本实用新型专利技术提供一种氧化铝陶瓷磁控溅射镀膜装置，包括真空溅射腔，所述真空溅射腔两侧对称设置有两组与电动推杆相连接的磁控调节腔，该氧化铝陶瓷磁控溅射镀膜装置，靶材板通过卡合槽和卡合块与真空溅射腔内部的阴极连接座进行定位卡合安装，且用于氧化铝陶瓷限位放置的分隔基板和支撑板通过电动伸缩杆与真空溅射腔构成升降结构，通过密封盖板的取下，可以方便工作人员通过向上抽拉的方式对靶材板进行便利稳定的拆出更换，且通过电动伸缩杆的升出，可以带动连接板和镀膜后的氧化铝陶瓷向上进行稳定顶出，以方便工作人员对氧化铝陶瓷进行稳定的拆装更换，提高了该装置内部靶材板及镀膜氧化铝陶瓷拆装使用的便利性。材板及镀膜氧化铝陶瓷拆装使用的便利性。材板及镀膜氧化铝陶瓷拆装使用的便利性。
【技术实现步骤摘要】
一种氧化铝陶瓷磁控溅射镀膜装置
[0001]本技术涉及磁控溅射镀膜装置
，具体为一种氧化铝陶瓷磁控溅射镀膜装置。
技术介绍
[0002]在氧化铝陶瓷生产的生产工序中，往往会通过磁控溅射镀膜装置的配合使用，在抽真空环境中通过氩离子轰击靶材，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到氧化铝陶瓷表面进行防护涂层的镀膜保护，但现有的磁控溅射镀膜装置在进行使用时，往往不方便工作人员对磁控溅射镀膜装置内部靶材板及镀膜氧化铝陶瓷进行便捷拆装，且在使用时功能性不强，为此，现提供一种氧化铝陶瓷磁控溅射镀膜装置。
技术实现思路
[0003]针对现有技术存在的不足，本技术目的是提供一种氧化铝陶瓷磁控溅射镀膜装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0004]为了实现上述目的，本技术是通过如下的技术方案来实现：一种氧化铝陶瓷磁控溅射镀膜装置，包括真空溅射腔，所述真空溅射腔两侧对称设置有两组与电动推杆相连接的磁控调节腔，两组所述磁控调节腔与真空溅射腔呈密封贯穿设置，所述电动推杆推出端一体化设置有磁控板，两组所述磁控调节腔通过电动推杆与磁控板构成伸缩结构，所述磁控调节腔内部对称设置有两组与磁控板11相对位的阴极连接座，所述真空溅射腔底部对称设置有两组伸缩端与支撑板相连接的电动伸缩杆。
[0005]进一步的，所述真空溅射腔底部固定设置有与多组伸缩支脚伸缩端相连接的支撑座，所述支撑座底部固定安装有真空泵，所述真空泵外侧设置有与真空溅射腔和支撑座底部贯穿连接的抽气管道。
[0006]进一步的，所述真空溅射腔上端设置有透明材质密封盖板，所述密封盖板底部设置有与真空溅射腔上端限位块贴合密封的密封垫块。
[0007]进一步的，两组所述阴极连接座内侧均通过卡合槽和卡合块的插接卡合与靶材板构成限位结构。
[0008]进一步的，所述真空溅射腔外侧一体化设置有用于氩气输送的进气分流腔和进气接口，所述进气分流腔两侧对称开设有与真空溅射腔相贯穿的出气管道，两组所述出气管道外部均贯穿安装有电磁阀。
[0009]进一步的，所述支撑板上端嵌套轴接有与传动电机输出轴相连接的轴接转盘，所述轴接转盘上端一体化设置有用于对两组氧化铝陶瓷分隔放置的分隔基板。
[0010]进一步的，所述分隔基板两侧均对位设置有多组用于对氧化铝陶瓷吸附固定的限位吸盘。
[0011]进一步的，所述支撑板通过两组电动伸缩杆与分隔基板构成升降结构，所述支撑板通过传动电机和轴接转盘的传动与分隔基板构成转动机构。
[0012]本技术的有益效果：本技术的一种氧化铝陶瓷磁控溅射镀膜装置，包括真空溅射腔、支撑座、伸缩支脚、密封盖板、密封垫块、限位块、真空泵、抽气管道、磁控调节腔、电动推杆、磁控板、阴极连接座、卡合槽、卡合块、靶材板、进气分流腔、进气接口、出气管道、电磁阀、电动伸缩杆、支撑板、轴接转盘、传动电机、分隔基板、限位吸盘。
[0013]1.该氧化铝陶瓷磁控溅射镀膜装置，密封盖板通过密封垫块和限位块密封嵌套于真空溅射腔上端，且靶材板通过卡合槽和卡合块与真空溅射腔内部的阴极连接座进行定位卡合安装，并且用于氧化铝陶瓷限位放置的分隔基板和支撑板通过电动伸缩杆与真空溅射腔构成升降结构，通过密封盖板的取下，可以方便工作人员通过向上抽拉的方式对靶材板进行便利稳定的拆出更换，且通过电动伸缩杆的升出，可以带动连接板和镀膜后的氧化铝陶瓷向上进行稳定顶出，以方便工作人员对氧化铝陶瓷进行稳定的拆装更换，提高了该装置内部靶材板及镀膜氧化铝陶瓷拆装使用的便利性，同时用于对氧化铝陶瓷表面镀膜的靶材板在真空溅射腔内部对位设置有两组，且用于氧化铝陶瓷限位放置的分隔基板两面通过限位吸盘可同时与两组氧化铝陶瓷相连接，使该装置可以通过同材质靶材板的卡合安装，对两组氧化铝陶瓷进行高效稳定的同步处理，并可通过两组两种不同材质靶材板的卡合安装，对两组氧化铝陶瓷进行不同材质的同步镀膜处理，或对单组限位放置的氧化铝陶瓷进行不同材质的双层级镀膜处理，提高了该装置使用中的适用性和功能性。
