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一种基于派工规则的自适应铜化学机械抛光设备智能排程控制方法，所述方法包括：提供基础数据单元，用以存储每卡LOT与铜CMP设备的信息；提供具有设备参数、LOT参数及分配模型参数的参数配置单元，并对所述参数进行配置，使排程结果符合生产线需求；提...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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