【技术实现步骤摘要】
一种有机蒸镀掩膜版及其制作方法
[0001]本专利技术属于微型显示
,具体为设计一种有机蒸镀掩膜版及其制作方法。
[0002]
技术介绍
[0003]硅基OLED(Organic Light Emitting Display)被称为下一代显示技术的黑马,它区别于常规的利用非晶硅、微晶硅或者低温多晶硅薄膜晶体管为背板的AMOLED器件,它是以单晶硅作为有源驱动背板制作的主动式有机发光二极管显示器件,像素尺寸为传统显示器件的1/10甚至更小,精细度远远高于传统器件,具有高分辨率、高集成度、低功耗、体积小、重量轻等诸多优势,普通的硅基OLED就可实现超过人眼分辨力极限的显示效果。硅基OLED微显示器现已广泛应用于机戴头盔、枪瞄、夜视仪等行业用市场,并且随着AR/VR以及自动驾驶等新技术的应用,硅基OLED微显示器件将迎来爆发式的增长。
[0004]在硅基OLED制造技术中,其各功能层通常使用标准开口的掩膜版,采用物理气相沉积工艺进行有机层的蒸发镀膜。由于在蒸镀贴合对位过程中,存在磁力板的位置调控过程,掩膜版在开口处存在 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种有机蒸镀用掩膜版,包括本体,所述本体上设置有多个半蚀刻蒸镀开口,其特征在于,所述本体的半蚀刻开口区域上设有多个环绕开口的支撑柱装置,所述支撑柱装置通过限制蒸镀对位贴合过程中的磁力变化导致的掩膜版半蚀刻区域形变。2.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述支撑柱装置位于所述掩膜版半蚀刻开口区的内侧表面,其高度与掩膜版整体高度一致。3.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述支撑柱装置为圆形图形,直径为100
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200um。4.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述支撑柱装置使用蚀刻工艺制作完成。5.一种掩膜版制作方法,所述掩膜版本体上设置有多个半蚀刻蒸镀开口,...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘腾飞,铁清木,杨建兵,张阳,王杰,顾文彬,
申请(专利权)人:南京国兆光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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