一种振荡式导电环清洁装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于清洁设备领域，具体涉及一种振荡式导电环清洁装置，其包括定位架、刷扫单元、清洁液供应单元、排污单元。本实用新型专利技术通过设置刷扫单元和清洁液供应单元，利用刷头的振荡运动，实现对导电环表面高频次反复刷扫，确保导电环表面杂质全部清除，有效提升导电环表面的清洁效果；同时通过设置排污单元，将刷除的杂质随着废液及时排出，避免对导电环造成二次污染。二次污染。二次污染。

【技术实现步骤摘要】
一种振荡式导电环清洁装置


[0001]本技术属于清洁设备领域，具体涉及一种振荡式导电环清洁装置。

技术介绍

[0002]晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，其原始材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种，然后慢慢拉出，形成圆柱形的单晶硅。硅晶棒在经过研磨，抛光，切片后，形成硅晶圆片。进一步地，在对晶圆的先进封装技术中，重要工艺流程包括：涂胶—曝光—显影—烘烤—电镀—去胶—清洗，即先在晶圆上涂覆一层光刻胶，光刻胶经过曝光发生化学反应，然后通过显影将所需要的细微图形从掩模版转移至晶圆上，最后运用电化学反应，在晶圆的金属介质层上镀出所需金属，构成金属导线。
[0003]目前，晶圆在电镀时，通常采用导电环(Contact Ring Seal，简称为CRS)沿着晶圆的边缘将晶圆保持并固定在电镀挂具上，一方面用于确保晶圆与电镀挂具之间的密封性，另一方面用于实现晶圆与外部电源连通以在电镀槽中参与电化学反应。
[0004]但是，在实际电镀过程中，导电环的表面容易附有杂质，比如光刻胶以及电化学反应产生的化学物，这些杂质附着在导电环表面的时间一长会影响导电环的导电稳定性，因此需要对导电环进行定期清洁；然而，位于导电环内侧的密封圈结构精细小巧，且褶皱多，现有的针对导电环的清洁方式一般通过由人工或机械驱动的海绵绕着导电环圆周运动进行擦拭导电环的表面，仅能擦去浮于导电环表面的杂质，粘附性较强的杂质容易残留，清洁效果差，且粘在海绵上的杂质容易对导电环造成二次污染。

