一种高脉冲在钛管内壁沉积纳米氮化钛薄膜装置结构制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于镀膜技术领域，公开了一种高脉冲在钛管内壁沉积纳米氮化钛薄膜装置结构，包括双层水冷真空镀膜室，所述双层水冷真空镀膜室上安装有高脉冲电源，所述高脉冲电源上安装有旋转基片台，所述旋转基片台上固定连接有高脉冲磁控溅射旋转阴极，所述高脉冲磁控溅射旋转阴极处于双层水冷真空镀膜室的内部，所述高脉冲磁控溅射旋转阴极的外侧套设有钛合金管，所述钛合金管的底端与旋转基片台的外侧接触，所述双层水冷真空镀膜室上安装有加热烘烤系统。该实用新型专利技术，采用高脉冲技术，使钛管内壁沉积的纳米氮化钛耐磨涂层更光洁、更均匀、更耐磨、附着力更好。附着力更好。附着力更好。

【技术实现步骤摘要】
一种高脉冲在钛管内壁沉积纳米氮化钛薄膜装置结构


[0001]本技术涉及镀膜
，具体涉及一种高脉冲在钛管内壁沉积纳米氮化钛薄膜装置结构。

技术介绍

[0002]公知的，随着科学技术的飞速发展，真空镀膜的技术已经得到普遍应用，在钛管内壁沉积纳米氮化钛耐磨涂层时，真空镀膜结构是一个重要的问题，镀膜结构设计不合理，会严重影响产品的沉积品质，钛管内表面沉积纳米氮化钛耐磨涂层是指在钛合金管内表面镀上一层维氏硬度约2000HV的纳米薄膜材料，它与加热温度、高脉冲磁控溅射阴极布置、高脉冲溅射电源功率大小、气路结构有关。
[0003]现有的钛管内壁制备耐磨涂层主要采用超音速喷涂技术，但该方式在使用过程中存在以下缺陷：
[0004]采用超音速喷涂技术，虽可达到生产需求，但其均匀一般，易影响产品的沉积品质，从而导致钛管上纳米氮化钛耐磨涂层的耐磨性与附着力不佳。

技术实现思路

[0005]针对现有技术中存在的问题，本技术的目的在于提供一种高脉冲在钛管内壁沉积纳米氮化钛薄膜装置结构。
[0006]为解决上述
技术介绍
问题，本技术采用如下的技术方案。
[0007]一种高脉冲在钛管内壁沉积纳米氮化钛薄膜装置结构，包括双层水冷真空镀膜室，所述双层水冷真空镀膜室上安装有高脉冲电源，所述高脉冲电源上安装有旋转基片台，所述旋转基片台上固定连接有高脉冲磁控溅射旋转阴极，所述高脉冲磁控溅射旋转阴极处于双层水冷真空镀膜室的内部，所述高脉冲磁控溅射旋转阴极的外侧套设有钛合金管，所述钛合金管的底端与旋转基片台的外侧接触，所述双层水冷真空镀膜室上安装有加热烘烤系统，所述双层水冷真空镀膜室的左侧安装有高真空抽气系统。
[0008]作为上述技术方案的进一步描述：
[0009]所述双层水冷真空镀膜室上安装有质量流量计。
[0010]相比于现有技术，本技术的优点在于：
[0011]本方案在使用时，可将钛合金管套设至高脉冲磁控溅射旋转阴极上，进行镀膜加工，且在加工过程中可根据需要来调整质量流量计的进气量大小、高脉冲电源的功率大小、加热烘烤系统的温度高低与旋转基片台的转速，即可在钛合金管内表面均匀致密的制备一层高质量的纳米氮化钛耐磨涂层。
附图说明
[0012]图1为本技术的结构示意图。
[0013]图中标号说明：
[0014]1、双层水冷真空镀膜室；2、钛合金管；3、高脉冲磁控溅射旋转阴极；4、质量流量计；5、高真空抽气系统；6、加热烘烤系统；7、旋转基片台；8、高脉冲电源。
具体实施方式
[0015]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述；
[0016]请参阅图1，本技术中，一种高脉冲在钛管内壁沉积纳米氮化钛薄膜装置结构，包括双层水冷真空镀膜室1，双层水冷真空镀膜室1上安装有高脉冲电源8，高脉冲电源8上安装有旋转基片台7，旋转基片台7上固定连接有高脉冲磁控溅射旋转阴极3，高脉冲磁控溅射旋转阴极3处于双层水冷真空镀膜室1的内部，高脉冲磁控溅射旋转阴极3的外侧套设有钛合金管2，钛合金管2的底端与旋转基片台7的外侧接触，双层水冷真空镀膜室1上安装有加热烘烤系统6，双层水冷真空镀膜室1的左侧安装有高真空抽气系统5。
[0017]双层水冷真空镀膜室1上安装有质量流量计4。
[0018]本技术中，采用高真空抽气系统5运作，搭配双层水冷真空镀膜室1，对钛管加工提供合适环境，在使用时，可将钛合金管2套设至高脉冲磁控溅射旋转阴极3，上，进行镀膜加工，且在加工过程中可根据需要来调整质量流量计4的进气量大小、高脉冲电源8的功率大小、加热烘烤系统6的温度高低与旋转基片台7的转速，即可在钛合金管2内表面均匀致密的制备一层高质量的纳米氮化钛耐磨涂层，整个装置，采用高脉冲技术，使钛合金管2内壁沉积的纳米氮化钛耐磨涂层更光洁、更均匀、更耐磨、附着力更好。
[0019]需要说明的是，本申请各设备的电路连接关系均属于简单的串联、并联连接电路，在电路连接这一块并不存在创新点，本领域技术人员可以较为容易的实现，属于现有技术，不再赘述。
[0020]以上所述，仅为本技术较佳的具体实施方式；但本技术的保护范围并不局限于此。任何熟悉本
的技术人员在本技术揭露的技术范围内，根据本技术的技术方案及其改进构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本技术的保护范围内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高脉冲在钛管内壁沉积纳米氮化钛薄膜装置结构，包括双层水冷真空镀膜室(1)，其特征在于：所述双层水冷真空镀膜室(1)上安装有高脉冲电源(8)，所述高脉冲电源(8)上安装有旋转基片台(7)，所述旋转基片台(7)上固定连接有高脉冲磁控溅射旋转阴极(3)，所述高脉冲磁控溅射旋转阴极(3)处于双层水冷真空镀膜室(1)的内部，所述高脉冲磁控溅射旋转阴极(3...

【专利技术属性】
技术研发人员：邹杨，孙蕾，邹松东，
申请(专利权)人：洛阳奥尔材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：