蒸镀掩模单元制造技术

本发明专利技术提供耐久性高的蒸镀掩模单元和蒸镀掩模单元的制造方法。本发明专利技术的一个实施方式的蒸镀掩模单元包括：具有多个框的支承框架；设置在所述多个框各自的内侧的蒸镀掩模，其由具有多个第1开口和比所述第1开口大的第2开口的金属膜构成；和设置在所述多个框各自的内侧的连接部，其将所述多个框与所述蒸镀掩模连接，所述第2开口在距所述连接部的端部规定的距离以内的位置具有外缘。距离以内的位置具有外缘。距离以内的位置具有外缘。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀掩模单元


[0001]本专利技术的一个实施方式涉及蒸镀掩模单元和蒸镀掩模单元的制造方法。

技术介绍

[0002]近年来，已知使用有机EL元件作为发光元件的有机EL显示装置。有机EL元件具有阳极电极、阴极电极、和设置在阳极电极与阴极电极之间的包含有机EL材料的层(下面，称为“有机EL层”)。有机EL层例如包含发光层、电子注入层和空穴注入层等功能层。通过对阳极电极和阴极电极分别施加电压，在阳极电极与阴极电极之间流动电流，有机EL元件发光。为了形成有机EL元件的发光层，例如使用真空蒸镀法。在真空蒸镀法中，通过使用蒸镀掩模，形成与多个微细的开口图案对应的高精细的薄膜图案。高精细的薄膜图案为有机EL元件的发光层。另外，包括多个蒸镀掩模的蒸镀掩模单元能够形成多个有机EL显示装置的发光层。
[0003]使用电铸(电气铸造)技术制造的电精细成形掩模(EFM)是蒸镀掩模的1种。在电铸技术中，例如使用电镀(镀敷法)来制造蒸镀掩模。专利文献1公开了使用电铸技术制造蒸镀掩模的方法。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2017
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210633号公报