技术实现思路

[0005]本技术所要解决的技术问题是提供一种改进的振荡式导电环清洁装置。
[0006]为解决以上技术问题，本技术采取如下技术方案：
[0007]一种振荡式导电环清洁装置，其包括：
[0008]定位架，其形成有导电环定位区，其中导电环在定位区内能够自由转动设置；
[0009]刷扫单元，其包括刷扫座、刷头、驱动部件，其中刷头活动设置在刷扫座上，并具有能够抵触在位于定位区内的导电环待清洁面的刷扫端部；驱动部件用于驱动刷头绕着导电环的中心线振荡运动，且在导电环转动中，刷头所形成的刷扫面能够覆盖导电环的待清洁面；
[0010]清洁液供应单元，其包括用于向刷头供应清洁液的供液管路；
[0011]排污单元，其包括与刷头相衔接的排污槽、与排污槽相连通的排污管路，刷扫产生的废液流入排污槽中并自排污管路排出。
[0012]优选地，刷扫单元还包括基座，其中刷扫座通过弹性连接件弹性连接在基座上，清洁时，刷扫端部伸入定位区内并弹性抵触导电环的待清洁面。这样设置，在导电环转动过程中，通过弹性连接件能够保证导电环在整个清洁过程中受力均匀稳定，有效避免了导电环受压损坏。
[0013]具体的，弹性连接件至少有三个并绕着定位区的中心线圆周阵列分布，其中每个弹性连接件包括固定在基座上的连接座、活动设置在连接座上并与刷扫座相固定连接的活动杆、抵触在连接座与活动杆之间的弹性件。
[0014]根据本技术的一个具体实施和优选方面，定位架设置在刷扫座上，且定位区位于刷头的上方，清洁时，导电环自待清洁面朝下放置于定位区内，刷扫端部自下而上伸入定位区内并抵触导电环的待清洁面。这样设置，在实际操作过程中，仅需进行将导电环自竖直工作状态翻转至水平状态这一步操作即可实施清洁，操作简单、方便；同时便于清洁过程中清洁液的下落收集，避免残留在导电环表面。
[0015]优选地，刷扫座包括上下间隔设置的上座体和下座体、连接在上座体和下座体之间的多个连接体，其中定位架安装在上座体上；驱动部件包括电机、设置在上座体和下座体之间并与刷头相连接的驱动臂。这样设置，结构层次分明，方便组装。
[0016]进一步的，上座体自一端部形成有支撑部，其中支撑部的顶部设有支撑滚轮，位于定位区内的导电环能够自待清洁面支撑于支撑滚轮上，且当导电环在定位区内自由转动时，支撑滚轮在导电环的表面相对滚动。这样设置，提升对导电环在清洁过程中的支撑性，防止变形。
[0017]优选地，驱动臂包括与电机输出轴相连接的第一臂、与第一臂自端部相转动连接的第二臂，其中第二臂与上座体相转动连接，且第二臂自远离第一臂的端部与刷头相固定连接，清洁时，电机驱动第一臂转动，第二臂同步带动刷头横向往复摆动。
[0018]进一步的，下座体上还设有能够自由转动的支撑球，第二臂上设有水平延伸的横杆，其中横杆支撑于支撑球上；和/或，下座体的相对两侧分别设有减震器，其中两个减震器分别与第二臂的对应侧边相连接，并形成在第二臂摆动方向上的缓冲力。这样设置，起到支撑作用，加强驱动臂的强度。
[0019]优选地，第二臂在上座体上的转动中心线与定位区的中心线重合。
[0020]优选地，刷头包括具有导流腔的刷头本体、插在导流腔中的多根刷毛单体，其中供液管路与导流腔相连通设置，刷毛单体的上端部冒出导流腔并形成刷扫端部；和/或，多根刷毛单体绕着定位区的中心线间隔分布。
[0021]根据本技术的又一个具体实施和优选方面，排污单元还包括设置在刷头本体上方并具有抽吸腔的抽吸模块、与抽吸腔相连通的真空抽吸管路，其中抽吸模块上形成有避让槽，且避让槽的内壁上形成有多个连通抽吸腔的吸附口；多根刷毛单体向上冒出避让槽设置，并在避让槽内振荡运动。这样设置，可将清洁过程中的污染物以抽真空的方式及时有效的排出。
[0022]优选地，排污槽设置在刷头的下方并与刷扫座相固定连接，且排污槽自底部形成有排放口；和/或，排污槽自侧壁上形成有溢流口。这样设置，可及时将含有污染物的废液排出，防止废液流到设备内部。
[0023]根据本技术的又一个具体实施和优选方面，清洁液采用纯水；和/或，清洁液供应单元还包括加热部件，其中加热部件用于将清洁液加热至93~96℃。这样设置，能够更佳有效的去除导电环表面的污染物（比如光刻胶），而且导电环清洁过后表面更易于干燥。
[0024]此外，定位架包括安装在刷扫座上的架本体、自架本体侧边向外延伸的多根架杆，其中每根架杆的外端部分别设有上下延伸的定位柱，且多个定位柱之间形成定位区。这样
设置，方便确认导电环与刷头的相对位置，以提升刷扫效果。
[0025]由于以上技术方案的实施，本技术与现有技术相比具有如下优点：
[0026]本技术通过设置刷扫单元和清洁液供应单元，利用刷头的振荡运动，实现对导电环表面高频次反复刷扫，确保导电环表面杂质全部清除，有效提升导电环表面的清洁效果；同时通过设置排污单元，将刷除的杂质随着废液及时排出，避免对导电环造成二次污染。
附图说明
[0027]下面结合附图和具体的实施例，对本技术做进一步详细的说明：
[0028]图1为本技术的振荡式导电环清洁装置的结构示意图（第一视角）；
[0029]图2为本技术的振荡式导电环清洁装置的结构示意图（第二视角）；
[0030]图3为本技术的振荡式导电环清洁装置的结构示意图（第三视角）；
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种振荡式导电环清洁装置，其特征在于：其包括：定位架，其形成有导电环定位区，其中所述导电环在所述定位区内能够自由转动设置；刷扫单元，其包括刷扫座、刷头、驱动部件，其中所述刷头活动设置在所述刷扫座上，并具有能够抵触在位于所述定位区内的所述导电环待清洁面的刷扫端部；所述驱动部件用于驱动所述刷头绕着所述导电环的中心线振荡运动，且在所述导电环转动中，所述刷头所形成的刷扫面能够覆盖所述导电环的待清洁面；清洁液供应单元，其包括用于向所述刷头供应清洁液的供液管路；排污单元，其包括与所述刷头相衔接的排污槽、与所述排污槽相连通的排污管路，刷扫产生的废液流入所述排污槽中并自所述排污管路排出。2.根据权利要求1所述的振荡式导电环清洁装置，其特征在于：所述刷扫单元还包括基座，其中所述刷扫座通过弹性连接件弹性连接在所述基座上，清洁时，所述刷扫端部伸入所述定位区内并弹性抵触所述导电环的待清洁面。3.根据权利要求2所述的振荡式导电环清洁装置，其特征在于：所述弹性连接件至少有三个并绕着所述定位区的中心线圆周阵列分布，其中每个所述弹性连接件包括固定在所述基座上的连接座、活动设置在所述连接座上并与所述刷扫座相固定连接的活动杆、抵触在所述连接座与所述活动杆之间的弹性件。4.根据权利要求1或2所述的振荡式导电环清洁装置，其特征在于：所述定位架设置在所述刷扫座上，且所述定位区位于所述刷头的上方，清洁时，所述导电环自待清洁面朝下放置于所述定位区内，所述刷扫端部自下而上伸入所述定位区内并抵触所述导电环的待清洁面。5.根据权利要求4所述的振荡式导电环清洁装置，其特征在于：所述刷扫座包括上下间隔设置的上座体和下座体、连接在所述上座体和所述下座体之间的多个连接体，其中所述定位架安装在所述上座体上；所述驱动部件包括电机、设置在所述上座体和所述下座体之间并与所述刷头相连接的驱动臂。6.根据权利要求5所述的振荡式导电环清洁装置，其特征在于：所述上座体自一端部形成有支撑部，其中所述支撑部的顶部设有支撑滚轮，位于所述定位区内的所述导电环能够自待清洁面支撑于所述支撑滚轮上，且当所述导电环在所述定位区内自由转动时，所述支撑滚轮在所述导电环的表面相对滚动。7.根据权利要求5所述的振荡式导电环清洁装置，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙文杰，谭笑，
申请(专利权)人：晟盈半导体设备江苏有限公司，
类型：新型
国别省市：