体的平滑表面、凸状结构和凹状结构的厚度比差值在0.9
‑
1.1内。
[0015]作为优选，该印花纸包括有对瓷器胚体的平滑表面进行包覆的连续纸面，及对瓷器胚体的浮雕部进行包覆的拼合纸面。
[0016]作为优选，该瓷器胚体包括以下重量份的原料制成：粘土25
‑
35份，滑石20
‑
25份，碳化硅10
‑
20份，硅砂10
‑
20份，高温砂10
‑
15份、石英5
‑
10份。
[0017]作为优选，该印花纸包括以下重量份的原料制成：树脂薄膜20
‑
30份和聚烯烃类树脂5
‑
10份。
[0018]作为优选，该水溶性剥离层为聚乙烯醇或聚乙烯基吡咯烷酮的共聚物。
[0019]作为优选，该印花转移层为聚苯乙烯、聚α
‑
甲基苯乙烯等苯乙烯系树脂、聚甲基丙烯酸甲酯或聚丙烯酸乙酯等丙烯酸系树脂。
[0020]本专利技术所要解决的另一技术问题为提供一种印花瓷器的印花方法，包括以下步骤：
[0021]制成瓷器胚体的素胚，该素胚具有平滑表面；
[0022]对素胚进行预热后进行晾晒，并在晾晒后的平滑表面加工出浮雕部，得到瓷器胚
体；
[0023]基于该瓷器胚体的形状制出外部模具，该外部模具具有与该瓷器胚体形状相匹配的胚体槽；
[0024]对瓷器胚体的平滑表面包覆一整张连续完整的印花纸，对瓷器胚体的浮雕部包覆多张拼合组成的印花纸；
[0025]对印花纸表面涂覆水溶性剥离层；...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种印花瓷器，其特征在于，包括：瓷器胚体，包括有平滑表面，及在平滑表面形成的浮雕部，该浮雕部由若干相对平滑表面凸起的凸状结构和相对凸状结构凹陷的凹状结构组成；印花层，包括有印制在平滑表面上的平滑层，及印制在凸状结构表面上的凸起层，及印制在凹状结构表面上的凹陷层；该印花层由粘接在瓷器胚体表面的印花纸烘烤后形成，该印花纸上设有水溶性剥离层，及在水溶性剥离层表面的印花转移层，及在印花转移层表面的印花图像层。2.根据权利要求1所述的印花瓷器，其特征在于：该瓷器胚体的平滑表面、凸状结构和凹状结构的厚度比差值在0.9
‑
1.1内。3.根据权利要求2所述的印花瓷器，其特征在于：该印花纸包括有对瓷器胚体的平滑表面进行包覆的连续纸面，及对瓷器胚体的浮雕部进行包覆的拼合纸面。4.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的印花瓷器，其特征在于：该瓷器胚体包括以下重量份的原料制成：粘土25
‑
35份，滑石20
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25份，碳化硅10
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20份，硅砂10
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20份，高温砂10
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15份、石英5
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10份。5.根据权利要求1
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3中任一项所述的印花瓷器，其特征在于：该印花纸包括以下重量份的原料制成：树脂薄膜20
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30份和聚烯烃类树脂5
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10份。6.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：詹剑铨，付卫华，郭洪泳，
申请(专利权)人：深圳市斯达高瓷艺有限公司，
类型：发明
国别省市：