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的技术问题
[0008]蒸镀掩模单元在有机EL元件的发光层的形成中要反复使用。因此，对蒸镀掩模单元要求高耐久性。
[0009]本专利技术的一个实施方式的目的之一在于提供耐久性高的蒸镀掩模单元和蒸镀掩模单元的制造方法。
[0010]用于解决技术问题的手段
[0011]本专利技术的一个实施方式的蒸镀掩模单元包括：具有多个框的支承框架；设置在所述多个框各自的内侧的蒸镀掩模，其由具有多个第1开口和比所述第1开口大的第2开口的金属膜构成；和设置在所述多个框各自的内侧的连接部，其将所述多个框与所述蒸镀掩模连接，所述第2开口在距所述连接部的端部规定的距离以内的位置具有外缘。
附图说明
[0012]图1表示第1实施方式的蒸镀掩模单元的示意性平面图。
[0013]图2表示沿着图1所示的A1
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A2线的截面结构的截面图。
[0014]图3的(A)表示沿着图1所示的B1
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B2线的截面结构的截面图，图3的(B)表示图3的(A)的一部分的放大图。
[0015]图4的(A)、图4的(B)和图4的(C)表示第1实施方式的TEG(Test Element Group：测试元件组)的示意性平面图。
[0016]图5的(A)表示比较例的TEG的示意性平面图，图5的(B)表示沿着图5的(A)所示的B3
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B4线的截面结构的截面图。
[0017]图6的(A)、图6的(B)和图6的(C)是表示制造第1实施方式的蒸镀掩模单元的方法的示意性截面图。
[0018]图7的(A)和图7的(B)是表示制造第1实施方式的蒸镀掩模单元的方法的示意性截面图。
[0019]图8是表示制造第1实施方式的蒸镀掩模单元的方法的示意性截面图。
[0020]图9的(A)和图9的(B)是表示制造第1实施方式的蒸镀掩模单元的方法的示意性截面图。
[0021]图10的(A)和图10的(B)是表示制造第1实施方式的蒸镀掩模单元的方法的示意性截面图。
[0022]图11表示第2实施方式的蒸镀掩模单元的示意性平面图。
[0023]图12表示沿着图11所示的C1
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C2线的截面结构的截面图。
[0024]图13表示沿着图11所示的D1
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D2线的截面结构的截面图。
[0025]图14的(A)、图14的(B)和图14的(C)表示第2实施方式的TEG的示意性平面图。
[0026]图15的(A)表示第3实施方式的TEG的示意性平面图，图15的(B)表示沿着图15的(A)所示的E1
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E2线的截面结构的截面图。
[0027]图16的(A)表示第3实施方式的TEG的示意性平面图，图16的(B)表示沿着图16的(A)所示的F1
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F2线的截面结构的截面图。
[0028]图17的(A)表示第3实施方式的TEG的示意性平面图，图17的(B)表示沿着图17的(A)所示的G1
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G2线的截面结构的截面图。
[0029]附图标记说明
[0030]100：蒸镀掩模单元，100B：蒸镀掩模单元，102：蒸镀掩模，103：开口(第1开口)，104：掩模图案，105：金属膜，105a：第1面，105b：第2面，105c：金属膜，105d：金属膜，105e：金属膜，106：连接部，106A：连接部，106B：壁部，108：支承框架，108A：支承框架(框)，108A：支承框架，109：开口(第2开口)，109A：角部，110：开口(第3开口)，111：开口(第4开口)，112：支承基板，116：剥离层，116B：剥离层，128：光掩模，129：遮光部，130：透光部，138：第1抗蚀剂掩模，140：虚设图案，142：保护膜，144：光固性树脂膜，145：剥离膜，146：保护膜，148：第2抗蚀剂掩模。
具体实施方式
[0031]下面，参照附图等对本专利技术的实施方式进行说明。但是，本专利技术可以以多种不同的方式实施，并不是限定于下面例示的实施方式的记载内容来解释。为了使说明更明确，有时附图与实际的方式相比，示意性地表示各部分的宽度、厚度、形状等，但只不过是一个例子，并不是对本专利技术的解释进行限定。另外，在本说明书和各图中，对于与关于已经出现的图在前面说明过的构成要素同样的构成要素，有时标注相同的附图标记、或在数字之后附加a、b、A、B等，而适当省略详细的说明。对各要素附加的“第1”、“第2”的文字，是为了区别各要素
而使用的方便起见的标识，只要没有特别的说明，就不具有其以外的意思。
[0032]在本说明书中，某个部件或区域位于另一个部件或区域“上(或下)”的情况，只要没有特别限定，就不仅包括位于另一个部件或区域的正上方(或正下方)的情况，而且也包括位于另一个部件或区域的上方(或下方)的情况，即，也包括在另一个部件或区域的上方(或下方)在某个部件或区域与另一个部件或区域之间包含其它构成要素的情况。
[0033]另外，在本说明书中，“α包括A、B或C”、“α包括A、B和C中的任一者”、“α包含选自A、B和C中的一者”等表述，只要没有特别明示，就不排除α包括A～C的多个组合的情况。而且，这些表述也不排除α包括其它要素的情况。
[0034]＜1.第1实施方式＞
[0035]＜1
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1.蒸镀掩模单元100的结构＞
[0036]图1是蒸镀掩模单元100的示意性平面图。图2是沿着图1所示的A1和A2的截面结构。图3的(A)表示沿着图1所示的B1和B2的截面结构的截面图，图3的(B)表示图3的(A)所示的TEG 200B本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀掩模单元，其特征在于，包括：具有多个框的支承框架；设置在所述多个框各自的内侧的蒸镀掩模，其由具有多个第1开口和比所述第1开口大的第2开口的金属膜构成；和设置在所述多个框各自的内侧的连接部，其将所述多个框与所述蒸镀掩模连接，所述第2开口在距所述连接部的端部规定的距离以内的位置具有外缘。2.如权利要求1所述的蒸镀掩模单元，其特征在于：所述第2开口设置在第3开口的内侧，所述第3开口设置在所述多个框中的至少1个框上。3.如权利要求1所述的蒸镀掩模单元，其特征在于：在俯视时，所述第2开口的形状为多边形。4.如权利要求3所述的蒸镀掩模单元，其特征在于：在俯视时，所述多边形...

【专利技术属性】
技术研发人员：木村辽太郎，松本优子，渡部将弘，
申请(专利权)人：株式会社日本显示器，
类型：发明
国别省市：