一种放射性靶材磁控溅射镀膜的气溶胶防护装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及磁控溅射镀膜技术领域，尤其是涉及一种放射性靶材磁控溅射镀膜的气溶胶防护装置，包括磁控溅射装置，所述磁控溅射装置周围搭建有密封的气帐，所述气帐将所述磁控溅射装置处于一个密封空间，所述气帐连接有排风系统，所述排风系统用于置换所述气帐内的气体。本实用新型专利技术通过在镀膜腔体中增加衬板以及氩气置换功能，通过在镀膜设备外搭建气帐，并配备进排风系统，这样使得镀膜腔体中可能产生的放射性气溶胶经历两次气氛置换，大幅度降低了人员的受照剂量，使得人员能够正常操作放射性磁控靶材。射性磁控靶材。射性磁控靶材。

【技术实现步骤摘要】
一种放射性靶材磁控溅射镀膜的气溶胶防护装置


[0001]本技术涉及磁控溅射镀膜
，尤其是涉及一种放射性靶材磁控溅射镀膜的气溶胶防护装置。

技术介绍

[0002]磁控溅射是一种常见的真空镀膜方式，在高真空的环境中，通过在靶材和基体之间施加电压，使得工作气体氩气电离，电离出的氩离子轰击阴极靶材，靶材原子被溅射出来，沉积在基体表面。使用普通材料作阴极时，这种工作形式并不会产生任何操作上的问题。但是当使用放射性材料作为靶材时，由于溅射过程中，大量靶材以原子的形式进入腔体中，吸附在工件架表面或者腔体内壁，重新开炉时，这些吸附的放射性物质将重新进入大气，成为放射性气溶胶被人体吸入，从而对人体造成永久性的放射性内照射。
[0003]因而，目前的磁控溅射镀膜设备在使用放射性材料作为靶材时，存在操作人员内照射剂量过大的问题，需要加以改进。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种放射性靶材磁控溅射镀膜的气溶胶防护装置，能够防止放射性物质成为放射性气溶胶被人体吸入，从而避免对人体造成永久性的放射性内照射。
[0005]本技术提供一种放射性靶材磁控溅射镀膜的气溶胶防护装置，包括磁控溅射装置，所述磁控溅射装置周围搭建有密封的气帐，所述气帐将所述磁控溅射装置处于一个密封空间，所述气帐连接有排风系统，所述排风系统用于置换所述气帐内的气体。
[0006]进一步地，所述磁控溅射装置的镀膜腔体分别连接有真空泵组和氩气瓶，向镀膜腔体通入氩气，然后再开启真空泵组，在镀膜腔体内实现气氛置换，吹扫其中残余的放射性物质。
[0007]进一步地，所述镀膜腔体内壁铺设有衬板，使得镀膜过程中产生的放射性原子沉积在所述衬板上。
[0008]进一步地，所述衬板与所述镀膜腔体可拆卸连接。
[0009]进一步地，所述排风系统包括进风过滤器和排风机，所述进风过滤器和所述排风机分别与所述气帐连接。
[0010]进一步地，所述气帐采用钢管骨架和骨架填充物组合而成。
[0011]进一步地，所述骨架填充物为塑料篷布或胶合板中的一种。
[0012]进一步地，所述气帐的尺寸大小可容纳磁控溅射装置和一人的工作区域。
[0013]进一步地，所述气帐内设有放射性检测仪。
[0014]进一步地，所述磁控溅射装置的磁控靶采用柱状磁控靶，放射性材料做成柱靶放在磁控靶的空心圆管工件内部。
[0015]有益效果：
[0016]本技术通过在镀膜腔体中增加衬板以及氩气置换功能，通过在镀膜设备外搭建气帐，并配备进排风系统，这样使得镀膜腔体中可能产生的放射性气溶胶经历两次气氛置换，大幅度降低了人员的受照剂量，使得人员能够正常操作放射性磁控靶材。
附图说明
[0017]为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0018]图1为本技术整体示意图；
[0019]附图标记说明：1
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进风过滤器、2
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气帐、3
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排风机、4
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镀膜腔体、5
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磁控溅射装置、6
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工件架、7
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磁控靶、8
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放射性检测仪、9
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真空泵组、10
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氩气瓶。
具体实施方式
[0020]下面将结合实施例对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0021]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0022]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。此外，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0023]实施例1
[0024]一种放射性靶材磁控溅射镀膜的气溶胶防护装置，如图1所示，包括磁控溅射装置5，磁控溅射装置5周围搭建有密封的气帐2，气帐2采用钢管骨架和塑料篷布组合而成，气帐2的尺寸大小可容纳磁控溅射装置5和一人的工作区域，太大的气帐不利于进行气氛置换；气帐2将磁控溅射装置5处于一个密封空间，气帐2连接有排风系统，排风系统用于置换气帐2内的气体；排风系统包括进风过滤器1和排风机3，进风过滤器1和排风机3分别与气帐2连接。搭建气帐2的作用是为了在打开腔体的瞬间，利用气帐2的排风系统将气帐2内的气体进行置换，减少从腔体中出来的气溶胶浓度。
[0025]磁控溅射装置5的镀膜腔体4分别连接有真空泵组9和氩气瓶10，向镀膜腔体4通入
氩气，然后再开启真空泵组9，在镀膜腔体4内实现气氛置换，吹扫其中残余的放射性物质。磁控溅射腔体破空阀需连接氩气瓶，而不是空气，目的是镀膜完成之后，向真空腔体通入氩气，然后再开启真空泵组9，在镀膜腔体4内实现气氛置换，吹扫其中残余的放射性物质。同时，由于放射性材料金属一般为活泼金属，向腔体中通入氩气可以保护工件，减少工件因接触空气氧化，提升产品质量。镀膜腔体4内壁铺设有可拆卸的衬板，使得镀膜过程中产生的放射性原子沉积在衬板上。这样在进行真空腔体清洁去污的过程中，可以更换新的衬板，拆下的旧衬板可统一去污，这样使得腔体能够快速投入使用，降低腔体去污的难度。
[0026]磁控溅射装置5的磁控靶7采用柱状磁控靶，放射性材料做成柱靶放在磁控靶的空心圆管工件内部，这种形式的靶材溅射出来的原子80％以上在工件上沉积，小部分在工件架6沉积，可以从源头上减少放射性气溶胶；气帐2内还设有放射性检测仪8。
[0027]本技术在原有磁控溅射装置的基础上，将原来连接大本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种放射性靶材磁控溅射镀膜的气溶胶防护装置，其特征在于，包括磁控溅射装置，所述磁控溅射装置周围搭建有密封的气帐，所述气帐将所述磁控溅射装置处于一个密封空间，所述气帐连接有排风系统，所述排风系统用于置换所述气帐内的气体，所述磁控溅射装置的镀膜腔体分别连接有真空泵组和氩气瓶，所述镀膜腔体内壁铺设有衬板，使得镀膜过程中产生的放射性原子沉积在所述衬板上。2.根据权利要求1所述的放射性靶材磁控溅射镀膜的气溶胶防护装置，其特征在于，所述衬板与所述镀膜腔体可拆卸连接。3.根据权利要求2所述的放射性靶材磁控溅射镀膜的气溶胶...

【专利技术属性】
技术研发人员：付天佐，王江，孟树文，陈义武，钟轶强，刘金生，程元芬，王悦，周利华，
申请(专利权)人：中核四零四有限公司，
类型：新型
国别省市：