本发明专利技术提供一种真空泵，其能够在不进行翻修的情况下除去堆积物，进而能够检测堆积物的除去已完成。本发明专利技术具备清洁功能部和堆积传感器(206)，前述清洁功能部用于清洁真空泵(100)内的堆积物的清洁功能，前述堆积传感器(206)用于检测堆积物的堆积检测功能。进而，具备用于判定清洁的完成的清洁完成判定功能的读取回路部(207)、清洁完成判定回路部(208)，基于堆积传感器(206)的检测结果，清洁完成判定回路部(208)输出表示清洁的完成的清洁完成信号。号。号。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】真空泵
[0001]本专利技术涉及例如涡轮分子泵等真空泵。
技术介绍
[0002]一般地，作为真空泵的一种已知涡轮分子泵。在该涡轮分子泵中，通过向泵主体内的马达通电使旋转翼旋转，将吸入泵主体的气体(工艺气体)的气体分子弹飞，由此排出气体。此外，在这样的涡轮分子泵中，有为了适当管理泵内的温度而具备加热器、冷却管的类型的涡轮分子泵。
[0003]专利文献1：日本特开2011
‑
80407号公报。
[0004]但是，上述的涡轮分子泵这样的真空泵中，有被移送的气体内的物质析出的情况。例如，用于半导体制造装置的蚀刻工艺的气体在将吸入泵主体的气体(工艺气体)压缩而逐渐提高压力的过程中，由于排气流路的温度低于升华温度的条件，使副反应产物析出至真空泵、配管内部，有堵塞排气流路的情况。此外，在将从泵的吸气口抽吸的气体在泵内部压缩的过程中，有抽吸的气体超过从气体向固体相变的压力而在泵内部相变为固体的情况。结果，有如下情况：作为副反应产物的固体在泵内部堆积，由于该堆积物而产生不良情况。并且，为了除去析出的副反应产物，需要清扫真空泵、配管。此外，根据状况，也有进行真空泵、配管的修理、向新品的更换的必要。并且，有为了这些翻修的作业而使半导体制造装置暂时停止的情况。进而，翻修的期间根据状况也有持续数周以上的情况。
[0005]此外，以往的真空泵中，为了防止副反应产物附着于内部，有具备在作为通常动作的排气动作中借助加热器提高内部的排气路径的温度的功能的真空泵(专利文献1)。专利文献1所公开的专利技术中，将泵的排气流路中的下游侧加热，提高已吸入的气体的升华压力，成为气相区域，由此，防止副反应产物在泵内部堆积而排气流路闭塞。这样的加热时，在真空泵的结构零件处发生由于热引起的膨胀、变形等，为了避免零件彼此接触，对其上升温度(加热的目标温度)设置限制，为使温度不上升至设定值以上而进行温度管理。并且，为了在泵能够无不良情况地使用的允许温度内进行温度管理、且能够加热至能够防止副反应产物的析出的温度，想出各种各样的设计。但是，根据副反应产物的种类，有难以在能够完全防止析出的温度条件下使真空泵工作的情况。并且，结果，副反应产物析出，使半导体制造装置停止来进行真空泵的清扫、修理等。
[0006]这样，关于泵的温度管理方法想出各种各样的设计，另一方面，关于高效率地进行真空泵的清扫、修理等的方法几乎没有关注。本专利技术的目的在于提供一种真空泵，其能够在不进行翻修的情况下除去堆积物，进而能够检测堆积物的除去已完成。
技术实现思路
[0007](1)为了实现上述目的，本专利技术是一种真空泵，前述真空泵使旋转翼旋转来进行气体的排出，其特征在于，具备清洁功能部和堆积检测功能部，前述清洁功能部用于清洁前述真空泵内的堆积物的清洁功能，前述堆积检测功能部用于检测前述堆积物的堆积检测功
能。
[0008](2)此外，为了实现上述目的，其他本专利技术为(1)所述的真空泵，其特征在于，具备清洁完成判定功能部，前述清洁完成判定功能部用于判定前述清洁的完成的清洁完成判定功能，基于前述堆积检测功能部的检测结果，前述清洁完成判定功能部输出表示前述清洁的完成的清洁完成信号。
[0009](3)此外，为了实现上述目的，其他本专利技术为(2)所述的真空泵，其特征在于，前述清洁完成判定功能部基于前述堆积检测功能部的检测结果和能够改变的阈值进行前述清洁的完成的判定。
[0010](4)此外，为了实现上述目的，其他本专利技术为(1)至(3)的任一项所述的真空泵，其特征在于，前述堆积检测功能部具备投光部和受光部，前述投光部被朝向排出气体的流路地配置，前述受光部隔着前述流路与前述投光部相向，接受从前述投光部投射的检测光。
