蒸镀掩模制造技术

本发明专利技术提供一种抑制了在掩模图案产生的变形的蒸镀掩模，蒸镀掩模包括具有多个开口部的掩模部、保持所述掩模部的保持框和连接所述掩模部与所述保持框的连接部，所述连接部包含以具有第1膜厚的方式与所述掩模部接触的第1部分和以具有比所述第1膜厚薄的第2膜厚的方式与所述掩模部接触的第2部分。所述第2部分也可以位于比所述第1部分靠所述掩模部的内侧的位置。位置。位置。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀掩模


[0001]本专利技术涉及蒸镀掩模。

技术介绍

[0002]通常，在制造有机EL显示装置的过程中，在由有机EL材料构成的层(有机EL层)的形成中使用真空蒸镀法。在真空蒸镀法中，使蒸镀掩模靠近被处理基板，隔着蒸镀掩模对被处理基板进行有机EL材料的蒸镀。蒸镀掩模具有多个开口部。有机EL材料通过多个开口而到达被处理基板，因此能够在与多个开口部对应的位置选择性地形成有机EL层。
[0003]蒸镀掩模分为使用蚀刻技术来形成开口图案的精细金属掩模(FMM)和使用电铸(电铸造)技术来形成开口图案的电致成型掩模(EFM)。例如，在专利文献1中，公开有利用电铸技术形成具有高精细的开口图案的掩模部，并利用电铸技术将所形成的掩模部固定在框体部的方法。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2017
‑
210633号公报。

技术实现思路

[0007]专利技术所要解决的问题
[0008]在上述现有技术中，在由金属板构成的母模上形成掩模图案(电铸层)，在掩模图案上粘接框体，之后，经由金属层连接框体与掩模图案。然后，从掩模图案剥离母模，由此完成框体与掩模图案经由金属层连接的蒸镀掩模。但是，在从掩模图案剥离母模时，有时会在薄膜状的掩模图案与金属层接触的区域的附近(即，金属层的边缘部附近)产生大的垂直应力，存在由于该垂直应力的原因而在掩模图案产生变形的问题。在掩模图案产生的变形可能会导致设置在掩模图案中的开口部(蒸镀孔)的错位，使蒸镀精度降低。
[0009]本专利技术的一个实施方式的目的之一是，提供抑制了在掩模图案产生的变形的蒸镀掩模。
[0010]本专利技术的一个实施方式的目的之一是，抑制由于母模的剥离而使掩模部产生变形。
[0011]用于解决问题的技术手段
[0012]本专利技术的一个实施方式的蒸镀掩模包括：具有多个开口部的掩模部；保持所述掩模部的保持框；和连接所述掩模部与所述保持框的连接部，所述连接部包含：以具有第1膜厚的方式与所述掩模部接触的第1部分；和以具有比所述第1膜厚薄的第2膜厚的方式与所述掩模部接触的第2部分。
附图说明
[0013]图1是表示第1实施方式的蒸镀掩模的结构的俯视图。
[0014]图2是表示第1实施方式的蒸镀掩模的结构的截面图。
[0015]图3A是表示将第1实施方式的蒸镀掩模的一部分放大后的结构的俯视图。
[0016]图3B是表示以B
‑
B
’
线剖切图3A后的结构的截面图。
[0017]图4是表示第1实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0018]图5是表示第1实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0019]图6是表示第1实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0020]图7是表示第1实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0021]图8是表示第1实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0022]图9是表示第1实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0023]图10是表示第1实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0024]图11是表示第1实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0025]图12是表示第1实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0026]图13是表示第1实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0027]图14是表示第1实施方式的变形例1的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0028]图15是表示第1实施方式的变形例1的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0029]图16是表示第1实施方式的变形例2的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0030]图17是表示第1实施方式的变形例2的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0031]图18是表示第2实施方式的蒸镀掩模的结构的俯视图。
[0032]图19是表示第2实施方式的蒸镀掩模的结构的截面图。
[0033]附图标记的说明
[0034]100、100A
…
蒸镀掩模，110
…
掩模部，111
…
开口部，112
…
非开口部，115
…
面板区域，120
…
保持框，130
…
连接部，130a、130b、130c
…
金属层，131
…
第1部分，132
…
第2部分，200
…
基板，210
…
种子层，220、240、242、246
…
抗蚀剂图案。
具体实施方式
[0035]以下，参照附图等说明本专利技术的实施方式。另外，本专利技术能够在不脱离其主旨的范围以各种各样的方式实施，不应限定于以下例示的实施方式的记载内容来解释，对于厚度、形状等，有示意地表示的情况，不过这只不过是一个例子而已，并不限定本专利技术的解释。在本说明书和各图中，对具备与关于已有的图面说明的内容相同的功能的要素，标注相同的附图标记，省略重复的说明。
[0036]在本说明书和权利要求的范围内，表述在某个结构体上配置其它结构体的方式时，仅记作“在
……
上”的情况下，只要没有特意禁止，就包含以与某个结构体接触的方式在正上方配置其它结构体的情况，和在某个结构体的上方还隔着另外的结构体地配置其它结构体的情况这两种情况。
[0037]在本说明书中“α包含A、B或C”、“α包含A、B和C的任一个”、“α包含选自A、B和C的一个”这样的表述，只要没有特意说明，就不排除α包含A～C的多个组合的情况。进一步，这些表述也不排除α包含其它要素的情况。
[0038]<第1实施方式>
[0039][蒸镀掩模的结构][0040]图1是表示本专利技术的第1实施方式的蒸镀掩模100的结构的俯视图。图2是表示本专利技术的第1实施方式的蒸镀掩模100的结构的截面图。具体而言，图2所示的截面图表示沿着图1的线段A
‑
A
’
的截面。如图1和图2所示，蒸镀掩模100具有通过电铸(电铸造)形成的薄膜状的掩模部110、保持掩模部110的保持框120和连接掩模部110与保持框120的连接部130。
[0041]掩模部110具有多个面板区域115。在蒸镀有机EL材料时，以有机EL显示装置的显示区域与各面板区域115重叠的方式配置被蒸镀基板(未图示)。在各面板区域115，多个开口部111与有机EL显示装置的像素间距一致地设置。将掩模部110的开口部111以外的区域称为非开口部112。非开口部112是包围各开口部111的区域。非开口部112在各面板区域115相当于遮蔽蒸镀材料的部分。
[0042]在蒸镀时，以被蒸镀基板的蒸镀区域(要形成薄膜的区域)与开口部111重叠，被蒸镀基板的非蒸本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀掩模，其特征在于，包括：具有多个开口部的掩模部；保持所述掩模部的保持框；和连接所述掩模部与所述保持框的连接部，所述连接部包含：以具有第1膜厚的方式与所述掩模部接触的第1部分；和以具有比所述第1膜厚薄的第2膜厚的方式与所述掩模部接触的第2部分。2.如权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于：所述第2部分位于比所述第1部分靠所述掩模部的内侧的位置。3.如权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于：俯视时，所述第2部分的宽度为10μm以上。4.如权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于：所述连接部以具有所述第1膜厚的方式与所述保持框的侧面接触。5.如权利要求1所述的蒸镀掩...

【专利技术属性】
技术研发人员：木村辽太郎，渡部将弘，
申请(专利权)人：株式会社日本显示器，
类型：发明
国别省市：