附图说明
[0014]图1为本技术一种氧化铝陶瓷磁控溅射镀膜装置的主视外形结构示意图；
[0015]图2为本技术一种氧化铝陶瓷磁控溅射镀膜装置的主视结构剖视图；
[0016]图3为本技术一种氧化铝陶瓷磁控溅射镀膜装置的图2中A处放大结构示意图；
[0017]图4为本技术一种氧化铝陶瓷磁控溅射镀膜装置的进气分流腔背视结构示意图；
[0018]图5为本技术一种氧化铝陶瓷磁控溅射镀膜装置的支撑板俯视结构示意图；
[0019]图中：1、真空溅射腔；2、支撑座；3、伸缩支脚；4、密封盖板；5、密封垫块；6、限位块；7、真空泵；8、抽气管道；9、磁控调节腔；10、电动推杆；11、磁控板；12、阴极连接座；13、卡合槽；14、卡合块；15、靶材板；16、进气分流腔；17、进气接口；18、出气管道；19、电磁阀；20、电动伸缩杆；21、支撑板；22、轴接转盘；23、传动电机；24、分隔基板；25、限位吸盘。
具体实施方式
[0020]为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本技术。
[0021]请参阅图1至图5，本技术提供一种技术方案：一种氧化铝陶瓷磁控溅射镀膜装置，包括真空溅射腔1，所述真空溅射腔1两侧对称设置有两组与电动推杆10相连接的磁控调节腔9，两组所述磁控调节腔9与真空溅射腔1呈密封贯穿设置，所述电动推杆10推出端一体化设置有磁控板11，两组所述磁控调节腔9通过电动推杆10与磁控板11构成伸缩结构，所述磁控调节腔9内部对称设置有两组与磁控板11相对位的阴极连接座12，所述真空溅射腔1底部对称设置有两组伸缩端与支撑板21相连接的电动伸缩杆20，在该装置进行使用时，
通过磁控调节腔9中电动推杆10的伸缩，可以对磁控板11与阴极连接座12和靶材板15之间的距离进行稳定调整，以达到对靶材板15的溅射磁场进行稳定调节。
[0022]本实施例，所述真空溅射腔1底部固定设置有与多组伸缩支脚3伸缩端相连接的支撑座2，所述支撑座2底部固定安装有真空泵7，所述真空泵7外侧设置有与真空溅射腔1和支撑座2底部贯穿连接的抽气管道8，所述真空溅射腔1上端设置有透明材质密封盖板4，所述密封盖板4底部设置有与真空溅射腔1上端限位块6贴合密封的密封垫块5，在该装置进行使用时，通过支撑座2底部真空泵7的开启，可以对真空溅射腔1内部进行稳定的抽真空处理，且通过透明材质密封盖板4的设置，可以方便工作人员对氧化铝陶瓷的加工进行监测观看，且通过密封盖板4底部密封垫块5与真空溅射腔1上端开口处的嵌套卡合，可以在真空泵7抽真空加工时对真空溅射腔1内部进行稳定密封。
[0023]本实施例，两组所述阴极连接座12内侧均通过卡合槽13和卡合块14的插接卡合与靶材板15构成限位结构，在该装置进行使用时，通过阴极连接座12和靶材板15之间卡合槽13和卡合块14的导向卡合设置本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种氧化铝陶瓷磁控溅射镀膜装置，包括真空溅射腔（1），其特征在于：所述真空溅射腔（1）两侧对称设置有两组与电动推杆（10）相连接的磁控调节腔（9），两组所述磁控调节腔（9）与真空溅射腔（1）呈密封贯穿设置，所述电动推杆（10）推出端一体化设置有磁控板（11），两组所述磁控调节腔（9）通过电动推杆（10）与磁控板（11）构成伸缩结构，所述磁控调节腔（9）内部对称设置有两组与磁控板（11）相对位的阴极连接座（12），所述真空溅射腔（1）底部对称设置有两组伸缩端与支撑板（21）相连接的电动伸缩杆（20）。2.根据权利要求1所述的一种氧化铝陶瓷磁控溅射镀膜装置，其特征在于：所述真空溅射腔（1）底部固定设置有与多组伸缩支脚（3）伸缩端相连接的支撑座（2），所述支撑座（2）底部固定安装有真空泵（7），所述真空泵（7）外侧设置有与真空溅射腔（1）和支撑座（2）底部贯穿连接的抽气管道（8）。3.根据权利要求2所述的一种氧化铝陶瓷磁控溅射镀膜装置，其特征在于：所述真空溅射腔（1）上端设置有透明材质密封盖板（4），所述密封盖板（4）底部设置有与真空溅射腔（1）上端限位块（6）贴合密封的密封垫块（5）。4.根据权利要求1所述的一种氧化铝陶瓷磁控溅射镀膜装...
【专利技术属性】
技术研发人员：宋登洲，胡兴胜，胡苗，
申请(专利权)人：富力天晟科技武汉有限公司，
类型：新型
国别省市：
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