[0011](5)此外，为了实现上述目的，其他本专利技术为(1)至(3)的任一项所述的真空泵，其特征在于，前述堆积检测功能部具备投光部、反射部和受光部，前述投光部被朝向排出气体的流路地配置，前述反射部配置成隔着前述流路与前述投光部相向，将从前述投光部投射的检测光向前述流路反射，前述受光部接受被前述反射部反射的检测光。
[0012](6)此外，为了实现上述目的，其他本专利技术为(5)所述的真空泵，其特征在于，前述投光部和前述反射部的反射面被以除了90度的既定的角度配设。
[0013](7)此外，为了实现上述目的，其他本专利技术为(1)至(3)的任一项所述的真空泵，其特征在于，前述堆积检测功能部具备在排出气体的流路内设置的至少一对电极，能够检测前述电极间的电阻及静电容量中的一方或两方的变化。
[0014](8)此外，为了实现上述目的，其他本专利技术为(7)所述的真空泵，其特征在于，具备温度检测功能部和检测值修正功能部，前述温度检测功能部检测前述堆积检测功能部的安装对象部位的温度，前述检测值修正功能部基于前述温度检测功能部的检测结果，修正从前述堆积检测功能部的检测量读取的检测值。
[0015]专利技术效果根据上述专利技术，能够提供一种真空泵，其能够在不进行翻修的情况下除去堆积物，进而能够检测堆积物的除去已完成。
附图说明
[0016]图1是本专利技术的实施方式的涡轮分子泵的纵剖视图。
[0017]在图2是放大回路的回路图。
[0018]图3是表示电流指令值比检测值大的情况下的的控制的时间图。
[0019]图4是表示电流指令值比检测值小的情况下的的控制的时间图。
[0020]图5是表示涡轮分子泵的吸气口的周边部的放大图。
[0021]图6是表示涡轮分子泵的各功能部的框图。
[0022]图7是表示用于静电容量式的堆积检测手法的传感器基板的说明图。
[0023]图8的(a)是表示静电容量式的堆积检测手法的检测原理的清洁前的状态的说明图，(b)是表示清洁后的状态的说明图。
[0024]图9的(a)是表示光学式且透过型的堆积检测手法的检测原理的清洁前的状态的
说明图，(b)是表示清洁后的状态的说明图。
[0025]图10的(a)是表示光学式且反射型的堆积检测手法的检测原理的清洁前的状态的说明图，(b)是表示清洁后的状态的说明图。
[0026]图11是概略地表示从涡轮分子泵的清洁的实施至与阈值的比较的处理的流程的流程图。
[0027]图12是表示涡轮分子泵的基座部的周边部的放大图。
具体实施方式
[0028]以下，基于附图，对本专利技术的实施方式的真空泵进行说明。图1表示作为本专利技术的实施方式的真空泵的涡轮分子泵100。该涡轮分子泵100例如与半导体制造装置等这样的对象设备的真空腔(图示略)连接。
[0029]将该涡轮分子泵100的纵剖视图在图1中表示。图1中，涡轮分子泵100在圆筒状的外筒127的上端形成有吸气口101。并且，在外筒127的内侧具备旋转体103，前述旋转体103将用于将气体抽吸排出的涡轮叶片即多个旋转翼102(102a、102b、102c
・・・
)在周部放射状且多层地形成。在该旋转体103的中心安装本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种真空泵，使旋转翼旋转来进行气体的排出，其特征在于，前述真空泵具备清洁功能部和堆积检测功能部，前述清洁功能部用于清洁功能，前述清洁功能清洁前述真空泵内的堆积物，前述堆积检测功能部用于堆积检测功能，前述堆积检测功能检测前述堆积物。2.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，具备清洁完成判定功能部，前述清洁完成判定功能部用于清洁完成判定功能，前述清洁完成判定功能判定前述清洁的完成，基于前述堆积检测功能部的检测结果，前述清洁完成判定功能部输出表示前述清洁的完成的清洁完成信号。3.如权利要求2所述的真空泵，其特征在于，前述清洁完成判定功能部基于前述堆积检测功能部的检测结果和能够改变的阈值进行前述清洁的完成的判定。4.如权利要求1至3中任一项所述的真空泵，其特征在于，前述堆积检测功能部具备投光部和受光部，前述投光部被朝向排出气体的流路地配置，前述受光部隔着前述流路与前述投光部相向，接受从前述投光部投射...
【专利技术属性】
技术研发人员：桦泽刚志，
申请(专利权)人：埃地沃兹日本有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。