基于派工规则的自适应铜化学机械抛光设备智能排程控制方法技术

一种基于派工规则的自适应铜化学机械抛光设备智能排程控制方法，所述方法包括：提供基础数据单元，用以存储每卡LOT与铜CMP设备的信息；提供具有设备参数、LOT参数及分配模型参数的参数配置单元，并对所述参数进行配置，使排程结果符合生产线需求；提供具有主层级单元和辅助层级单元的模型单元，主层级单元根据设备IDLE(空闲时间)，设备可作业LOT时间，可作业LOT进行分配，辅助层级单元在主层级单元基础上进行调整，用以完成铜CMP设备智能排程；排程输出单元，根据计算，得出每台设备的排货清单，设备根据排货清单进行派工。本发明专利技术不仅以调度界面进行呈现，便于生产线人员查询设备派工排程，而且可以提升设备利用率，降低产品品质风险，值得业界推广使用。值得业界推广使用。值得业界推广使用。

【技术实现步骤摘要】
基于派工规则的自适应铜化学机械抛光设备智能排程控制方法


[0001]本专利技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种基于派工规则的自适应铜CMP设备智能排程控制方法。

技术介绍

[0002]晶圆的生产分为前段、中段和后段，后段称为铜区。在铜区的生产过程中，经过设备依次为铜溅射设备、铜电镀设备、铜化学机械抛光设备。
[0003]正如大家所知晓地，生产过程中由于工艺限定，经过铜电镀设备与铜化学机械抛光设备会设定最长等待时间，且生产过程中不能超过最长等待时间。另外，铜化学机械抛光设备每天至少有一台设备处于保养状态，这就要求加工单元LOT需在铜化学机械抛光设备进行排程，才能保证每台设备加工LOT的均衡性。
[0004]寻求一种能够对铜化学机械抛光设备进行智能排程，并提升设备利用率，降低产品品质风险的控制方法已成为本领域技术人员亟待解决的技术问题之一。
[0005]故针对现有技术存在的问题，本案设计人凭借从事此行业多年的经验，积极研究改良，于是有了本专利技术一种基于派工规则的自适应铜CMP设备智能排程控制方法。<br/>
技术实现思路
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于派工规则的自适应铜化学机械抛光设备智能排程控制方法，其特征在于，所述基于派工规则的自适应铜CMP设备智能排程控制方法，包括：执行步骤S1：提供基础数据单元，所述基础数据单元用以存储每卡LOT与铜CMP设备的信息；执行步骤S2，提供具有设备参数、LOT参数及分配模型参数的参数配置单元，并对所述参数进行配置，使排程结果符合生产线需求；执行步骤S3，提供具有主层级单元和辅助层级单元的模型单元，主层级单元根据设备IDLE(空闲时间)，设备可作业LOT时间，可作业LOT进行分配，辅助层级单元在主层级单元基础上进行调整，用以完成铜CMP设备智能排程；执行步骤S4，排程输出单元，根据所述计算，得出每台设备的排货清单，设备便根据排货清单进行派工。2.如权利要求1所述基于派工规则的自适应铜CMP设备智能排程控制方法，其特征在于，所述基础数据单元中存储的每卡LOT即为从铜溅射设备至铜化学机械抛光设备所有等待作业的LOT和已在铜CMP设备作业的LOT。3.如权利要求2所述基于派工规则的自适应铜CMP设备智能排程控制方法，其特征在于，对于分配的LOT，划分为已在铜CMP设备的LOT0，铜CMP当站未在设备且当站等待的LOT1，未来T小时内到达铜CMP设备的LOT2。4.如权利要求1所述基于派工规则的自适应铜CMP设备智能排程控制方法，其特征在于，所述基础数据单元还需要准备每卡LOT与铜CMP设备的其他信息，所述信息为禁止(Inhibit)，平台的机台限定，机台可作业时间段，已在铜CMP机台产品数量，是否为跑片批次(Pirun Lot)，APC系统是否通过的至少其中之一。5.如权利要求1所述基于派工规则的自适应铜CMP设备智能排程控制方法，其特征在于，所述设备参数、LOT参数及分配模型参数的设置，进一步包括：执行步骤S21，对设备参数进行配置，根据设备保养计划设置每台设备不可用时间段，在不可用时间段内则对设备不进行排程；当检测到时间处于设置不可用时间起始点与结束时间点时，会立即启动模型单元，进行重新计算；定义可作业LOT数量；执行步骤S22，对LOT参数进行配置，未来T小时内到达铜CMP设备的T参数；执行步骤S23，对分配模型参数进行配置，主层级分配时间，即主层级模型分配时间点及分配时间间隔，M点为起始点，间隔N小时分配，循环分配，且间隔时间需要不大于每台设备排程的LOT总作业时间；辅助层级...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘欣欣，孙惺磊，何瑜，张峰，程杰，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：