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本发明公开了一种有机蒸镀掩膜版及其制作方法，其中，所述的有机蒸镀掩膜版包括掩膜版本体，本体上设置有不同尺寸的开口，在开口区设置半蚀刻区域，本发明通过在其中半蚀刻区域表面上设置有环绕各个开口的支撑柱装置，支撑柱通过增加支撑接触限制开口沉积过程...
该专利属于南京国兆光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南京国兆光电科技有限公司授权不得商用。

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